[發明專利]結構制造方法和結構無效
| 申請號： | 201110243061.7 | 申請日： | 2011-08-18 |
| 公開（公告）號： | CN102555217A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發明（設計）人： | 增原慎 | 申請（專利權）人： | 索尼公司 |
| 主分類號： | B29C67/00 | 分類號： | B29C67/00 |
| 代理公司： | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 結構 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種結構制造方法，包括：
在基礎材料上層疊第一膜；
根據所述基礎材料上的所述第一膜的表面的位置，利用能量束選擇性地照射所述第一膜以在所述第一膜上形成圖案的潛像；
在所述第一膜的表面上層疊第二膜；以及
將顯影劑提供給所述第二膜，并且將所述第一膜的、選擇性被移除的移除目標部分連同所述第二膜一起移除，由此對所述圖案進行顯影。
2.根據權利要求1所述的結構制造方法，其中，
通過一個接一個地使用多個第一膜來重復所述在基礎材料上層疊第一膜的步驟，以及
在利用所述能量束至少照射最后層疊的所述第一膜之后，對于所述多個第一膜一同執行顯影。
3.根據權利要求1所述的結構制造方法，其中，
所述第一膜和所述第二膜由相同材料制成。
4.根據權利要求1所述的結構制造方法，還包括
在層疊所述第二膜的步驟之后并且在所述顯影步驟之前，在所述基礎材料上執行所述第一膜和所述第二膜的加壓去沫。
5.一種根據制造方法制造的結構，所述制造方法包括
在基礎材料上層疊第一膜；
根據所述基礎材料上的所述第一膜的表面的位置，利用能量束選擇性地照射所述第一膜以在所述第一膜上形成圖案的潛像；
在所述第一膜的表面上層疊第二膜；以及
將顯影劑提供給所述第二膜，并且將所述第一膜的、選擇性被移除的移除目標部分連同所述第二膜一起移除，由此對所述圖案進行顯影。
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