[發(fā)明專利]反應(yīng)腔室蓋板及具有該蓋板的反應(yīng)腔室

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110285858.3
• 申請日: 2011-09-23
• 公開（公告）號(hào): CN102315145A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 昝威;吳儀;張曉紅;裴立坤
• 申請（專利權(quán)）人: 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

1.一種反應(yīng)腔室蓋板，其特征在于，包括：反應(yīng)腔室隔板(1)、傳片門板(4)、連桿機(jī)構(gòu)以及電機(jī)(9)；所述反應(yīng)腔室隔板(1)設(shè)于反應(yīng)腔室側(cè)面，并開有對應(yīng)于反應(yīng)腔室入口的方孔(2)；所述傳片門板(4)可在所述反應(yīng)腔室隔板(1)上運(yùn)動(dòng)；所述連桿機(jī)構(gòu)包括至少一根連桿；所述傳片門板(4)、連桿機(jī)構(gòu)、電機(jī)(9)依次連接，連桿機(jī)構(gòu)能夠在電機(jī)(9)的驅(qū)動(dòng)下帶動(dòng)傳片門板(4)運(yùn)動(dòng)，以將反應(yīng)腔室隔板上的方孔(2)打開或關(guān)閉。

2.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔室蓋板，其特征在于，所述反應(yīng)腔室隔板的方孔(2)兩側(cè)設(shè)有門板導(dǎo)軌(3)，傳片門板(4)兩側(cè)設(shè)有導(dǎo)軌滑塊(4)，傳片門板(4)通過導(dǎo)軌滑塊(4)在所述門板導(dǎo)軌(3)上運(yùn)動(dòng)。

3.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔室蓋板，其特征在于，所述門板導(dǎo)軌(3)的長度根據(jù)傳片門板(4)運(yùn)動(dòng)的距離而定。

4.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔室蓋板，其特征在于，所述傳片門板(4)的大小根據(jù)反應(yīng)腔室隔板的方孔(2)的尺寸而定。

5.如權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔室蓋板，其特征在于，該反應(yīng)腔室為半導(dǎo)體反應(yīng)腔室，通過機(jī)械手傳取晶片，所述方孔(2)的尺寸根據(jù)機(jī)械手的尺寸與晶片的尺寸而定。

6.如權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)所述的反應(yīng)腔室蓋板，其特征在于，所述連桿機(jī)構(gòu)為雙連桿機(jī)構(gòu)，包括第一連桿(6)和第二連桿(7)，傳片門板(4)與第一連桿(6)連接，第一連桿(6)與第二連桿(7)通過轉(zhuǎn)軸連接，并且兩根連桿可繞轉(zhuǎn)軸相對轉(zhuǎn)動(dòng)；第二連桿(7)與電機(jī)(9)連接，當(dāng)電機(jī)軸轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，可帶動(dòng)第二連桿(7)一起轉(zhuǎn)動(dòng)，從而帶動(dòng)傳片門板(4)在反應(yīng)腔室隔板(1)上移動(dòng)。

7.如權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)所述的反應(yīng)腔室蓋板，其特征在于，所述連桿機(jī)構(gòu)為四連桿機(jī)構(gòu)，包括兩根第一連桿(6)、第二連桿(7)和第三連桿(8)，傳片門板(4)與兩根相同的第一連桿(6)連接，這兩根第一連桿(6)與第三連桿(8)的兩端通過轉(zhuǎn)軸連接，并且兩根第一連桿(6)可繞轉(zhuǎn)軸與第三連桿(8)相對轉(zhuǎn)動(dòng)；第二連桿(7)與第三連桿(8)通過第三連桿(8)中間的轉(zhuǎn)軸連接，通過轉(zhuǎn)軸，第二連桿(7)和第三連桿(8)可相對轉(zhuǎn)動(dòng)；第二連桿(7)與電機(jī)(9)連接，當(dāng)電機(jī)軸轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，可帶動(dòng)第二連桿(7)一起轉(zhuǎn)動(dòng)，第二連桿(7)、第三連桿(8)和兩根第一連桿(6)組成連桿機(jī)構(gòu)，從而帶動(dòng)傳片門板(4)在反應(yīng)腔室隔板(1)上移動(dòng)。

8.一種具有權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述的反應(yīng)腔室蓋板的反應(yīng)腔室，其特征在于，還包括：腔體，所述反應(yīng)腔室蓋板用于將腔室所處環(huán)境與外界環(huán)境隔離開來。

9.如權(quán)利要求8所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，該反應(yīng)腔室為半導(dǎo)體反應(yīng)腔室。