[發明專利]曝光方法及裝置、維護方法、以及組件制造方法

無效

• 申請號: 201110251781.8
• 申請日: 2007-05-18
• 公開（公告）號: CN102298274A
• 公開（公告）日: 2011-12-28
• 發明（設計）人: 中野勝志
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 許海蘭

本申請是申請號為200780011033.4，申請日為2007年5月18日，發明名稱為“曝光方法及裝置、維護方法、以及組件制造方法”的發明專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及一種經由液體用曝光光束對襯底進行曝光的曝光技術、使用該曝光技術的曝光裝置的維護技術、及使用該曝光技術的組件制造技術。

背景技術

半導體組件及液晶顯示組件等微型組件(電子組件)，通過所謂光刻的方法，將形成于標線片等的掩膜上的圖案，轉印于涂布有抗蝕劑(感光材料)的晶片等的襯底上來制造。在該光刻過程中，為了將掩膜上的圖案經由投影光學系統而轉印于襯底上，使用步進重復方式的縮小投影型的曝光裝置(即步進機)及步進掃描方式的縮小投影型的曝光裝置(即掃描步進機)等的曝光裝置。

此種曝光裝置，伴隨半導體組件等的高集成化而產生的圖案微細化，為了響應逐年要求更高的解像度(解像力)，而進行曝光用光的短波長化及投影光學系統的數值孔徑(NA)的增大(大NA化)。然而，曝光用光的短波長化及大NA化，雖使投影光學系統的解像度提高，但是相反地，導致焦深的狹小化，如此焦深過窄，可能導致曝光動作時的聚焦裕度不足。

因此，開發出利用液浸法的曝光裝置，該方法實質性地縮短曝光波長，且使焦深比在空氣中增大(如參照專利文獻1)。該液浸法以水或有機溶劑等的液體填滿投影光學系統的下面與襯底表面之間，以形成液浸區域的狀態進行曝光。由此，利用液體中的曝光用光的波長為空氣中的1/n倍(n為液體的折射率，如1.2～1.6程度)，可提高解像度，并且可將焦深擴大約n倍。

[專利文獻1]國際公開第99/49504號小冊子

發明內容

如上述使用液浸法進行曝光處理時，在保持曝光對象的襯底而移動的襯底載臺上附著微細的雜質時，相對液浸區域而移動襯底載臺上時，其雜質可能混入液體中。如此混入液體中的雜質附著于襯底上時，可能在轉印的圖案上產生形狀不良等的瑕疵。

本發明鑒于這種情況，本發明的第一目的為提供以液浸法進行曝光時，可減少混入液體中的雜質量的曝光技術、維護技術及組件制造技術。本發明的第二目的為提供為了以液浸法進行曝光，可有效除去附著于液體接觸的構件(如襯底載臺等)的雜質的曝光技術、維護技術及組件制造技術。

本發明第一形態提供一種使襯底(P)曝光的曝光方法，其特征在于包括：在保持于襯底載臺(PH等)的上述襯底(P)上形成液浸區域(AR2)，用曝光用光經由上述液浸區域的液體來使上述襯底曝光；及在不進行上述襯底的曝光的期間，相對移動上述液浸區域與上述襯底載臺，以洗凈上述襯底載臺。

本發明第二形態提供一種經由光學構件(2)及液體(1)用曝光用光使襯底(P)曝光的曝光方法，其特征在于包括：將與液體接觸的可動構件(PH等)與上述光學構件對向配置；及將形成于上述光學構件與上述可動構件之間的洗凈用液體的液浸區域(AR2)與上述可動構件相對移動，以洗凈上述可動構件。

本發明第三形態提供一種經由液體(1)用曝光用光使襯底(P)曝光的曝光裝置(EX)，其特征在于包括：襯底載臺(PH等)，保持上述襯底(P)；液浸機構(10等)，對上述襯底(P)上供給液體以形成液浸區域(AR2)；及控制裝置(CONT等)，在不進行上述襯底的曝光的期間，為了洗凈上述襯底載臺而相對移動上述液浸區域與上述襯底載臺。

本發明第四形態提供一種經由光學構件(2)及液體(1)用曝光用光使襯底(P)曝光的曝光裝置(EX)，其特征在于包括：可動構件(PH等)，與上述光學構件相對配置，且與上述液體接觸；液浸機構(10等)，在上述光學構件與上述可動構件之間形成洗凈用液體的液浸區域(AR2)；及控制裝置(CONT等)，為了洗凈上述可動構件，而相對移動上述液浸區域與上述可動構件。

本發明第五形態提供一種曝光裝置的維護方法，上述曝光裝置在保持于襯底載臺(PH等)的襯底(P)上形成液浸區域(AR2)，用曝光用光經由上述液浸區域的液體使上述襯底曝光，所述維護方法的特征在于：與進行對上述液浸區域供給及回收液體的至少其中一方的液浸構件(30)對向配置上述襯底載臺；及在不進行上述襯底的曝光的期間，相對移動上述液浸區域與上述襯底載臺，來洗凈上述液浸構件及上述襯底載臺的至少一方。