[發明專利]半導體晶圓運送系統無效
| 申請號: | 201110286931.9 | 申請日: | 2011-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN102332418A | 公開(公告)日: | 2012-01-25 |
| 發明(設計)人: | 趙宏宇;吳儀 | 申請(專利權)人: | 北京七星華創電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 王瑩 |
| 地址: | 100016 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 運送 系統 | ||
1.一種半導體晶圓運送系統,其特征在于,包括:至少兩個晶圓裝載埠(1)、至少兩個工藝單元(2)和運送裝置(3);其中,
所述晶圓裝載埠(1),用于承載晶圓倉儲盒(4);
所述工藝單元(2),包括至少兩層的層狀結構;
所述運送裝置(3),用于拾取晶圓并將其放入所述工藝單元(2)中。
2.如權利要求1所述的半導體晶圓運送系統,其特征在于,所述運送裝置(3),包括:至少一個機械手(5)和至少一個導軌(6),所述機械手(5),用于通過沿所述導軌(6)運動拾取晶圓。
3.如權利要求2所述的半導體晶圓運送系統,其特征在于,所述導軌(6)水平布置,且其軌道的形狀與所述晶圓裝載埠(1)的排列方式相適應。
4.如權利要求2所述的半導體晶圓運送系統,其特征在于,所述機械手(5)為雙臂多自由度機械手。
5.如權利要求1或2所述的半導體晶圓運送系統,其特征在于,還包括:風循環過濾裝置(7),布置于所述運送裝置(3)和所述工藝單元(2)上方,用于確保達到半導體工藝的潔凈環境要求。
6.如權利要求5所述的半導體晶圓運送系統,其特征在于,所述風循環過濾裝置(7),包括至少兩層的層狀結構。
7.如權利要求5所述的半導體晶圓運送系統,其特征在于,所述風循環過濾裝置(7)為側進風或上進風。
8.如權利要求1所述的半導體晶圓運送系統,其特征在于,還包括:能源儲藏柜(8),包括工藝藥液,工藝氣體和電源動力,位于系統的后端或者底部。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





