[發明專利]一種薄殼山核桃組織培養繁殖方法

無效

• 申請號: 201110272322.8
• 申請日: 2011-09-15
• 公開（公告）號: CN102388806A
• 公開（公告）日: 2012-03-28
• 發明（設計）人: 董筱昀;蔣澤平;黃利斌;竇全琴;張敏;蔣春
• 申請（專利權）人: 江蘇省林業科學研究院
• 主分類號: A01H4/00
• 分類號: A01H4/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種植物組織培養繁殖方法，具體地說，是涉及一種薄殼山核桃的組織培養繁殖方法。

背景技術

薄殼山核桃[Carya?illinoinensis(Wangehn.)K.Koch]原產于北美東部，為胡桃科山核桃屬落葉喬木，對土壤酸堿度的適應范圍比較大，在土層深厚、疏松、富含腐殖質的沖積平原或河谷地帶生長迅速、長勢良好。20世紀初引入我國，至今已有百年的歷史，引種范圍廣泛，北至北京，南至海南島，東至福建，西至成都；早年引種到江蘇省的山核桃現在長勢良好，已經進入穩產期。薄殼山核桃樹體高大雄偉，樹姿優美，是庭院美化和城市綠化的優良樹種；其木材結構細密，且堅固強韌，是雕刻和制作高檔家具和工藝品的上等用材，也是優良的軍工用材；其果實為世界著名的高檔干果、油料原料，殼薄易剝，味香甜，是理想的保健品和食品添加劑。

薄殼山核桃傳統繁殖方法是采用種子播種繁殖，但薄殼山核桃種子價格昂貴，平均每公斤只有100多粒，導致種子繁殖成本高；扦插繁殖需要良種提供數量巨大的插條，繁殖材料受到很大的局限；嫁接繁殖需要大量砧木且技術要求高、人工成本高。上述幾種傳統的繁殖方式，都需要大量的繁殖材料且很難在短期內獲得大量優質種苗。利用組織方法培養繁育薄殼山核桃苗，只需要少量的帶芽莖段為外植體，且擴繁速度快，成本低，在短時間內能提供大量優質的山核桃幼苗。現有技術中，傅玉蘭等僅在外植體消毒、獲得無菌材料方面取得一些進展，沒有進一步開展增殖、壯苗、生根等關鍵技術的研究。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本發明的目的在于提供一種繁殖速度快、種苗質量好的薄殼山核桃組織培養繁殖方法。

本發明是通過以下技術方案來實現的：

一種薄殼山核桃組織培養繁殖方法，包括以下步驟：

(1)選材及消毒處理：采用由薄殼山核桃種子繁育的優良實生幼苗為接種材料，取離根部10厘米以上的莖段為外植體，然后將選取的外植體剪切成3-4cm左右長的小段，經70％酒精消毒30秒，再用濃度為0.1％的升汞溶液消毒6～8分鐘，最后用無菌水沖洗3～5次；

(2)試管芽苗培養：在超凈的工作臺上及無菌條件下，將步驟(1)中消毒后的外植體剪去接觸消毒液的傷口，留1～2cm帶芽莖段接種在經消毒的含有啟動培養基的玻璃培養瓶中，然后將其置于普通日光燈為光源的環境下，其中光照強度為1000～1500lx，每日光照時間為14小時，溫度為25～28℃，濕度為50％～65％，培養25天，分化長成試管芽苗；

(3)增殖培養：將從步驟(2)中長成的試管芽苗，剪切帶有1-2個腋芽的節段或頂芽后，在超凈的工作臺上及無菌條件下，轉接于經消毒的含有增殖培養基的玻璃培養瓶中，然后將其置于普通日光燈為光源的環境下，在光照強度為1000～1500lx，每日光照時間為14小時，溫度為25～28℃，濕度為50％～65％的條件下，對芽苗進行增殖培養，增殖系數為3.25～3.98，使其不斷增殖，直至達到所需要的繁殖生產規模；

(4)壯苗培養：將步驟(3)中增殖后的試管芽苗，剪切帶有1-2個腋芽的節段或頂芽后，在超凈的工作臺上及無菌條件下，接種于經消毒的含有壯苗培養基的玻璃培養瓶中，在光照強度為1000～1500lx，每日光照時間為14小時，溫度為25～28℃，濕度為50％～65％的條件下，進行壯苗培養，25天后進入下一步驟；

(5)生根培養：將步驟(4)中經過壯苗培養后的試管壯苗，去掉基部組織和部分葉片，留3～4片葉片，在超凈的工作臺上及無菌條件下，接種于經消毒的含有生根處理產生根原基培養基的玻璃培養瓶中，在光照強度為1000～1500lx，每日光照時間為14小時，溫度為25～28℃，濕度為50％～65％的條件下，進行生根培養8～15天；生根率在90％～95％；

(6)移栽、成活：將步驟(5)中經生根培養的帶有直根小苗，取出清洗，移栽到含有泥炭和黃心土的基質中，其中泥炭與黃心土的體積比為1∶1，然后澆透水，保持溫度25～30℃，相對濕度85％以上，先閉光培養10天，后逐漸見光，在培養40～45天后，進行全光照；移栽成活率在80％～85％。

所述的啟動培養基為：每升基本培養基+3.0～4.0mg?6-芐基嘌呤+0.01～0.05mg吲哚丁酸+1000～2000mg活性炭；

所述的增殖培養基為：每升基本培養基+2.0～3.0mg?6-芐基嘌呤+0.05～0.1mg吲哚丁酸+1000～2000mg活性炭；