[發明專利]一種上釉裝置有效
| 申請號: | 201110225529.X | 申請日: | 2011-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN102391016A | 公開(公告)日: | 2012-03-28 |
| 發明(設計)人: | 何炳大;劉坤龍;徐建林;蔣平平;閻崔蓉 | 申請(專利權)人: | 信益陶瓷(中國)有限公司 |
| 主分類號: | C04B41/86 | 分類號: | C04B41/86 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標事務所 32104 | 代理人: | 時旭丹;劉品超 |
| 地址: | 215300 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 上釉 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種上釉裝置,屬于陶瓷表面處理的上釉技術領域。
背景技術
上釉屬于陶瓷生產過程中的重要工序,陶瓷表面的釉質與均勻度決定著陶瓷的品質與檔次。很長時間以來,我國陶瓷行業的印刷上釉工序主要靠傳統的加釉泵來完成,其加釉不均。隨著人們生活品質的不斷提高,對產品的需求量更大,對產品的品質檔次要求更高,傳統的印刷加釉工序已經不能滿足大批量的生產。本發明提出一種通過打釉泵增加釉料的壓力,并能維持較為穩定的壓力保證釉料均勻的施加在膠輥的表面的裝置,明顯提高產品質量,該裝置容積較小,生產過程中更換釉料頻率高,簡單易行。
發明內容
本發明的目的在于提供一種上釉裝置。
本發明的技術方案:一種上釉裝置,該裝置由加釉罐(1),出釉管(2),乳膠管(3),打釉泵(4),進釉口(5),穩壓罐(6),出釉口(7),清洗孔(8)和回釉排氣孔(9)組成;加釉罐呈圓錐形位于穩壓罐正上方,該穩壓罐的體積(4L)較傳統罐?(15L)?小,穩壓罐的底部設有進釉口,穩壓罐中上部設有一出釉口,穩壓罐頂部設有清洗孔和回釉排氣孔;回釉排氣孔上裝有回釉排氣閥;出釉管上設有出釉閥,出釉閥的上部接口連接加釉罐,出釉閥的下部接口連接穩壓罐;出釉閥的另一接口連接乳膠管,再連接打釉泵;
加釉罐與穩壓罐在豎直方向上有出釉管相連,該出釉管設有出釉閥;加釉罐與打釉泵之間有膠管相連,另外一根膠管將打釉泵和穩壓罐底部的進釉口相連。
用所述上釉裝置的上釉方法:打釉泵,其實質是隔膜泵,在左右兩個泵腔內各裝有上下兩個、共四個單向球閥隔膜的運動,造成工作腔內的容積改變,迫使四個單向球閥交替地開啟和關閉,從而將釉料不斷地吸入和排出;
釉料加至加釉罐中,再將加釉罐中的釉料添加至穩壓罐,穩壓罐中的釉料在一穩定壓力的作用下被輸送到膠滾上并均勻地附在膠輥表面上;
上釉過程在于,首先將加釉罐與穩壓罐豎直方向上的出釉管上的出釉閥打開,利用釉料自身重力將穩壓罐中加滿釉料,關閉出釉閥,即打開通打釉泵的閥,釉料流經白色乳膠管進入打釉泵,打釉泵將釉料連續地加至穩壓罐,此時穩壓罐的壓力逐漸增大。釉料通過膠管流入打釉泵再經膠管流出,最終從穩壓罐底部的進釉口進入穩壓罐;在整個過程中,打釉泵與穩壓罐上方的回釉排氣閥相互協調作用保證穩壓罐中的恒定壓力,壓力維持在0.2bar-0.4bar,傳統的加釉裝置無法控制一恒定的壓力,傳統加釉裝置加釉量過大或過小。
出釉管上設有出釉閥,根據不同產品的需要調節出釉量,出釉量控制在8-12mL/s。
處于穩壓罐底部的進釉口有兩大功能,一是打釉泵中的釉料從此處流進穩壓罐;二是當罐內有殘余釉料是可以從此流出,再次回收利用。
當釉料充滿整個穩壓罐時,多余的釉料通過穩壓罐上方的回釉排氣孔排出,正是由于回釉排氣孔與打釉泵兩者之間的協調作用保證了穩壓罐中壓力穩定,保持在0.2bar-0.4bar之間,并且使多余的氣體排出。
穩壓罐中的釉料一直處于穩定狀態,在此穩定壓力作用下將印釉送到膠輥上面,再施加到陶瓷坯體表面,形成顏色一致的優質產品。
本發明的有益效果:本發明克服了傳統裝置的部分不足,提供一種改進的施釉裝置。他的進釉口位于穩壓罐底部,出釉口位于穩壓罐中上部,罐內釉料一直處于流動狀態,不易沉淀,產品顏色穩定無偏差。傳統打釉裝置體積為0.03m3,直徑35cm,桶高30cm,每次可裝載印刷釉40kg,釉料在桶中循環慢,容易產生沉淀。本發明裝置體積僅為0.0047m3,直徑20cm,高度15cm。作業員每20分鐘添加新印刷釉料,印刷釉更新較快,流速穩定,可以減輕色彩誤差。
附圖說明
圖1一種上釉裝置。其中:1、加釉罐,2、出釉管,3、乳膠管,4、打釉泵,?5、進釉口,?6、穩壓罐,?7、出釉口,?8、清洗孔,9、回釉排氣孔。
具體實施方式
實施例1
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