[發(fā)明專利]高速沉積制造薄膜太陽(yáng)電池的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110220265.9 | 申請(qǐng)日: | 2011-08-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102280527A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-12-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李兆廷;李鵬;王恩忠;林宏達(dá);甄雁卉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 牡丹江旭陽(yáng)太陽(yáng)能科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18 |
| 代理公司: | 牡丹江市丹江專利事務(wù)所 23205 | 代理人: | 董連書(shū) |
| 地址: | 157000 黑龍江省牡丹江*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高速 沉積 制造 薄膜 太陽(yáng)電池 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及薄膜太陽(yáng)電池的制造方法,具體涉及一種高速沉積薄膜而且節(jié)約能耗的制造薄膜太陽(yáng)電池的方法。
背景技術(shù)
用現(xiàn)有制造薄膜太陽(yáng)電池的方法沉積薄膜時(shí)采用的輔助氣體不利于氣體起輝,第一起輝電壓、功率較高,第二起輝后正常沉積時(shí)設(shè)備功率消耗較大,氣體沉積速率較低;正常沉積薄膜時(shí)所需要的高頻電源功率較大,不利于快速、高效、低成本制造薄膜太陽(yáng)電池。
發(fā)明內(nèi)容
?本發(fā)明的目的是提供一種快速、高效、低成本的高速沉積制造薄膜太陽(yáng)電池的方法。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案是:
高速沉積制造薄膜太陽(yáng)電池的方法,在沉積薄膜電池層時(shí)加入輔助氣體Ar,達(dá)到快速、高效、低成本制造薄膜太陽(yáng)電池的目的,其具體包括以下步驟:
1)用LPCVD或磁控濺射在玻璃基板上制備TCO;
膜層厚度:500~700nm
方塊電阻:小于15Ω/□
光透率:波長(zhǎng)400~800?nm的光透過(guò)率要大于90%;
2)對(duì)玻璃基板上的TCO膜層激光刻劃;
3)在TCO膜層上制備PIN電池層,雙結(jié)的連續(xù)制備PIN/PIN膜層,制備工藝如下:
???制備p層工藝參數(shù)為:
使用B(CH4)3、SiH4、CH4、Ar、H2氣體,沉積溫度180℃~210℃,功率密度0.18~0.3W/cm2,氫稀釋比R:?H2/?SiH4為23~35,硅烷與甲烷流量比為10:(1~1.35),硅烷與氬氣的流量比10:(0.2~0.5),沉積壓力為100~140pa;
制備I層工藝參數(shù)為:
使用SiH4、Ar、H2氣體,氫稀釋比R:?H2/?SiH4為19~21,硅烷與氬氣的流量比10:(0.15~0.4),沉積溫度180℃~220℃,功率密度0.2~0.45W/cm2,沉積壓力為110~155pa
制備N層工藝參數(shù)為:
使用PH3、SiH4、Ar、H2氣體,其中H2/SiH4比之R為21~32,硅烷與氬氣的流量比10:(0.2~0.5),沉積溫度180℃~210℃,功率密度0.25~0.45W/cm2,沉積壓力為110~150pa?;
4)激光刻劃PIN電池膜層;
5)用磁控濺射制備電池背電極,包括AZO膜層、Al膜層和NiV膜層;
AZO膜層厚度:80~100nm;方塊電阻:小于280?Ω/□;
Al膜層厚度:250~300nm;
NiV膜層厚度:80~110nm;
6)激光刻劃背電極,激光清邊機(jī)清邊,超聲波清洗;
7)粘接:選擇高強(qiáng)度熱熔粘接材料將制備完的太陽(yáng)電池和4mm厚全鋼化背板玻璃疊壓粘接在一起;
8)預(yù)壓;利用輥壓機(jī)將疊壓粘接在一起的太陽(yáng)電池和背板玻璃進(jìn)行預(yù)壓;
9)?封裝:將預(yù)壓后的電池板通過(guò)高壓釜層壓封裝,經(jīng)過(guò)清理、檢驗(yàn)、檢測(cè)、包裝等工序就制造出合格的高效薄膜太陽(yáng)電池。
本發(fā)明的技術(shù)效果是:使用本方法可以快速、高效、低成本制造的薄膜太陽(yáng)電池,在沉積薄膜電池層時(shí)加入輔助氣體Ar,有利于氣體起輝,達(dá)到降低第一起輝電壓、功率,降低第二起輝后正常沉積功率的目的。Ar離子還可以起輔助作用達(dá)到提升沉積速率的目的,可由一般的沉積速率2?/s提升到2.5??/s~3?/s,大大提升了薄膜太陽(yáng)電池生產(chǎn)產(chǎn)能。由于Ar的輔助,在正常沉積薄膜時(shí)可以大大降低高頻電源的功率,功率密度由一般的0.3W/cm2降低為0.15?W/cm2~0.25W/cm2。從而達(dá)到了提升產(chǎn)能、降低生產(chǎn)成本的目的。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例一,
高速沉積制造薄膜太陽(yáng)電池的方法,在沉積薄膜電池層時(shí)加入輔助氣體Ar,達(dá)到快速、高效、低成本制造薄膜太陽(yáng)電池的目的,其具體包括以下步驟:
1)??????????用LPCVD或磁控濺射在玻璃基板上制備TCO;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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