[發明專利]提高7350光刻膠熱穩定性的方法有效
| 申請號： | 201110217319.6 | 申請日： | 2011-08-01 |
| 公開（公告）號： | CN102253601A | 公開（公告）日： | 2011-11-23 |
| 發明（設計）人： | 張國華;陳杰;陳正才;李俊 | 申請（專利權）人： | 無錫中微晶園電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/14 | 分類號： | G03F7/14;G03F7/00 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標事務所 32104 | 代理人： | 曹祖良 |
| 地址： | 214028 江蘇省無錫市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 提高 7350 光刻 熱穩定性 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種提高7350光刻膠熱穩定性的方法，其特征是，所述方法包括如下步驟：
（a）、第一次UV堅膜：將帶有7350光刻膠的圓片放置于堅膜設備內堅膜，所述7350光刻膠上刻蝕出相應的圖案；堅膜起始溫度為100℃~110℃；起始溫度保持時間為80~90秒，然后在47~53秒時間內使堅膜設備內圓片及7350光刻膠的溫度升至123℃~137℃；
（b）、取片：將圓片移出堅膜設備，并使圓片的溫度降至常溫狀態；
（c）、第二次UV堅膜：將上述圓片再次放置于堅膜設備內堅膜，堅膜起始溫度為114℃~126℃，其實溫度保持時間為44~50秒；然后在95~105秒內使堅膜設備內圓片及7350光刻膠的溫度升至190℃~210℃；
（d）、取片：將上述圓片移出堅膜設備。
2.根據權利要求1所述提高7350光刻膠熱穩定性的方法，其特征是：將上述得到的圓片及位于圓片上的7350光刻膠放置于ECR金屬腐蝕設備上，通過7350光刻膠的掩膜作用，刻蝕出圓片上的金屬層。
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