[發明專利]氟化氬光掩模盒運送裝置和方法

無效

• 申請號: 201110222121.7
• 申請日: 2011-08-04
• 公開（公告）號: CN102431727A
• 公開（公告）日: 2012-05-02
• 發明（設計）人: 毛智彪;王劍;戴韞青
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: B65D81/20
• 分類號: B65D81/20
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 王敏杰

技術領域????

????本發明涉及一種運送裝置和方法，特別是涉及一種用于運送存放掩模板的氟化氬光掩模盒的裝置和方法。

背景技術????

半導體芯片從生產制造到運送，都需要在密閉無塵的條件下進行。以潔凈室生產硅片的傳統方式是將生產設備置于潔凈室內，生產和運送在同樣的潔凈環境下。隨著制作的器件結構變得越來越小，更多的更小的微塵顆粒會對器件的性能產生影響，對潔凈室潔凈度的要求也越來越高。

高潔凈度的潔凈室不但需要高昂的建造成本，還要支付很高的維持運轉成本。解決潔凈室高成本的方法是基于‘隔離技術’概念而開發的。隔離技術旨在通過將硅片封閉在一個超潔凈的環境中，同時放寬對這個封閉環境以外的潔凈度要求來防止產品被污染。目前主要使用的方法包括硅片盒、標準機械接口、和迷你潔凈環境三項技術。Asyst?Technologies,?Inc在1984年推出的標準機械接口技術，現在已經成為先進芯片生產制程不可或缺的選擇。

現代半導體工業飛速發展,集成電路的集成度越來越高,特征尺寸越做越小,微小顆粒不但對半導體硅片生產的影響大大增加，而且對光刻工藝的模板，光掩模的影響也大大增加。光掩模用以在微影制程（Photolithography?Process）中將特定的電路設計圖案透過制程步驟使其成像于一基板（例如半導體晶圓）上，以形成一集成電路的特征。一般光掩模包括有一透明基材，其具有一客戶所設計或要求的特定電路圖案于透明基材上，因而光線可通過透明基材的特定電路圖案，以提供特定電路圖案成像于基板（例如半導體晶圓）上。通常光掩模在制程過程中常需進行儲放、運送或其他處理，不適當的儲放和運送可能導致光掩模損壞，例如粉塵、污染物、邊緣擦傷或其他缺陷原因。

潔凈室的氣載分子污染物是導致氟化氬光掩模盒生長霧狀缺陷的主要因素之一。為了減少氣載分子污染物的影響，通常將氟化氬光掩模盒放在充有惰性氣體的標準機械接口光掩模盒中。在氟化氬光掩模盒的使用期間，光刻機的光掩模操作臺處于惰性氣體保護環境。在不使用期間，氟化氬光掩模盒被存放在具有惰性氣體充氣功能的光掩模存儲柜中。在大部分情況下，氟化氬光掩模盒處于惰性氣體的充氣保護環境下。然而在光掩模存儲柜和光刻機之間的運送則處于沒有惰性氣體充氣的環境下。在實際生產中，由于人員安排和生產安排等原因，氟化氬光掩模盒經常會遇到運送到光刻機旁之后等待光刻機的狀態。如果等待時間超過設定時間，氟化氬光掩模盒必須要送回存儲柜進行再充氣。既不利于預防氟化氬光掩模盒的霧狀缺陷生長，也給生產安排帶來不便。

本發明提供一種運送氟化氬光掩模盒的方法和裝置，本發明使用內置有惰性氣體源的運輸裝置運送氟化氬光掩模盒的方法，從而解決了在生產中在光掩模充氣存儲柜和光刻機之間運送氟化氬光掩模盒沒有惰性氣體充氣的問題，并能防止氧氣從過濾膜進入氟化氬光掩模盒，避免掩模板上面產生霧狀污染物（Haze），可以有效地延長氟化氬光掩模盒的使用壽命。本發明所提供并僅僅作為示例但不對發明構成限制的優選實施例在具體實施方式中有所體現。

發明內容????

鑒于上述問題，本發明的目的在于解決在生產中在光掩模充氣存儲柜和光刻機之間運送氟化氬光掩模盒沒有惰性氣體充氣的問題，通過通入惰性氣體來防止氧氣從過濾膜進入氟化氬光掩模盒，可以有效地延長氟化氬光掩模盒的使用壽命，非常適于實用。

本發明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現的。依據本發明提出的一種運送氟化氬光掩模盒的裝置，其至少包括：一氟化氬光掩模盒運送小車，小車上放置至少一個氟化氬光掩模盒，小車上還有一個安全氣柜用以存放已放置惰性氣體源的氣體鋼瓶，氣體鋼瓶與氟化氬光掩模盒之間使用氣體管路連接。

本發明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。

前述的運送氟化氬光掩模盒的裝置，其中氣體鋼瓶使用安全帶固定在安全氣柜內。

前述的運送氟化氬光掩模盒的裝置，其中氣體鋼瓶內置的惰性氣體源包括二氧化碳和氮氣。

前述的運送氟化氬光掩模盒的裝置，其中安全氣柜有柜門，便于更換氣體鋼瓶和控制氣體流量和壓力。

前述的運送氟化氬光掩模盒的裝置，其中安全氣柜有觀察視窗，便于觀察氣體流量和壓力。

前述的運送氟化氬光掩模盒的裝置，其中氣體鋼瓶中的惰性氣體源的壓力和流量由控制閥和流量表調節。

前述的運送氟化氬光掩模盒的裝置，氣體管路分為兩路進入氟化氬光掩模盒。

前述的運送氟化氬光掩模盒的裝置，氟化氬光掩模盒底面的兩個入口帶有過濾膜。