[發(fā)明專(zhuān)利]易開(kāi)蓋刻痕深度的調(diào)整方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110226898.0
• 申請(qǐng)日: 2011-08-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102416426A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-04-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金麗秋;汪偉;蔡慧
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)計(jì)量學(xué)院
• 主分類(lèi)號(hào): B21D51/44
• 分類(lèi)號(hào): B21D51/44
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及易開(kāi)蓋刻痕深度微調(diào)的技術(shù)。?

背景技術(shù)

易開(kāi)蓋刻痕深度是影響易開(kāi)蓋產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素；目前易開(kāi)蓋刻痕深度的調(diào)整主要通過(guò)在下模和基底之間增加硬質(zhì)墊片(例如：采用金屬銅墊片)或手動(dòng)調(diào)節(jié)其位移方法來(lái)實(shí)現(xiàn)的，其不足在于：需要通過(guò)停機(jī)來(lái)完成上述的條件，給連續(xù)生產(chǎn)帶來(lái)了不便。?

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明之目的：為解決上述問(wèn)題而提出的易開(kāi)蓋刻痕深度的微調(diào)方法。?

為了實(shí)現(xiàn)發(fā)明目的，擬采用以下的技術(shù)：?

A.本發(fā)明在結(jié)構(gòu)上包括：下模、位于下模正上方的易開(kāi)蓋蓋坯、繞在下模外圍的電熱線(xiàn)圈和位于易開(kāi)蓋蓋坯上方空間的上模；?

其特征在于：?

B.本發(fā)明的使用方法：所述的下模的高度是通過(guò)繞制在下模外圍的電熱線(xiàn)圈對(duì)下模進(jìn)行感應(yīng)加熱造成下模發(fā)生垂直方向的膨脹程度來(lái)調(diào)整的，即通過(guò)該高度的微調(diào)整來(lái)控制上模底部刀模沖刻易開(kāi)蓋蓋坯時(shí)造成該易開(kāi)蓋蓋坯上刻痕的深度。?

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)比較的特點(diǎn)：?

由于本發(fā)明采用了對(duì)金屬的熱脹冷縮特性來(lái)控制易開(kāi)蓋蓋坯上刻痕的深度的微調(diào)，這就為方便地實(shí)現(xiàn)易開(kāi)蓋刻痕深度微調(diào)創(chuàng)造了條件。——可以在連續(xù)生產(chǎn)時(shí)無(wú)需停機(jī)的情況下通過(guò)冷熱的調(diào)節(jié)來(lái)完成上下距離的微調(diào)(微量位移)。?

附圖說(shuō)明

圖示意了本發(fā)明的實(shí)施例。?

1：上模；2：下模；3：電熱線(xiàn)圈；4：感溫元件；Q：易開(kāi)蓋蓋坯；W：刀模；V：刻痕；A：調(diào)溫系統(tǒng)；P：基底；S：刻痕所在圓的環(huán)徑；H：下模的高度；h：刀模深度；h’：刻痕深度；U：電壓。?

具體實(shí)施方式

如圖所示，本發(fā)明的關(guān)鍵部件就是位于基底P上部的下模2(例如：其直徑為68mm，高度H為40mm——它是由線(xiàn)膨脹系數(shù)為10.95×10⁶l/K的Cr12作為材料制作成的)，它高度H之變化(相當(dāng)微小——在微米的量級(jí)上)完全是通過(guò)調(diào)溫系統(tǒng)A根據(jù)感溫元件4測(cè)得的下模2溫度值的反饋來(lái)決定提供給電熱線(xiàn)圈3的電壓U改變下模2的溫度來(lái)完成的，即最終通過(guò)冷熱調(diào)節(jié)來(lái)完成上下位移的微調(diào)(微量位移)。?

當(dāng)下模2的高度H確定以后，易開(kāi)蓋蓋坯Q上的刻痕V的深度h’的數(shù)值也就被確定了。——上模1向下沖壓(位移)的距離是個(gè)恒定值，因此，易開(kāi)蓋蓋坯Q上的刻痕V的深度h’的數(shù)值是由下模2垂直方向熱脹冷縮的位移距離所決定的。?

顯然，本發(fā)明的方法關(guān)鍵點(diǎn)在于：完全是通過(guò)下模2的向上微量位移來(lái)確定易開(kāi)蓋蓋坯Q上的刻痕V的深度h’的，并且，實(shí)際的刻痕V深度h’會(huì)小于或等于刀模W的深度h。?

例如：下模2高度H為40mm，當(dāng)調(diào)溫系統(tǒng)A通過(guò)電熱線(xiàn)圈3給下模2加熱，溫度波動(dòng)范圍在30℃至50℃時(shí)，下模2高度H的微調(diào)范圍在10μm之間，也就是本發(fā)明在易開(kāi)蓋蓋坯Q上的刻痕V的深度h’的微調(diào)范圍至少在10μm之間，又由于易開(kāi)蓋蓋坯Q上的刻痕V深度h’是由上模1底部的刀模W沖刻易開(kāi)蓋蓋坯Q造成的，刀模W的深度h為0.5mm，刻痕V的深度h’可以為90μm。?

至于涉及本發(fā)明關(guān)鍵部位的其他次要執(zhí)行元件的相關(guān)數(shù)據(jù)如下：?

本發(fā)明刀模W一般可取其環(huán)徑S為66mm(小于下模2的直徑)，這樣所刻出的位于易?開(kāi)蓋蓋坯Q上的環(huán)狀刻痕V的環(huán)徑S刀模W環(huán)徑S完全一致.?

下模2外圍繞制電熱線(xiàn)圈3時(shí)的繞制距離不能超過(guò)下模2的高度H，例如：其距離為30mm，線(xiàn)圈匝數(shù)為6匝。?