[發(fā)明專利]光電探測器校準(zhǔn)裝置及其校準(zhǔn)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110204041.9 | 申請日: | 2011-07-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102890423A | 公開(公告)日: | 2013-01-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋平;馬明英 | 申請(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20;G01J1/42 |
| 代理公司: | 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光輝 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光電 探測器 校準(zhǔn) 裝置 及其 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光電測量領(lǐng)域,特別涉及一種光電探測器校準(zhǔn)裝置及其校準(zhǔn)方法。
背景技術(shù)
在光刻機(jī)系統(tǒng)中,光電探測器是光學(xué)系統(tǒng)中用來測量曝光光束的能量探測器。一般情況下,照明系統(tǒng)有兩個(gè)光束光電探測器,一個(gè)在照明系統(tǒng)內(nèi)部,稱為劑量探測器,用以在曝光中動(dòng)態(tài)監(jiān)控光束能量,許多光刻機(jī)劑量控制均基于劑量探測器的測量值做反饋控制。另外一個(gè)在工件臺(tái)上,稱為光電探測器,用以在非曝光時(shí)測量視場輪廓和劑量。
光刻機(jī)中的光電探測器和劑量探測器的工作原理類似,都是采用特殊的晶體(比如YAG:CE晶體)把紫外光轉(zhuǎn)化為綠光,然后通過光電效應(yīng)把光信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào),進(jìn)而測量電信號(hào)的強(qiáng)度計(jì)算出能量探測器探測到的光束強(qiáng)度。
理想情況下,在硅片曝光過程中,工件臺(tái)Wafer表面的劑量要能被檢測和控制,然而不可能用放置在工件臺(tái)上的光電探測器在曝光時(shí)測量及控制,所以需要用劑量探測器在照明系統(tǒng)的前端來測量和控制光的劑量大??;工件臺(tái)上的光電探測器用來測量投影物鏡像方的光強(qiáng),在照明系統(tǒng)的多個(gè)測試中,都需要用光電探測器在曝光視場內(nèi)的指定位置對(duì)光強(qiáng)進(jìn)行采樣,在照明系統(tǒng)及劑量控制相關(guān)測試流程中,工件臺(tái)需要驅(qū)動(dòng)光電探測器到視場內(nèi)任意位置,利用該探測器可以進(jìn)行多種項(xiàng)目的測試:改變照明設(shè)置時(shí)用光電探測器校準(zhǔn)劑量探測器;測量照明均勻性;測量劑量的精度與重復(fù)性;測量照明視場尺寸;測量遠(yuǎn)心性,測量工件臺(tái)Wafer表面的雜散光等等;但通常情況下,工件臺(tái)上的光電探測器和劑量探測器,兩者測量結(jié)果不準(zhǔn)確,不能準(zhǔn)確的測量當(dāng)前實(shí)際光強(qiáng)大??;未經(jīng)過外部絕對(duì)探測器校正的劑量探測器和光電探測器的能量測量結(jié)果并不準(zhǔn)確,其影響在精密的劑量系統(tǒng)中無法被忽視,將直接導(dǎo)致劑量控制性能及工件臺(tái)Wafer表面能量準(zhǔn)確性失調(diào)到難以接受的地步。
解決上述問題通常的做法是:第一步,手動(dòng)將絕對(duì)探測器放置到工件臺(tái)有光區(qū)域,然后讀取絕對(duì)探測器的讀數(shù),再手動(dòng)拿走絕對(duì)探測器;第二步,驅(qū)動(dòng)工件臺(tái)上的被校準(zhǔn)光電探測器到有光區(qū)域,同時(shí)讀取該光電探測器的讀數(shù);第三步,根據(jù)測量結(jié)果計(jì)算絕對(duì)探測器和被校準(zhǔn)光電探測器之間的關(guān)系,完成校準(zhǔn)。但是,以上方法存在一定缺點(diǎn):1、手動(dòng)將絕對(duì)探測器放置在工件臺(tái)上,操作不方便,安全程度低,增加測試復(fù)雜性;絕對(duì)探測器實(shí)時(shí)標(biāo)定校準(zhǔn)時(shí),人為手動(dòng)放進(jìn)放出,對(duì)光刻系統(tǒng)環(huán)境污染較大;3、絕對(duì)探測器和被校準(zhǔn)光電探測器在分別測量時(shí),難以保證兩者在同一垂向最佳焦面測量光強(qiáng)大小,因而在校準(zhǔn)結(jié)果中,將由于焦面位置誤差導(dǎo)致光強(qiáng)測量的誤差引入測量結(jié)果中,使得測量結(jié)果不準(zhǔn)確。
由于光源的波動(dòng)性及穩(wěn)定性,絕對(duì)探測器和被校準(zhǔn)探測器測量光強(qiáng)不在同一時(shí)刻,絕對(duì)探測器和被校準(zhǔn)探測器測量光強(qiáng)不為同一束光的能量;則造成在兩次校準(zhǔn)時(shí),物鏡的透過率T發(fā)生變化,使得探測器測量到的光強(qiáng)發(fā)生變化,導(dǎo)致校準(zhǔn)結(jié)果不準(zhǔn)確,測量誤差較大。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問題是光電探測器校準(zhǔn)裝置與光電探測器同時(shí)對(duì)相同光束進(jìn)行測量。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種光電探測器校準(zhǔn)裝置,包括:
一種光電探測器校準(zhǔn)裝置,其特征在于,包括
分光棱鏡,位于所述光電探測器上方,所述光電探測器位于工件臺(tái)上,照明光通過所述分光棱鏡分為第一測量光和第二測量光;
絕對(duì)探測器,位于所述分光棱鏡一側(cè),所述第二測量光入射到所述絕對(duì)探測器,所述第一測量光入射到所述光電探測器;以及
處理單元,用于對(duì)所述絕對(duì)探測器測得的第二測量光光強(qiáng)和所述光電探測器測得的第一測量光光強(qiáng)進(jìn)行計(jì)算,建立所述光電探測器和所述絕對(duì)探測器的關(guān)系,校準(zhǔn)所述光電探測器的增益和偏置。
進(jìn)一步,水平向控制器控制所述分光棱鏡沿水平向移動(dòng)。
進(jìn)一步,執(zhí)行曝光校準(zhǔn)時(shí),所述水平向控制器通過可伸縮線纜驅(qū)動(dòng)所述分光棱鏡位于所述光電探測器正上方。
進(jìn)一步,垂向控制器控制所述絕對(duì)探測器沿垂向移動(dòng)。
進(jìn)一步,執(zhí)行曝光校準(zhǔn)時(shí),所述垂向控制器控制所述絕對(duì)探測器位于垂向最佳焦平面上。
進(jìn)一步,所述垂向控制器通過伸縮器驅(qū)動(dòng)所述絕對(duì)探測器沿垂直方向運(yùn)動(dòng)。
優(yōu)選的,照明光通過所述分光棱鏡分為50%光強(qiáng)的透射光和50%光強(qiáng)的反射光。
優(yōu)選的,所述第一測量光為透射光,所述第二測量光為反射光。
進(jìn)一步,還包括位于所述分光棱鏡上方的光束轉(zhuǎn)換晶體,所述照明光通過所述光束轉(zhuǎn)換晶體后入射到所述分光棱鏡。
進(jìn)一步,所述照明光為深紫外線光,通過所述光束轉(zhuǎn)換晶體轉(zhuǎn)換為可見光。
優(yōu)選的,所述光束轉(zhuǎn)換晶體為YAG:CE晶體。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海微電子裝備有限公司,未經(jīng)上海微電子裝備有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110204041.9/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:液體容器
- 下一篇:一種季銨鹽離子液體及其制備方法和應(yīng)用
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





