[發(fā)明專利]一種微孔復(fù)合聚合物電解質(zhì)及其制備方法和應(yīng)用

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110203319.0
• 申請(qǐng)日: 2011-07-20
• 公開（公告）號(hào): CN102888014A
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張鵬;王丹;何丹農(nóng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海納米技術(shù)及應(yīng)用國(guó)家工程研究中心有限公司
• 主分類號(hào): C08J9/00
• 分類號(hào): C08J9/00;C08L33/12;C08L33/20;C08L27/16;C08L5/08;C08L1/02;C08K3/22;C08K3/36;C08K3/24;H01M10/0565
• 代理公司: 上海東方易知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 31121
• 代理人: 唐莉莎

1.一種微孔復(fù)合聚合物膜的制備方法，其特征在于具體步驟如下：

（1）沉淀浴的制備：在溶劑中加入無(wú)機(jī)填料，并加入改性劑，攪拌形成均勻的溶液，超聲除去體系的氣泡后待用；其中無(wú)機(jī)填料在溶劑中分散的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%-30%，改性劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.5%-5%；

（2）將聚合物粉末溶解于溶劑中，超聲除去體系的氣泡后，取聚合物溶液在潔凈玻璃板上流延成膜，在預(yù)成膜溫度及濕度條件下預(yù)置一定時(shí)間，制成預(yù)成膜；將預(yù)成膜的聚合物溶液連同基底浸入沉淀浴中進(jìn)行相反轉(zhuǎn)過(guò)程，一定時(shí)間后，將聚合物膜取出，浸入去離子水中清洗后在真空條件下烘干，既得微孔復(fù)合聚合物膜；

其中所述的預(yù)成膜溫度為-10^oC-100^oC，預(yù)成膜濕度為30%-100%RH，預(yù)成膜時(shí)間為30秒-10小時(shí)；所述的相反轉(zhuǎn)過(guò)程的反應(yīng)溫度為0^oC-100^oC，反應(yīng)時(shí)間為5分鐘-10小時(shí)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微孔復(fù)合聚合物膜的制備方法，其特征在于步驟（1）所述的沉淀浴的溶劑為去離子水。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微孔復(fù)合聚合物膜的制備方法，其特征在于步驟（1）中所述的無(wú)機(jī)填料為無(wú)機(jī)氧化物、含鋰化合物、鐵電性物質(zhì)中的一種或其組合；粒徑為2納米-10微米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微孔復(fù)合聚合物膜的制備方法，其特征在于步驟（1）中所述的無(wú)機(jī)填料為無(wú)機(jī)氧化物，所述的無(wú)機(jī)氧化物為如二氧化鈦、二氧化硅、三氧化二鋁、氧化鋅、氧化鎂、氧化銅中的一種或其組合；所述的含鋰化合物為偏鋁酸鋰；所述的鐵電性物質(zhì)為如鈦酸鋇；無(wú)機(jī)填料粒徑為2納米-10微米。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微孔復(fù)合聚合物膜的制備方法，其特征在于步驟（1）中所述的改性劑為殼聚糖、纖維素、葡萄糖中的一種或其組合。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微孔復(fù)合聚合物膜的制備方法，其特征在于步驟（2）中所述的聚合物粉末為聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯腈、聚偏氟乙烯、聚偏氟乙烯-六氟丙烯共聚物中的一種或其組合的共混或共聚體系；所述的溶劑為所述的聚合物體系的良溶劑，為N-甲基吡咯烷酮（NMP）、N,N-二甲基甲酰胺中的一種或其組合；聚合物溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%-30%。

7.一種由權(quán)利要求書1~6之一所述的方法得到的微孔復(fù)合聚合物膜。

8.由權(quán)利要求書7所述的微孔復(fù)合聚合物膜作為聚合物電解質(zhì)基體在鋰離子電池等儲(chǔ)能體系的應(yīng)用。