[發明專利]曝光方法及裝置、維護方法、以及組件制造方法

無效

• 申請號: 201110251781.8
• 申請日: 2007-05-18
• 公開（公告）號: CN102298274A
• 公開（公告）日: 2011-12-28
• 發明（設計）人: 中野勝志
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 許海蘭

1.一種使襯底曝光的曝光方法，其特征在于包括：

在保持于襯底載臺的上述襯底上形成液浸區域，用曝光用光經由上述液浸區域的液體來使上述襯底曝光；及

在不進行上述襯底的曝光的期間，相對移動上述液浸區域與上述襯底載臺，以洗凈上述襯底載臺；

上述洗凈時，于上述襯底載臺的保持上述襯底的保持部載置有虛擬襯底；

上述虛擬襯底的端部為親液性，上述虛擬襯底的除了端部以外的上面部為疏液性。

2.根據權利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

使用規定的洗凈用液體形成上述液浸區域。

3.根據權利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于：

上述襯底載臺具有：平坦面，配置在上述保持部的周圍，且與用上述保持部保持的襯底的表面大致平行，

上述洗凈時，在上述平坦面上形成上述液浸區域的至少一部分的狀態下，相對移動上述液浸區域與上述襯底載臺。

4.根據權利要求3所述的曝光方法，其特征在于：

在上述洗凈時，上述保持部保持平板狀的上述虛擬襯底。

5.根據權利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于：

在上述洗凈時，保持部，其周圍的平坦面與上面被大致平行的上述虛擬襯底覆蓋。

6.根據權利要求5所述的曝光方法，其特征在于：

相對移動上述液浸區域與上述襯底載臺以使上述液浸區域的至少一部分實質上僅在上述虛擬襯底上移動。

7.根據權利要求1至6中的任一項所述的曝光方法，其特征在于：

相對移動上述液浸區域與上述襯底載臺以便在上述洗凈時在上述襯底載臺上的上述液浸區域的移動范圍的至少一部分與上述曝光時不同。

8.根據權利要求1至7中的任一項所述的曝光方法，其特征在于：

相對移動上述液浸區域與上述襯底載臺以使垂直于上述曝光用光的光軸的方向的速度及加速度的至少一方比在上述襯底曝光時大。

9.根據權利要求1至8中的任一項所述的曝光方法，其特征在于：

相對移動上述液浸區域與上述襯底載臺以使平行于上述曝光用光的光軸的方向的速度及行程的至少一方比在上述襯底曝光時大。

10.根據權利要求1至9中的任一項所述的曝光方法，其特征在于：

在與上述襯底載臺可獨立地移動的計測載臺上形成上述液浸區域，相對移動上述液浸區域與上述計測載臺以洗凈上述計測載臺。

11.根據權利要求10所述的曝光方法，其特征在于：

為了洗凈上述襯底載臺及上述計測載臺，使上述襯底載臺與上述計測載臺接近，在上述襯底載臺與上述計測載臺的邊界部形成上述液浸區域，使上述襯底載臺與上述計測載臺在沿著邊界線的方向上，以反相位相對地振動。

12.根據權利要求1至11中的任一項所述的曝光方法，其特征在于：

在上述洗凈時，沿著進行上述襯底的曝光時的上述襯底載臺的移動軌跡以外的軌跡，相對上述液浸區域移動上述襯底載臺。

13.根據權利要求12所述的曝光方法，其特征在于：

在上述洗凈時，沿著上述襯底對準時或在上述襯底曝光前后移動上述襯底載臺時的軌跡移動上述襯底載臺。

14.根據權利要求1至13中的任一項所述的曝光方法，其特征在于：

在上述洗凈時回收上述液浸區域的液體。

15.根據權利要求1至14中的任一項所述的曝光方法，其特征在于：

上述曝光用光經由光學構件及上述液體而照射于上述襯底，

以液體填滿上述襯底與上述光學構件間的上述曝光用光的光路空間，而在上述襯底載臺上形成包含上述曝光用光的照射區域的局部的液浸區域。

16.根據權利要求15所述的曝光方法，其特征在于：

使用用于進行對上述液浸區域供給及回收液體的至少一方的液浸構件，

在上述襯底載臺的洗凈時，也進行上述液浸構件的洗凈。

17.根據權利要求1至16中的任一項所述的曝光方法，其特征在于：

在不進行上述襯底的曝光的期間，對上述液浸區域供給洗凈用液體。