[發明專利]功能性膜的制造方法無效
| 申請號: | 201110254003.4 | 申請日: | 2011-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN102383091A | 公開(公告)日: | 2012-03-21 |
| 發明(設計)人: | 小野寺大輔 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/00 | 分類號: | C23C14/00;C23C14/56 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 功能 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及在真空中對基材膜進行成膜,與保護膜層疊,并將該層疊體卷繞成筒狀的功能性膜的制造方法。
背景技術
目前,在基材的表面形成阻氣膜、光反射膜、防光反射膜、表面保護膜等顯示目標功能的膜而成的功能性膜被利用于各種用途中。另外,作為這樣的功能膜,已知有各種無機膜(由無機化合物形成的膜)。
例如,就阻氣膜而言,已知的是在基材膜(以下簡稱為基材)上形成有氮化硅膜、氧化硅膜的阻氣膜。
在這樣的功能性膜的制造中,可利用等離子CVD、濺射、真空蒸鍍等氣相生長法形成用于顯示功能的無機膜。
另外,作為連續地形成這樣的無機膜來以高生產性、生產效率制造功能性膜的方法,已知有利用所謂的輥至輥(Roll?to?Roll以下也稱為RtoR)進行成膜的裝置。RtoR中,從卷繞成筒狀而成的基材卷送出長條狀的基材,邊沿長度方向輸送,邊進行阻氣膜的成膜等,再次將完成成膜后的基材卷繞成筒狀,由此在長條狀的基板連續地進行成膜,并能夠以高生產性實現制造。
這樣的功能性膜的制造中,因由輸送輥對進行的輸送或者與其他的構件的接觸等使無機膜受損傷時,有可能無法制造具有目標性能的功能性膜。
尤其利用前述的RtoR進行的裝置中,用于輸送長條狀的基材的輸送輥對,有可能會使無機膜受損傷。另外,由RtoR進行的裝置中,因完成成膜后的基材的卷繞,使無機膜的表面與基材的背面滑動接觸,所以由于成膜的無機膜的強度、基材背面的表面粗糙度等,有時會使無機膜受損傷。
進而,為了制造高品質的制品,無機膜的表面最好盡量保持潔凈。
因此,阻氣膜等的功能性膜的制造中,如專利文獻1所示,為了保護成膜后的阻氣膜等,在基材上使無機膜成膜后,在成膜的無機膜的表面層疊/粘貼保護膜,來保護無機膜。
利用這樣的保護膜的功能性膜的制造中,保護膜的目的歸根到底是保護制造過程中的無機膜。
因此,在該功能性膜成為最終制品的階段,保護膜被剝離。或者使無機膜成膜后的功能性膜(最終制品的中間體)在剝離了保護膜后,供于表面處理、或供于進一步對上層進行無機膜的成膜等接下來的工序中的處理。
例如,所述專利文獻1記載的RtoR的裝置中,在實施了基于真空蒸鍍的成膜后,在基材上層疊保護膜并進行輸送,在即將卷繞基材前,剝離保護膜,進行基材的卷繞。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開平1-185836號公報
發明內容
發明想要解決的問題
不過,這樣的功能性膜的制造中,盡管不使用保護膜時能夠制作具有目標性能的制品,但使用保護膜且進行卷繞時,有時不能制造具有目標性能的制品。
即,在基材上使無機膜成膜后,未層疊保護膜,另外,即便層疊保護膜也不進行卷繞時,如果在不與無機膜接觸的情況下輸送或處理,則多數情況下可以得到沒有任何問題的良好的制品。
與此相對,真空中,在完全同樣的基材上使相同的無機膜成膜,層疊保護膜并進行層疊體的卷繞時,有時會使無機膜受損傷,且由于該無機膜的損傷而功能性膜無法發揮目標性能。
本發明的目的在于解決所述以往技術問題,即在于提供能很好地防止對無機膜的損傷并穩定地制造發揮目標性能的功能性膜的功能性膜的制造方法,所述制造方法中,在真空中,在基材膜上形成顯示目標功能的無機膜,層疊用于保護無機膜的保護膜,并將該層疊體卷繞成筒狀。
用于解決問題的方法
為了實現所述目的,本發明的功能性膜的制造方法的特征在于,在真空中邊將長條狀的基材膜沿長度方向輸送,邊利用氣相生長法在所述基材膜的表面使無機膜成膜,并對所述無機膜進行加熱處理后,將保護膜抵接在所述無機膜上進行層疊,且將該基材膜與保護膜的層疊體卷繞成筒狀。
這樣的本發明的功能性膜的制造方法中,以使所述無機膜成膜時的基材膜的溫度作為基準溫度,優選以所述基材膜的溫度比該基準溫度低5℃的溫度以上的方式進行所述無機膜的加熱處理。
另外,優選以所述基材膜的最高溫度低于該基材膜上產生褶皺的溫度的方式進行所述無機膜的加熱處理。
進而,優選以使所述基材膜的溫度在設定的目標溫度以上保持1秒以上的方式,進行所述無機膜的加熱處理。
另外,在所述無機膜的加熱處理后,且在將所述保護膜與無機膜抵接而進行層疊之前,優選對所述基材膜進行冷卻。
另外,所述無機膜優選為具有阻氣性的膜,所述具有阻氣性的膜特別優選為氮化硅膜、氧化硅膜、氧化鋁膜中的任意一種。
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