[發(fā)明專利]磁水分離型平面磁控濺射靶

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110276844.5
• 申請日: 2011-09-19
• 公開（公告）號: CN102330061A
• 公開（公告）日: 2012-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李云輝;李云松;華冬輝
• 申請（專利權(quán)）人: 衡陽市真空機(jī)電設(shè)備有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 衡陽市科航專利事務(wù)所 43101
• 代理人: 楊代禎

1.一種磁水分離型平面磁控濺射靶，包括冷卻進(jìn)水管、冷卻出水管、導(dǎo)磁板、陰極體、靶材壓環(huán)、螺釘、靶材、中心極靴、中心永磁塊、邊極靴、邊永磁塊和下密封圈，導(dǎo)磁板上有冷卻進(jìn)水管和冷卻出水管通過的通孔，其位于陰極體的上面，靶材壓環(huán)和靶材位于陰極體的下面，導(dǎo)磁板、陰極體和靶材壓環(huán)通過螺釘固定，下密封圈位于陰極體與靶材之間，陰極體上還有冷卻進(jìn)水管和冷卻出水管通過的通孔，其特征是陰極體上有矩形槽，其中心有盲孔，冷卻進(jìn)水管和冷卻出水管向上穿過導(dǎo)磁板和陰極體上的通孔，并用水管密封圈與陰極體形成密封，中心極靴和中心永磁塊位于盲孔內(nèi)，邊極靴和邊永磁塊位于矩形槽內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁水分離型平面磁控濺射靶，其特征是導(dǎo)磁板、陰極體、靶材壓環(huán)和靶材均為長方形，陰極體上的矩形槽為長方形，其中心的矩形槽為長條形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁水分離型平面磁控濺射靶，其特征是導(dǎo)磁板、陰極體、靶材壓環(huán)和靶材均為圓形，陰極體上的矩形槽為圓環(huán)形，其中心盲孔為圓形。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁水分離型平面磁控濺射靶，其特征是圓環(huán)形矩形槽的圓心與圓形盲孔的圓心重合。