[發明專利]一種高純錫的制備方法無效
| 申請號: | 201110238630.9 | 申請日: | 2011-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN102296189A | 公開(公告)日: | 2011-12-28 |
| 發明(設計)人: | 胡建華 | 申請(專利權)人: | 天津市化學試劑研究所 |
| 主分類號: | C22B25/08 | 分類號: | C22B25/08 |
| 代理公司: | 天津盛理知識產權代理有限公司 12209 | 代理人: | 王來佳 |
| 地址: | 300240 *** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高純 制備 方法 | ||
技術領域;
本發明涉及無機化合物制備方法領域,尤其是一種高純錫的制備方法。
背景技術;
高純錫被廣泛在電子行業中,用于擴散摻雜工藝和鍍錫,目前錫的制備方法為氯化亞錫,慢慢加入到氫氧化鈉溶液及氰化鋅(劇毒)的混合液中,將鋅片加入上述溶液,析出海綿狀錫,該方法制備得到的錫純度低,雜質含量高,且原料氰化鋅為劇毒產品,危險性高,只用于磷酸鹽錫鹽的測定、有機合成、用作還原劑,不能滿足電子工業飛速發展的需要,在市場沒有競爭力。
發明內容;
本發明的目的是克服現有技術的不足之處,提供一種純度高、雜質含量低的高純錫的制備方法。
本發明采取的技術方案是:
一種高純錫的制備方法,其特征在于:其步驟為:
(1)制備四氯化錫
將粒狀金屬錫與經蒸餾水洗瓶和濃硫酸洗瓶的氯氣反應,生成四氯化錫;
(2)分餾提純四氯化錫
將步驟(1)得到的四氯化錫加入1-2%重量的錫,過濾,取上層清夜,在油浴上進行分餾,截取沸點溫度穩定部分(114℃)餾液,加入餾液重量的4-5%分析純草酸銨過夜;
(3)合成氫氧化錫
將步驟(2)得到餾液通入氨氣,得到氫氧化錫沉淀,用蒸餾水洗滌2-3次,清液倒出,得到沉淀氫氧化錫,烘干;
(4)還原得到高純錫
將步驟(3)得到氫氧化錫,移至石英舟,將石英舟放入石英管中,用氫氣還原,溫度緩緩加熱100-120℃,時間30-40分鐘,加熱150-170℃,恒溫,時間1-1.5小時,加熱400-450℃,恒溫,時間1-1.2小時,加熱570-600℃,加熱時間2-3小時,停止加熱,冷卻,取出得到高純錫。
本發明的有點及有益效果是:
本發明包括錫粒與氯氣反應,經過加錫(1-2%)和草酸銨分餾提純后與氨水作用生成氫氧化物,然后用氫氣還原,得到高純錫。本發明工藝技術先進,生成效率高,制得的高純錫純度高,雜質含量低,滿足電子行業需要,并得到廣泛應用。
具體實施方式;
下面結合實施例,對本發明進一步說明,下述實施例是說明性的,不是限定性的,不能以下述實施例來限定本發明的保護范圍。
實施例1
一種高純錫的制備方法,其步驟為:
(1)制備四氯化錫
將粒狀金屬錫500g,與經蒸餾水洗瓶和濃硫酸洗瓶氯氣反應,生成四氯化錫,得到溶液A;
(2)分餾提純四氯化錫
將步驟(1)得到的四氯化錫加入1%的錫,過濾取上層清夜,在油浴上進行分餾,截取沸點溫度穩定部分(114℃)餾液,加入4%分析純草酸銨過夜,取出餾液得到B;
(3)合成氫氧化錫
將步驟(2)得到餾液通入氨氣、得到氫氧化錫沉淀,用蒸餾水洗滌2次,清液倒出,得到沉淀氫氧化錫,烘干得到氫氧化錫C;
(4)還原得到高純錫
將步驟(3)得到氫氧化錫C,移至石英舟,將石英舟放入石英管中,用氫氣還原,溫度緩緩加熱100℃,時間30分鐘,加熱150℃,恒溫,時間1.5小時,加熱400℃,恒溫,時間1.2小時,加熱600℃恒溫時間2小時,停止加熱,冷卻,取出得到高純錫。
實施例2
一種高純錫的制備方法,其步驟為:
(1)制備四氯化錫
將粒狀金屬錫500g,與經蒸餾水洗瓶和濃硫酸洗瓶氯氣反應,生成四氯化錫,得到溶液A;
(2)分餾提純四氯化錫
將步驟(1)得到的四氯化錫加入1%的錫,過濾取上層清夜,在油浴上進行分餾,截取沸點溫度穩定部分(114℃)餾液,加入4%分析純草酸銨過夜,取出餾液得到B;
(3)合成氫氧化錫
將步驟(2)得到餾液通入氨氣、得到氫氧化錫沉淀,用蒸餾水洗滌2次,清液倒出,得到沉淀氫氧化錫,烘干得到氫氧化錫C;
(4)還原得到高純錫
將步驟(3)得到氫氧化錫C,移至石英舟,將石英舟放入石英管中,用氫氣還原,溫度緩緩加熱100℃,時間30分鐘,加熱150℃,恒溫,時間1.5小時,加熱400℃,恒溫,時間1.2小時,加熱570℃恒溫時間3小時,停止加熱,冷卻,取出得到高純錫。
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