[發明專利]提高7350光刻膠熱穩定性的方法

有效

• 申請號: 201110217319.6
• 申請日: 2011-08-01
• 公開（公告）號: CN102253601A
• 公開（公告）日: 2011-11-23
• 發明（設計）人: 張國華;陳杰;陳正才;李俊
• 申請（專利權）人: 無錫中微晶園電子有限公司
• 主分類號: G03F7/14
• 分類號: G03F7/14;G03F7/00
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所 32104
• 代理人: 曹祖良

技術領域

本發明涉及一種提高熱穩定性的方法，尤其是一種提高7350光刻膠熱穩定性的方法，具體地說利用7350光刻膠刻蝕0.5μm金屬條的方法。

背景技術

7350?光刻膠是正性光刻膠，主要由樹脂、感光劑、及溶劑等不同的材料混合而成的。所述7350光刻膠的特點是分辨率高，但熱穩定性差。在130℃以上溫度烘烤時，7350光刻膠將軟化并產生形變，所以無法作為金屬腐蝕的掩膜在RIE（反應離子刻蝕）金屬等離子設備刻蝕出0.5um的金屬條；但是在RIE設備刻蝕0.5μm金屬條必須采用7350光刻膠。為了增加7350光刻膠的熱穩定性，通常需要對光刻膠堅膜，7350光刻膠使用UV堅膜，使光刻膠樹脂發生交聯形成一層薄的表面硬殼，增加光刻膠的熱穩定性，耐溫可提高到130℃，但仍不能作為掩膜在RIE設備腐蝕金屬。

發明內容

本發明的目的是克服現有技術中存在的不足，提供一種提高7350光刻膠熱穩定性的方法，其能使7350光刻膠在RIE設備中作為掩膜刻蝕金屬條，工藝步驟簡單，實用性強。

按照本發明提供的技術方案，一種提高7350光刻膠熱穩定性的方法，所述方法包括如下步驟：

a、第一次UV堅膜：將帶有7350光刻膠的圓片放置于堅膜設備內堅膜，所述7350光刻膠上刻蝕出相應的圖案；堅膜起始溫度為100℃~110℃；起始溫度保持時間為80~90秒，然后在47~53秒時間內使堅膜設備內圓片及7350光刻膠的溫度升至123℃~137℃；

b、取片：將圓片移出堅膜設備，并使圓片的溫度降至常溫狀態；

c、第二次UV堅膜：將上述圓片再次放置于堅膜設備內堅膜，堅膜起始溫度為114℃~126℃，其實溫度保持時間為44~50秒；然后在95~105秒內使堅膜設備內圓片及7350光刻膠的溫度升至190℃~210℃；

d、取片：將上述圓片移出堅膜設備。

將上述得到的圓片及位于圓片上的7350光刻膠放置于RIE金屬腐蝕設備上，通過7350光刻膠的掩膜作用，刻蝕出圓片上的金屬條。

本發明的優點：通過第一次UV堅膜工藝，使7350光刻膠內大部分溶劑揮發，并通過第二次UV堅膜工藝，使7350光刻膠變硬，以滿足7350光刻膠作為掩膜的要求，能夠完成0.5μm金屬條刻蝕的要求；與常規的堅膜設備兼容，不增加其它設備；工藝簡單，實用性強；擴大了AMAT?P5000MXP的使用范圍。

具體實施方式

下面結合具體實施例對本發明作進一步說明。

為了使7350光刻膠能夠適應RIE刻蝕設備的掩膜需要，滿足金屬層刻蝕要求，通過下述工藝步驟實現：

a、第一次UV堅膜：將帶有7350光刻膠的圓片放置于堅膜設備內堅膜，所述7350光刻膠上刻蝕出相應的圖案；堅膜起始溫度為105℃；起始溫度保持時間為85秒，然后在50秒時間內使堅膜設備內圓片及7350光刻膠的溫度升至130℃；UV堅膜設備可以采用Fusion?Bake；其中，在50秒時間內升溫過程中，UV堅膜設備上UV燈開關次序是：全開5秒、關20秒、半開20秒、全開20秒、關20秒、半開20秒，全開30秒；上述時間和溫度值均可以在5%范圍內波動；

b、取片：將圓片移出堅膜設備，并使圓片的溫度降至常溫狀態；圓片及其上的7350光刻膠的溫度從130℃降至常溫后，能夠用于后續加工需要；

c、第二次UV堅膜：將上述圓片再次放置于堅膜設備內堅膜，堅膜起始溫度為120℃，其實溫度保持時間為47秒；然后在100秒內使堅膜設備內圓片及7350光刻膠的溫度升至200℃；其中，在100秒時間內升溫過程中，UV堅膜設備上UV燈開關次序是：全開7秒、關20秒、半開20秒、全開20秒、關20秒、半開20秒，全開40秒；上述時間和溫度值均可以在5%范圍內波動；

d、取片：將上述圓片移出堅膜設備。

在RIE設備刻蝕0.5um的金屬條必須采用7350光刻膠，本發明通過第一次UV堅膜時采用溫度低于130℃下完成，主要是讓7350光刻膠內的大部分溶劑揮發；且第二次UV堅膜時采用200℃下完成，主要使7350光刻膠變硬，熱穩定性得以提高；能夠滿足7350光刻膠在RIE刻蝕設備上作為掩膜的要求。