[發(fā)明專(zhuān)利]一種新型的常壓等離子體自由基清洗噴槍進(jìn)氣方式

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110228262.X
• 申請(qǐng)日: 2011-08-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102931050A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-02-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王守國(guó);賈少霞;趙玲利
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/00
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/00;B08B7/00;H05H1/30
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

【技術(shù)領(lǐng)域】

本發(fā)明涉及到一種新型的常壓等離子體自由基清洗噴槍進(jìn)氣方式，進(jìn)氣方式由三層金屬隔板組成，三層隔板錯(cuò)位開(kāi)縫隙，工作氣體通過(guò)第一層和第二層隔板后，氣體沖擊力下降，并且流過(guò)第二層隔板后，氣體流速分布均勻，第三層隔板將工作氣體均勻分流到兩側(cè)，使工作氣體均勻進(jìn)入射頻電極與接地電極之間的放電區(qū)域，穩(wěn)定放電，這種進(jìn)氣方式主要用于常壓等離子體自由基清洗噴槍。

【背景技術(shù)】

微電子工業(yè)中主要有濕法和真空干法兩種清洗硅片的方法，隨著微器件特征尺寸的進(jìn)一步減小，這兩種清洗技術(shù)面臨越來(lái)越多的困難。常壓等離子體噴槍輝光放電產(chǎn)生等離子體，等離子體中的自由基與硅片或其它被清洗物體表面有機(jī)物反應(yīng)，達(dá)到清洗目的，但是進(jìn)入噴槍的工作氣體均勻性直接影響放電效果，沖擊力較大的氣流通過(guò)進(jìn)氣孔直接進(jìn)入射頻電極和接地電極的縫隙時(shí)，沿進(jìn)氣孔方向的氣流流速較大，引起工作氣體在放電狹縫分布不均勻，從而放電不穩(wěn)定，影響清洗效果，另外，有機(jī)材料的隔板易揮發(fā)出有機(jī)物，會(huì)對(duì)放電工作氣體造成污染。

本發(fā)明介紹了一種新型的常壓等離子體自由基清洗噴槍進(jìn)氣方式。進(jìn)氣結(jié)構(gòu)由三層金屬隔板組成，三層隔板錯(cuò)位開(kāi)縫隙，第一層和第二層隔板的作用是降低氣流沖擊力，使氣流流速逐漸均勻，第三層隔板是將流速較低的工作氣體均勻分流，進(jìn)入射頻電極與接地電極之間的放電區(qū)域。

【發(fā)明內(nèi)容】

一種新型的常壓等離子體自由基清洗噴槍進(jìn)氣方式，由三層隔板組成，噴槍上端為進(jìn)氣口，下端為噴口，周?chē)媒饘侔迕荛]，等離子體放電電極由射頻電極和接地電極組成，噴槍等離子放電對(duì)進(jìn)氣均勻性要求嚴(yán)格，本發(fā)明設(shè)計(jì)的噴槍進(jìn)氣方式以降低氣流沖擊力為前提，使氣體均勻進(jìn)入噴槍放電縫隙，保證放電均勻穩(wěn)定，其特征在于：進(jìn)氣方式由三層金屬板組成，三層隔板不同位置開(kāi)縫隙，形成縫隙交錯(cuò)間隔的格局，當(dāng)工作氣體進(jìn)入噴槍后，先通過(guò)第一層隔板，第一層隔板兩側(cè)開(kāi)狹縫，氣流在第一層隔板的阻擋下，沖擊力下降，并從兩側(cè)縫隙流出，第二層隔板中間開(kāi)狹縫，從第一層隔板進(jìn)入的工作氣體被第二層隔板阻擋，形成渦流，沖擊力再次下降，氣流流速逐漸均勻，第三層隔板與第一層隔板一樣，兩側(cè)開(kāi)狹縫，氣流被第三層隔板均勻分流到兩側(cè)流出進(jìn)氣系統(tǒng)，進(jìn)入射頻電極與接地電極之間的放電區(qū)域。

所述的常壓等離子體自由基清洗噴槍進(jìn)氣方式，其特征在于：由三層不同位置開(kāi)縫隙的金屬隔板組成，第一層隔板和第三層隔板兩側(cè)各開(kāi)0.5mm的縫隙，第二層隔板中間開(kāi)1mm的縫隙，第一層和第二層隔板作用是降低氣流沖擊力，第三層隔板的作用是均勻分流工作氣體。

所述的常壓等離子體自由基清洗噴槍進(jìn)氣方式，其特征在于：三層隔板的制作簡(jiǎn)單，另外由于隔板采用金屬材料，不會(huì)對(duì)放電工作氣體造成有機(jī)物污染。

本發(fā)明常壓等離子體自由基清洗噴槍進(jìn)氣方式，經(jīng)過(guò)三個(gè)縫隙交錯(cuò)的金屬隔板，使工作氣體均勻進(jìn)入射頻電極和接地電極之間的放電區(qū)域。

本發(fā)明主要用于常壓等離子體自由基清洗噴槍或其他要求氣流均勻的設(shè)備中，使放電工作氣體均勻，穩(wěn)定放電狀態(tài)。

【附圖說(shuō)明】

圖1為本發(fā)明一種新型的常壓等離子體自由基清洗噴槍進(jìn)氣方式原理示意圖。

請(qǐng)參閱圖1，該常壓等離子體自由基清洗噴槍進(jìn)氣方式，由三層金屬隔板組成。第一層隔板103兩側(cè)各開(kāi)一條0.5mm的縫隙，第二層隔板104中間開(kāi)1mm的縫隙，第三層隔板105與第一層隔板一樣，兩側(cè)各開(kāi)一條0.5mm的縫隙。工作氣體通過(guò)進(jìn)氣管101進(jìn)入等離子體自由基清洗噴槍內(nèi)部，氣流在第一層隔板103的阻擋下，沖擊力迅速下降，從第一層隔板流出的工作氣體被第二層隔板104阻擋，形成渦流，沖擊力再次下降，氣流流速趨于均勻，氣流被第三層隔板105均勻分流到兩側(cè)流出進(jìn)氣系統(tǒng)，進(jìn)入射頻電極107與接地電極108之間的放電區(qū)域。

上面參考附圖結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，然而，需要說(shuō)明的是，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以對(duì)上述實(shí)施做出許多改變和修改，這些改變和修改都落在本發(fā)明的權(quán)利要求限定的范圍內(nèi)。