[發(fā)明專利]一種管道中低濃度漿體脫水處理裝置及其處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110281223.6
• 申請(qǐng)日: 2011-09-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102380233A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-03-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 普光躍;潘春雷;胡國(guó)慶;張洪瑜;張賢照
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 云南大紅山管道有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B01D21/00
• 分類(lèi)號(hào): B01D21/00
• 代理公司: 北京五月天專利商標(biāo)代理有限公司 11294
• 代理人: 張金熹

1.一種管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：包括低濃度礦漿進(jìn)入管道（1）、漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）、漿體攪拌槽（13）以及水池（14），所述漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）的輸入端與所述低濃度礦漿進(jìn)入管道（1）連接，所述漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）的兩個(gè)輸出端分別與所述漿體攪拌槽（13）和所述水池（14）連接，其中與所述漿體攪拌槽（13）連接的輸出端位于所述漿體攪拌槽（13）的底部；所述漿體攪拌槽（13）輸出端通過(guò)底流泵（11）與主運(yùn)輸管道連接；所述漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）腔體的徑向橫切面積大于所述低濃度礦漿進(jìn)入管道（1）的徑向橫切面積。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：在所述底流泵（11）的輸出端與所述漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）之間還設(shè)有循環(huán)沉淀管道（3），在所述循環(huán)沉淀管道（3）上還設(shè)有底流泵第二出口閥門(mén)（9）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：所述底流泵（11）的輸入端和輸出端分別連接有底流泵入口閥門(mén)（12）和底流泵第一出口閥門(mén)（10），其中所述循環(huán)沉淀管道（3）連接的位置位于所述底流泵（11）與所述底流泵第一出口閥門(mén)（10）之間的管道上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任何一項(xiàng)所述管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：所述漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）的一個(gè)輸出端通過(guò)進(jìn)入漿體攪拌槽管道（6）與所述漿體攪拌槽（13）連通，在所述進(jìn)入漿體攪拌槽管道（6）上還設(shè)有進(jìn)入攪拌槽調(diào)節(jié)閥門(mén)（5）。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任何一項(xiàng)所述管道中低濃度漿體脫水處理裝置，其特征在于：所述漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）的另一個(gè)輸出端通過(guò)進(jìn)入水池管道（8）與所述水池（14）連通，在所述進(jìn)入水池管道（8）上設(shè)有進(jìn)入水池調(diào)節(jié)閥門(mén)（7）。

6.一種管道中低濃度漿體脫水處理方法，包括以下步驟：

步驟1：低濃度礦漿進(jìn)入到漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）中，由于所述漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）腔體的徑向橫切面積大于低濃度礦漿進(jìn)入管道（1）的徑向橫切面積，漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）中的低濃度漿體流速大大降低，并且最終使得低濃度礦漿進(jìn)行部分沉淀和分層；

步驟2：漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）下部沉淀下來(lái)濃度較高的漿體通過(guò)進(jìn)入攪拌槽調(diào)節(jié)閥門(mén)（5）和進(jìn)入漿體攪拌槽管道（6）進(jìn)入漿體攪拌槽（13）中，并最終通過(guò)底流泵（11）輸送至主運(yùn)輸管道中。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述管道中低濃度漿體脫水處理方法，其特征在：當(dāng)漿體攪拌槽（13）中的漿體濃度仍然不符合直接輸送主運(yùn)輸管道的標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，打開(kāi)底流泵第二出口閥門(mén)（9）和關(guān)閉底流泵第一出口閥門(mén)（10），底流泵（11）將未達(dá)標(biāo)的礦漿通過(guò)循環(huán)沉淀管道（3）輸送至漿體流動(dòng)沉淀裝置（4）進(jìn)行再次沉淀和分層，直至漿體攪拌槽（13）中的漿體濃度符合輸送標(biāo)準(zhǔn)。