[發明專利]一種發射極上黑硅結構的太陽能電池及其制備方法有效
| 申請號: | 201110263591.8 | 申請日: | 2011-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN102306664A | 公開(公告)日: | 2012-01-04 |
| 發明(設計)人: | 夏洋;劉邦武;沈澤南;李超波;劉杰;李勇滔 | 申請(專利權)人: | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京市德權律師事務所 11302 | 代理人: | 劉麗君 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 發射極 上黑硅 結構 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種發射極上黑硅結構的太陽能電池,其特征在于,所述太陽能電池包括金屬柵線電極、鈍化層、發射極、黑硅層、硅襯底和金屬背電極;所述金屬背電極位于所述硅襯底的背面,所述發射極位于所述硅襯底上,所述黑硅層位于所述發射極上,所述鈍化層位于所述黑硅層上,所述金屬柵線電極位于所述鈍化層上。
2.如權利要求1所述的發射極上黑硅結構的太陽能電池,其特征在于,所述硅襯底為p型單晶硅或多晶硅;所述發射極的摻雜類型為n型,所述發射極的結深為400-700nm。
3.如權利要求1所述的發射極上黑硅結構的太陽能電池,其特征在于,所述硅襯底為n型單晶硅或多晶硅;所述發射極的摻雜類型為p型,所述發射極的結深為400-700nm。
4.如權利要求1所述的發射極上黑硅結構的太陽能電池,其特征在于,所述金屬柵線電極為Ag線、Al線或者其合金線,用于正面電極的引出;所述金屬背電極由Al、Ag或者Cu金屬制成,用于背面電極的引出。
5.如權利要求1所述的發射極上黑硅結構的太陽能電池,其特征在于,所述黑硅層為多孔狀或針尖狀黑硅結構;所述多孔狀黑硅結構的孔深為100-200nm,所述針尖狀黑硅結構的針尖高度為100-200nm。
6.如權利要求1所述的發射極上黑硅結構的太陽能電池,其特征在于,所述鈍化層為SiO2層或者SiNx層。
7.一種發射極上黑硅結構的太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述方法包括:
在硅襯底的背面制備金屬背電極;
在所述硅襯底表面制備發射極;
在所述發射極上制備黑硅層;
在所述黑硅層上制備鈍化層;
在所述鈍化層制備金屬柵線電極;
燒結所述硅襯底。
8.如權利要求7所述的發射極上黑硅結構的太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述在硅襯底的背面制備金屬背電極的步驟具體為:在硅襯底的背面通過絲網印刷制備金屬背電極。
9.如權利要求7所述的發射極上黑硅結構的太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述在所述鈍化層制備金屬柵線電極的步驟具體為:在所述鈍化層通過絲網印刷制備金屬柵線電極。
10.如權利要求7所述的發射極上黑硅結構的太陽能電池的制備方法,其特征在于,所述在所述黑硅層上制備鈍化層的步驟具體為:在所述黑硅層通過高溫熱氧化或者PECVD沉積生長方式制備鈍化層。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





