[發明專利]容器保管設備有效
| 申請號: | 201110239763.8 | 申請日: | 2011-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN102376529A | 公開(公告)日: | 2012-03-14 |
| 發明(設計)人: | 飯塚雪夫;柴田優 | 申請(專利權)人: | 株式會社大福 |
| 主分類號: | H01L21/00 | 分類號: | H01L21/00;H01L21/677;H01L21/687 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 崔幼平;楊楷 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 容器 保管 設備 | ||
技術領域
本發明涉及一種容器保管設備,其設有運送用于收容基板的容器的運送機構,和保管由該運送機構運送的容器的容器保管部。
背景技術
在上述這種容器保管設備中,例如設有運送機構,以從容器中取出基板,在進行相對于基板的處理的多個處理裝置之間運送容器。容器保管部是為了暫時保管向處理裝置運送的容器或者為了預先保管處理裝置的處理結束而向設備的外部出庫的容器等而設置的,構成為在與運送機構之間自由收受(即交接)容器。
在該容器保管設備中,以往存在設有在上下方向和水平方向上排列多個地配置了自由保管容器的容器收納部的保管架,該保管架作為容器保管部構成的容器保管設備(例如參照日本特開2001-338971號公報)。在該文獻所記載的設備中,保管架構成為設置在地面上的固定式,運送機構構成為在與固定狀態的多個容器收納部之間收受容器。
而且,作為其它的容器保管設備,存在容器保管部以沿著運送機構的移動路徑并列的狀態設有多個的容器保管設備(例如參照日本特開2009-253162號公報)。在該文獻所記載的設備中,容器保管部具備以固定狀態設置的固定框體,和在保管容器的保管位置以及在與運送機構之間收受容器的收受位置之間相對于固定框體移動自如地設置的容器支撐體。在運送機構與容器保管部之間收受容器之際,使位于保管位置的容器支撐體從保管位置向收受位置移動,運送機構在與位于收受位置的容器支撐體之間收受容器,當該收受結束時,使容器支撐體從收受位置返回保管位置,
如上所述,作為容器保管部,存在日本特開2001-338971號中固定狀態的容器保管部,和日本特開2009-253162號中在保管位置與收受位置之間移動自如的容器保管部,在現有的容器保管設備中,通常,作為容器保管部,設有固定狀態的容器保管部和在保管位置與收受位置之間移動自如的容器保管部雙方。運送機構構成為相對于固定狀態的容器保管部移動自如,在與固定狀態的容器保管部之間自由收受容器,并且相對于在保管位置與收受位置之間移動自如的容器保管部也移動自如,在從保管位置移動到收受位置的容器保管部之間自由收受容器。
在此,為了防止在容器內的基板(例如導體晶片)的表面上形成空氣中的氧而產生的氧化膜,進行使氮或氬等惰性氣體,或者清潔干燥空氣(Clean?Dry?Air)充滿容器內的空間。因此,在日本特開2001-338971號所記載的設備中,設有相對于保管在固定狀態的容器保管部的容器供給惰性氣體的氣體供給機構。在容器上設有用于向內部供給氮氣的供給口,和排出容器內部含氧空氣的排氣口。氣體供給機構從保管在保管架上的容器的供給口供給惰性氣體,進行與內部的空氣的交換,使惰性氣體充滿容器內。
這樣,作為向容器內供給惰性氣體的部位,考慮利用容器保管部。但是,如日本特開2001-338971號所記載的那樣,相對于固定狀態的容器保管部設有氣體供給機構,如日本特開2009-253162號所記載的那樣,相對于在保管位置與收受位置之間移動自如的容器保管部未設有氣體供給機構,不進行使惰性氣體充滿容器內的空間。因此,以往以來,對于需要惰性氣體的填充的容器,不向在保管位置與收受位置之間移動自如的容器保管部運送,而由運送機構運送到能夠向容器內供給惰性氣體的固定狀態的容器保管部,進行使惰性氣體充滿容器內的空間。
但是,由于要在地面上確保實際上直接有助于基板的生產的處理裝置等其它裝置的設置空間,所以難以在處理裝置的附近設置多個保管架。因此,當使向容器內供給惰性氣體的部位僅僅是固定狀態的容器保管部時,從處理裝置的處理結束到為了保管而運送機構將容器運送到容器保管部的距離加長,耗費了運送機構的運送能力,存在不能夠有效地利用運送機構的運送能力的問題。
而且,在保管位置與收受位置之間移動自如的容器保管部與固定狀態的容器保管部相比設置空間小,能夠配置在存在比較大的空間的天花板一側。因此,最近也考慮取代固定狀態的容器保管部或者省略固定狀態的容器保管部,而設置多個在保管位置與收受位置之間移動自如的容器保管部那樣的設備。在這種設備中,由于能夠向容器內供給惰性氣體的固定狀態的容器保管部的數量減少,所以即使在保管位置與收受位置之間移動自如的容器保管部中,也有望能夠向容器內供給惰性氣體。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





