[發明專利]用于監控排氣后處理系統中的還原劑噴射系統的方法和裝置

有效

• 申請號: 201110279394.5
• 申請日: 2011-09-20
• 公開（公告）號: CN102410071A
• 公開（公告）日: 2012-04-11
• 發明（設計）人: Y-Y.王;S.P.萊維喬基
• 申請（專利權）人: 通用汽車環球科技運作有限責任公司
• 主分類號: F01N11/00
• 分類號: F01N11/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 薛峰

1.一種用于監控還原劑噴射系統的還原劑噴射器的方法，所述還原劑噴射器構造成向選擇性催化還原裝置上游的內燃機排氣進給流中配送還原劑，所述方法包括：

產生與規定還原劑流量相對應的噴射器脈寬指令；

監控所述噴射器脈寬指令；

校驗所述規定還原劑流量對應于所述噴射器脈寬指令；

監控所述還原劑噴射系統中的流體壓力；

估計與所述噴射器脈寬指令相對應的還原劑第一噴射量；

估計與所述還原劑噴射系統中的流體壓力相對應的還原劑第二噴射量；以及

比較還原劑的第一和第二噴射量。

2.如權利要求1所述的方法，還包括，當所述還原劑的第一和第二噴射量之間的差值超過閾值時，檢測與所述還原劑噴射器相關聯的故障。

3.如權利要求1所述的方法，其中，估計與所述噴射器脈寬指令相對應的所述還原劑第一噴射量包括：

計算所述噴射器脈寬指令的移動平均值；

積分所述噴射器脈寬指令的所述移動平均值；以及

根據所述噴射器脈寬指令的所述積分移動平均值估計所述還原劑第一噴射量。

4.如權利要求3所述的方法，其中，根據所述噴射器脈寬指令的所述積分移動平均值估計所述還原劑第一噴射量包括根據下列關系使用還原劑流量???????????????????????????????????????????????與所述噴射器脈寬指令之間的物理關系估計所述還原劑第一噴射量：

其中，f_AREA（PWM）是對應于所述噴射器脈寬指令的所述還原劑噴射器的噴嘴的等量有效開口面積，

????P是還原劑噴射系統中的流體壓力，

????T₀是還原劑的溫度，

????P_st是插有還原劑噴射器的排氣管內的排氣壓力，以及

????R是理想氣體常數。

5.如權利要求1所述的方法，其中，估計與所述還原劑噴射系統中的所述流體壓力相對應的所述還原劑第二噴射量包括：

分析所述還原劑噴射系統中的所述流體壓力的變化；以及

估計與所述還原劑噴射系統中的所述流體壓力的所述變化大小相對應的所述還原劑第二噴射量。

6.如權利要求1所述的方法，其中，校驗所述規定還原劑流量對應于所述噴射器脈寬指令包括計算期望還原劑流量，所述期望還原劑流量對應于：與所述噴射器脈寬指令相對應的所述還原劑噴射器的噴嘴的等量有效開口面積、所述還原劑噴射系統中的流體壓力、所述還原劑的溫度。

7.如權利要求6所述的方法，其中，校驗所述規定還原劑流量對應于所述噴射器脈寬指令還包括計算所述規定還原劑流量的積分與所述還原劑噴射器的噴嘴的所述等量有效開口面積的相一致的積分之間的比值。

8.如權利要求1所述的方法，其中，校驗所述規定還原劑流量對應于所述噴射器脈寬指令包括計算對應于所述噴射器脈寬指令的所述還原劑噴射器的噴嘴的等量有效開口面積與所述規定還原劑流量之間的統計相關性。