[發明專利]一種大視場投影物鏡

有效

• 申請號: 201110264064.9
• 申請日: 2011-09-07
• 公開（公告）號: CN102981255A
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發明（設計）人: 武珩;黃玲
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G02B17/08
• 分類號: G02B17/08;G02B13/00;G02B1/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

技術領域

本發明涉及半導體制造技術領域，具體地，涉及一種應用于半導體光刻裝置的單倍放大倍率大視場投影物鏡。

背景技術

目前在半導體或液晶平板(FPDs)加工領域，單個純透射系統的最大視場，受高均勻性的玻璃材料尺寸的限制很難做大，折返射或全反射系統在這方面的優勢凸現出來。而且多個此類折返射或全反射鏡頭的拼接組合，就可以實現更大的曝光視場。

美國專利US2004/0263429A1介紹了一種平板顯示(FPDs)用投影物鏡，主要由一片反射主鏡(可分為兩部分)，一片反射次鏡構成。專利的一個實施例中還包含兩塊玻璃平板，可以形成環狀視場高度大于550mm，寬度大于10mm，放大倍率為-1倍，且其中大部分光焦度由兩片反射鏡承擔，其加工的難度主要體現在大尺寸反射主鏡上，使用這種結構反射主鏡的口徑要接近環狀視場高度的3倍，即使反射主鏡分為兩部分制造，其口徑也達到環狀視場高度的1.5倍左右。

上述背景專利視場的增大僅僅依賴于反射鏡尺寸的增大，即受加工制造能力的限制較大。而且隨著物面尺寸的不斷增大，物面自身的重力變形不可忽視，必須加以校正。

發明內容

本發明的目的在于提供一種投影物鏡設計，降低對單個反射鏡尺寸的需求，消除物面重力變形的影響，同時獲得更大的曝光視場。

本發明一種大視場投影物鏡，其特征在于投影物鏡光學系統沿物面依次包括：由第一凹面反射鏡和第一凸面反射鏡組成的第一折返光路，一前透鏡組，一中間像面，一后透鏡組，以及由第二凸面反射鏡和第二凹面反射鏡組成的第二折返光路。

其中，所述投影物鏡光學系統整體放大倍率為+1倍。

較優地，所述前透鏡組和后透鏡組相對所述中間像面對稱設置，至少包含一個正透鏡，一個負透鏡。

其中，所述前、后透鏡組中的正透鏡使用高色散材料，負透鏡使用低色散材料，所述高色散材料的阿貝數小于45的材料，所述低色散材料的阿貝數大于65的材料。

其中，通過改變所述前、后透鏡組中正負透鏡的間隔改變光學系統的放大倍率。

其中，所述凹面反射鏡的口徑大于凸面反射鏡的口徑。

其中，所述投影物鏡形成視場的長邊與短邊的比小于10。

其中，所述光學系統中光學元件為共軸設置，或不共軸設置。

本發明實現了正1x放大倍率設計，滿足了多個鏡頭成像視場的拼接需求。同時降低了對單個反射鏡尺寸的需求，獲得更大的曝光視場。

附圖說明

關于本發明的優點與精神可以通過以下的發明詳述及所附圖式得到進一步的了解。

圖1為本發明投影物鏡第一實施例光學系統結構圖；

圖2為本發明投影物鏡第二實施例光學系統結構圖；

圖3為本發明投影物鏡第三實施例光學系統結構圖。

具體實施方式

下面結合附圖詳細說明本發明的具體實施例。

實施例1

本發明投影物鏡第一實施例光學系統10結構如圖1所示。在這個實施例中，物面及像面與光路在同一個軸向上。光學系統10的各參數要求如表1所示。

表1

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