[發明專利]一種管道中低濃度漿體脫水處理裝置及其處理方法

有效

• 申請號: 201110281223.6
• 申請日: 2011-09-21
• 公開（公告）號: CN102380233A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發明（設計）人: 普光躍;潘春雷;胡國慶;張洪瑜;張賢照
• 申請（專利權）人: 云南大紅山管道有限公司
• 主分類號: B01D21/00
• 分類號: B01D21/00
• 代理公司: 北京五月天專利商標代理有限公司 11294
• 代理人: 張金熹

1.一種管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：包括低濃度礦漿進入管道（1）、漿體流動沉淀裝置（4）、漿體攪拌槽（13）以及水池（14），所述漿體流動沉淀裝置（4）的輸入端與所述低濃度礦漿進入管道（1）連接，所述漿體流動沉淀裝置（4）的兩個輸出端分別與所述漿體攪拌槽（13）和所述水池（14）連接，其中與所述漿體攪拌槽（13）連接的輸出端位于所述漿體攪拌槽（13）的底部；所述漿體攪拌槽（13）輸出端通過底流泵（11）與主運輸管道連接；所述漿體流動沉淀裝置（4）腔體的徑向橫切面積大于所述低濃度礦漿進入管道（1）的徑向橫切面積。

2.根據權利要求1所述管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：在所述底流泵（11）的輸出端與所述漿體流動沉淀裝置（4）之間還設有循環沉淀管道（3），在所述循環沉淀管道（3）上還設有底流泵第二出口閥門（9）。

3.根據權利要求2所述管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：所述底流泵（11）的輸入端和輸出端分別連接有底流泵入口閥門（12）和底流泵第一出口閥門（10），其中所述循環沉淀管道（3）連接的位置位于所述底流泵（11）與所述底流泵第一出口閥門（10）之間的管道上。

4.根據權利要求1至3任何一項所述管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：所述漿體流動沉淀裝置（4）的一個輸出端通過進入漿體攪拌槽管道（6）與所述漿體攪拌槽（13）連通，在所述進入漿體攪拌槽管道（6）上還設有進入攪拌槽調節閥門（5）。

5.根據權利要求1至4中任何一項所述管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：所述漿體流動沉淀裝置（4）的另一個輸出端通過進入水池管道（8）與所述水池（14）連通，在所述進入水池管道（8）上設有進入水池調節閥門（7）。

6.一種管道中低濃度漿體脫水處理方法，包括以下步驟：

步驟1：低濃度礦漿進入到漿體流動沉淀裝置（4）中，由于所述漿體流動沉淀裝置（4）腔體的徑向橫切面積大于低濃度礦漿進入管道（1）的徑向橫切面積，漿體流動沉淀裝置（4）中的低濃度漿體流速大大降低，并且最終使得低濃度礦漿進行部分沉淀和分層；

步驟2：漿體流動沉淀裝置（4）下部沉淀下來濃度較高的漿體通過進入攪拌槽調節閥門（5）和進入漿體攪拌槽管道（6）進入漿體攪拌槽（13）中，并最終通過底流泵（11）輸送至主運輸管道中。

7.根據權利要求6所述管道中低濃度漿體脫水處理方法，其特征在：當漿體攪拌槽（13）中的漿體濃度仍然不符合直接輸送主運輸管道的標準時，打開底流泵第二出口閥門（9）和關閉底流泵第一出口閥門（10），底流泵（11）將未達標的礦漿通過循環沉淀管道（3）輸送至漿體流動沉淀裝置（4）進行再次沉淀和分層，直至漿體攪拌槽（13）中的漿體濃度符合輸送標準。