[發(fā)明專利]一種上釉裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110225529.X
• 申請日: 2011-08-08
• 公開（公告）號(hào): CN102391016A
• 公開（公告）日: 2012-03-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何炳大;劉坤龍;徐建林;蔣平平;閻崔蓉
• 申請（專利權(quán)）人: 信益陶瓷（中國）有限公司
• 主分類號(hào): C04B41/86
• 分類號(hào): C04B41/86
• 代理公司: 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所 32104
• 代理人: 時(shí)旭丹;劉品超

1.一種上釉裝置，其特征在于：該裝置由加釉罐（1），出釉管（2），乳膠管（3），打釉泵（4），進(jìn)釉口（5），穩(wěn)壓罐（6），出釉口（7），清洗孔（8）和回釉排氣孔（9）組成；加釉罐呈圓錐形位于穩(wěn)壓罐正上方，穩(wěn)壓罐的底部設(shè)有進(jìn)釉口，穩(wěn)壓罐中上部設(shè)有一出釉口，穩(wěn)壓罐頂部設(shè)有清洗孔和回釉排氣孔；回釉排氣孔上裝有回釉排氣閥；加釉罐與穩(wěn)壓罐在豎直方向上由出釉管相連，出釉管上設(shè)有出釉閥；出釉閥的上部接口連接加釉罐，出釉閥的下部接口連接穩(wěn)壓罐；出釉閥的另一接口通過乳膠管（3）連接打釉泵；

加釉罐與打釉泵之間通過乳膠管（3）相連，另外一根膠管將打釉泵和穩(wěn)壓罐底部的進(jìn)釉口相連。

2.用權(quán)利要求1所述上釉裝置的上釉方法，其特征在于：打釉泵，其實(shí)質(zhì)是隔膜泵，在左右兩個(gè)泵腔內(nèi)各裝有上下兩個(gè)、共四個(gè)單向球閥隔膜的運(yùn)動(dòng)，造成工作腔內(nèi)的容積改變，迫使四個(gè)單向球閥交替地開啟和關(guān)閉，從而將釉料不斷地吸入和排出；

釉料加至加釉罐中，再將加釉罐中的釉料添加至穩(wěn)壓罐，穩(wěn)壓罐中的釉料在一穩(wěn)定壓力的作用下被輸送到膠滾上并均勻地附在膠輥表面上；

上釉過程在于，首先將加釉罐與穩(wěn)壓罐豎直方向上的出釉管上的出釉閥打開，利用釉料自身重力將穩(wěn)壓罐中加滿釉料，關(guān)閉出釉閥，即打開通打釉泵的閥，釉料通過膠管流入打釉泵再經(jīng)膠管流出，最終從穩(wěn)壓罐底部的進(jìn)釉口進(jìn)入穩(wěn)壓罐；在整個(gè)過程中，打釉泵與穩(wěn)壓罐上方的回釉排氣閥相互協(xié)調(diào)作用保證穩(wěn)壓罐中的恒定壓力，壓力維持在0.2bar-0.4bar。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的上釉方法，其特征在于，出釉管上設(shè)有出釉閥，根據(jù)不同產(chǎn)品的需要調(diào)節(jié)出釉量，出釉量控制在8-12mL/s。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的上釉方法，其特征在于，進(jìn)釉口功能之一，使釉料從此口流入穩(wěn)壓罐，另外的功能在于，未用完的底部釉料從此口排出并回收利用。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的上釉方法，其特征在于，回釉排氣閥控制穩(wěn)壓罐中壓力，其控制過程在于，一旦釉料填充滿整個(gè)穩(wěn)壓罐，多余的釉料就會(huì)從穩(wěn)壓罐上方的回釉排氣孔排出，這樣可以使穩(wěn)壓罐內(nèi)部壓力穩(wěn)定，保持在0.2bar-0.4bar之間，并且使多余的氣體排出。