[發明專利]微影投射設備、氣體洗滌方法、裝置制造方法及洗滌氣體的供應系統

無效

• 申請號: 201110211100.5
• 申請日: 2007-03-28
• 公開（公告）號: CN102298270A
• 公開（公告）日: 2011-12-28
• 發明（設計）人: 羅瑟·J.·霍姆斯;約翰·E.·皮萊恩
• 申請（專利權）人: 恩特格林斯公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;黃燦

本申請是原申請的申請日為2007年3月28日，申請號為2007800115338，發明名稱為《微影投射設備、氣體洗滌方法、裝置制造方法及洗滌氣體的供應系統》的中國專利申請的分案申請。

本申請案主張2006年4月3日提出申請的美國專利申請案第11/396,823號的利益，且為此美國申請案的連續案；本申請案主張2003年7月21日提出申請的美國專利申請案第10/623,180號的利益，且為此美國申請案的部分連續申請案；且本申請案主張2004年7月21日提出申請的國際專利申請案第PCT/US2004/023490號的利益，且為該國際申請案的部分連續申請案；且本申請案主張2004年7月21日提出申請的美國專利申請案第10/565,486號的利益，且為該美國申請案的部分連續申請案；這些申請案的內容整體以參考的方式加入本文之中。

背景技術

出現在一種微影投射設備的組件的表面于使用期間會逐漸受到污染，即使該設備大部分是在真空下操作也是如此。特別是，在微影投射設備中例如反射鏡的光學元件的污染對于該設備的操作方面會有不利的影響，因為此種污染影響到光學元件的光學特性。

微影投射設備的光學元件污染已知會藉由用一種超高純度的氣體洗滌微影投射設備的空間而降低，此種光學元件位在該空間中，該超高純度的氣體被稱為洗滌氣體。該洗滌氣體防止表面的污染，例如，受到碳氫化合物的分子污染。

這種方法的其中一項缺點是：洗滌氣體對用于微影制程的化學活性方面會有不利的影響。因此，需要一種修改的洗滌氣體，其能夠降低在微影投射系統中光學元件的污染，但是卻不會對用于微影制程的化學活性方面有不利的影響。

發明內容

本發明含有一個微影投射設備，其可以包括：一個照明器與一個支撐結構，該照明器被建構來提供一道輻射束，而該支撐結構則被建構來支撐一個圖案成形裝置。圖案成形裝置被建構來依據一個想要的圖案使一道投射束形成圖案。一個基板平臺被建構來握持一個基板。一個投射系統被建構來投射被圖案成形過的光束到該基板的目標部分上。至少一個洗滌氣體供應系統被建構來將一種洗滌氣體提供到至少部分的微影投射設備。該至少一個洗滌氣體供應系統具有一個洗滌氣體混合物產生器，而該洗滌氣體混合物產生器則包括：一個蒸發器，其被建構來將蒸氣加入到一種洗滌氣體中，以形成一種洗滌氣體混合物。在某些變化形式中，該洗滌氣體主要由該洗滌氣體與一種來自可蒸發液體的蒸氣所組成。在某些實施例中，該洗滌氣體混合物能夠包括：一種洗滌氣體與一種來自可蒸發液體的蒸氣。該可蒸發液體形成一種在該洗滌氣體中未受到污染的蒸氣，而該混合物被用來降低或減少在微影投射設備中的光學元件的污染，同時維持在一個基板的上的披覆物的化學活性。一個洗滌氣體混合物出口被連接到洗滌氣體混合物產生器，并且能夠被建構來將洗滌氣體混合物供應到至少部分的微影投射設備。在該洗滌氣體混合物產生器中的蒸發器是在高流率下將蒸氣加入到洗滌氣體中，而不會對該洗滌氣體造成超過1ppt(每兆分之一)的污染物。在某些實施例中，在洗滌氣體混合物產生器中的蒸發器是在高流率下將蒸氣加入到洗滌氣體中，而不會對該洗滌氣體造成超過1ppb(每十億分之一)的污染物，1ppb的污染物降低在微影投射系統中光學元件的光學特性。

本發明的一個方面是提供一種改良式微影投射設備，特別是使用某種洗滌氣體就能夠降低污染物，而不會影響光阻劑顯影的一種微影投射設備。

依據本發明的一個方面，一種微影投射設備包括：一個照明器與一個支撐結構，該照明器被建構來提供一道輻射束，而該支撐結構被建構來支撐一個圖案成形裝置。該圖案成形裝置被建構以依據一個想要的圖案來使一道投射束形成圖案。一個基板平臺被建構來握持一個基板。一個投射系統被建構來投射被圖案成形過的光束到該基板的目標部分的上。至少一個洗滌氣體供應系統被建構來將一種洗滌氣體提供到至少部分的微影投射設備。該至少一個洗滌氣體供應系統具有一個洗滌氣體混合物產生器，而該洗滌氣體混合物產生器則包括：一個蒸發器，或者該蒸發器被建構來將濕氣加入到一種洗滌氣體中。該洗滌氣體混合物產生器被建構來產生一種洗滌氣體混合物。該洗滌氣體混合物包括：至少一種洗滌氣體與該濕氣。一個洗滌氣體混合物出口被連接到洗滌氣體混合物產生器，并且能夠被建構來將該洗滌氣體混合物供應到至少部分的微影投射設備。因此，存在著濕氣，而化學活性，例如，阻劑的顯影，并不會受到洗滌氣體混合物的影響。