[發明專利]一種發射極上黑硅結構的太陽能電池及其制備方法有效
| 申請號: | 201110263591.8 | 申請日: | 2011-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN102306664A | 公開(公告)日: | 2012-01-04 |
| 發明(設計)人: | 夏洋;劉邦武;沈澤南;李超波;劉杰;李勇滔 | 申請(專利權)人: | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/18 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 發射極 上黑硅 結構 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
技術領域
?本發明涉及太陽能電池器件制造技術領域,特別涉及一種發射極上黑硅結構的太陽能電池及其制備方法。
背景技術
地球上不可再生能源的不斷減少,使得能源價格日益上漲,國家之間的能源爭奪不斷加劇,迫切需要開發出可再生的新能源。太陽能作為一種資源豐富,綠色環保的可再生能源,將在未來新能源中起到主體供應地位。太陽能電池作為一種有效利用太陽能光能的器件,為太陽能的利用提供了一種有效的解決方案。因此,高效、低成本的太陽能電池將成為太陽能電池探索研究的方向。
目前,研究高效太陽能電池的一個方式是在硅片表面制備陷光結構,黑硅結構作為其中一種陷光方式能有效提高太陽光的吸收率,增加光生載流子數目,然而由于表面陷光結構的粗糙度增大,導致表面復合速率增大,降低了電極收集到的電荷量。針對上述存在的缺陷,可以通過在黑硅表面沉積氮化硅得以解決,從而在一定程度上鈍化黑硅結構,獲得高的短路電流。但是,使用鈍化黑硅結構制備太陽能電池過程中,在磷擴散制備pn結時,由于黑硅表面的粗糙度使得pn結摻雜分布不均勻,降低了開路電壓,繼而降低了太陽能電池的效率。
發明內容
為了解決黑硅太陽能電池開路電壓低,pn結摻雜分布不均勻等問題,本發明提供了一種發射極上黑硅結構的太陽能電池,所述太陽能電池包括金屬柵線電極、鈍化層、發射極、黑硅層、硅襯底和金屬背電極;所述金屬背電極位于所述硅襯底的背面,所述發射極位于所述硅襯底上,所述黑硅層位于所述發射極上,所述鈍化層位于所述黑硅層上,所述金屬柵線電極位于所述鈍化層上。
所述硅襯底為p型單晶硅或多晶硅;所述發射極的摻雜類型為n型,所述發射極的結深為400-700nm。
所述硅襯底為n型單晶硅或多晶硅;所述發射極的摻雜類型為p型,所述發射極的結深為400-700nm。
所述金屬柵線電極為Ag線、Al線或者其合金線,用于正面電極的引出;所述金屬背電極由Al、Ag或者Cu金屬制成,用于背面電極的引出。
所述黑硅層為多孔狀或針尖狀黑硅結構;所述多孔狀黑硅結構的孔深為100-200nm,所述針尖狀黑硅結構的針尖高度為100-200nm。
所述鈍化層為SiO2層或者SiNx層。
本發明還提供了一種發射極上黑硅結構的太陽能電池的制備方法,所述方法包括:
在硅襯底的背面制備金屬背電極;
在所述硅襯底表面制備發射極;
在所述發射極上制備黑硅層;
在所述黑硅層上制備鈍化層;
在所述鈍化層制備金屬柵線電極;
燒結所述硅襯底。
所述在硅襯底的背面制備金屬背電極的步驟具體為:在硅襯底的背面通過絲網印刷制備金屬背電極。
所述在所述鈍化層制備金屬柵線電極的步驟具體為:在所述鈍化層通過絲網印刷制備金屬柵線電極。
所述在所述黑硅層上制備鈍化層的步驟具體為:在所述黑硅層通過高溫熱氧化或者PECVD沉積生長方式制備鈍化層。
本發明提供的太陽能電池通過在硅襯底上先摻雜制備發射極,可形成摻雜均勻的pn結,提高了開路電壓;本發明提供的太陽能電池的黑硅結構尺寸相對較小,減少了表面粗糙度,降低了表面復合率,進而提高了短波量子效率。
附圖說明
圖1是本發明實施例發射極上黑硅結構的太陽能電池的結構示意圖;
圖2是本發明實施例發射極上黑硅結構的太陽能電池量子效率圖;
圖3是本發明實施例發射極上黑硅結構的太陽能電池的制備方法流程圖。
具體實施方式
為了深入了解本發明,下面結合附圖及具體實施例對本發明進行詳細說明。
參見圖1,本發明實施例提供了一種發射極上黑硅結構的太陽能電池,該太陽能電池包括金屬柵線電極1、鈍化層2、發射極3、黑硅層6、硅襯底4和金屬背電極5。其中,金屬背電極5位于硅襯底4的背面,發射極3位于硅襯底4上,黑硅層6位于發射極3上,鈍化層2位于黑硅層6上,金屬柵線電極1位于鈍化層2上。
硅襯底4可以為p型單晶硅或多晶硅,發射極3的摻雜類型為n型;或者,硅襯底4可以為n型單晶硅或多晶硅,發射極3的摻雜類型為p型。在實際應用中,發射極3可以通過高溫擴散或者離子注入的方式形成,?發射極3的摻雜濃度高,結深在400-700nm,以便于在發射極3上制備出黑硅結構。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





