[發明專利]功能性膜的制造方法

無效

• 申請號: 201110254003.4
• 申請日: 2011-08-31
• 公開（公告）號: CN102383091A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發明（設計）人: 小野寺大輔
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: C23C14/00
• 分類號: C23C14/00;C23C14/56
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 蔣亭

1.一種功能性膜的制造方法，其特征在于，

邊在真空中將長條狀的基材膜沿長度方向輸送，

邊通過氣相生長法在所述基材膜的表面形成無機膜，對所述無機膜進行加熱處理后，使保護膜與所述無機膜抵接而層疊，并將該基材膜與保護膜的層疊體卷繞成筒狀。

2.如權利要求1所述的功能性膜的制造方法，其中，進行所述無機膜的加熱處理，從而以形成所述無機膜時的基材膜的溫度為基準溫度，使所述基材膜的溫度在比該基準溫度低5℃的溫度以上。

3.如權利要求1或2所述的功能性膜的制造方法，其中，以使所述基材膜的最高溫度不達到該基材膜上產生褶皺的溫度以上的方式，進行所述無機膜的加熱處理。

4.如權利要求1或2所述的功能性膜的制造方法，其中，以使所述基材膜的溫度在設定的目標溫度以上保持1秒以上的方式，進行所述無機膜的加熱處理。

5.如權利要求1或2所述的功能性膜的制造方法，其中，在所述無機膜的加熱處理后，且在使所述保護膜與無機膜抵接而層疊前，對所述基材膜進行冷卻。

6.如權利要求1或2所述的功能性膜的制造方法，其中，所述無機膜為具有阻氣性的膜。

7.如權利要求6所述的功能性膜的制造方法，其中，所述具有阻氣性的膜為氮化硅膜、氧化硅膜、氧化鋁膜中的任意一種。

8.如權利要求1或2所述的功能性膜的制造方法，其中，進行所述基材膜與保護膜的層疊體的卷繞的空間的壓力，為所述無機膜的成膜空間的壓力以下。

9.如權利要求1或2所述的功能性膜的制造方法，其中，利用不與無機膜接觸的加熱機構進行所述無機膜的加熱處理。