[發(fā)明專利]在玻璃基板上制備膜層的方法及其玻璃基板、膜系結(jié)構(gòu)無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110199271.0 | 申請(qǐng)日: | 2011-07-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102351438A | 公開(公告)日: | 2012-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐日宏;詹達(dá)勇;郭永飛;羅高軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 |
| 主分類號(hào): | C03C17/36 | 分類號(hào): | C03C17/36;C03C17/22;B32B9/04;B32B17/00 |
| 代理公司: | 深圳市維邦知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 44269 | 代理人: | 黃莉 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 玻璃 基板上 制備 方法 及其 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域,尤其涉及一種在玻璃基板上制備膜層的方法、膜系結(jié)構(gòu)及鍍有膜層的玻璃基板。
背景技術(shù)
在目前的顯示領(lǐng)域,各種顯示器件層出不窮,如電視、電腦、戶外顯示屏、醫(yī)療儀器、攝像機(jī)、展示櫥窗玻璃等。而采用保護(hù)屏對(duì)顯示器件進(jìn)行保護(hù)是一種常用手段,一般的保護(hù)屏在玻璃基板上采用抗反射增透(AR)膜層,但是這種保護(hù)屏耐磨及抗劃傷能力弱,無法滿足產(chǎn)品的質(zhì)量要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例所要解決的技術(shù)問題在于,提供一種在玻璃基板上制備膜層的方法、膜系結(jié)構(gòu)及鍍有膜層的玻璃基板,以保證保護(hù)屏的質(zhì)量,耐磨及超硬抗劃傷能力強(qiáng)。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例提出了一種在玻璃基板上制備膜層的方法,包括:
在玻璃基板單面或雙面采用磁控濺射法生成抗反射增透混合膜層,該抗反射增透混合膜層為低折射率膜層與高折射率膜層的層疊結(jié)構(gòu);
采用磁控濺射法在所述抗反射增透混合膜層另一面生成氮化碳化合物膜層。
相應(yīng)地,本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種在玻璃基板上制備膜層的方法,包括:在玻璃基板單面或雙面采用磁控濺射法生成氮化碳化合物膜層。
相應(yīng)地,本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種膜系結(jié)構(gòu),包括抗反射增透混合膜層,以及生成于該抗反射增透膜層一面的氮化碳化合物膜層,所述抗反射增透混合膜層為低折射率膜層與高折射率膜層的層疊結(jié)構(gòu)。
相應(yīng)地,本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種鍍有膜層的玻璃基板,包括玻璃基板、采用磁控濺射法生成于該玻璃基板單面或雙面的抗反射增透混合膜層,以及采用磁控濺射法在所述抗反射增透混合膜層另一面生成氮化碳化合物膜層,其中,所述抗反射增透混合膜層為低折射率膜層與高折射率膜層的層疊結(jié)構(gòu)。
相應(yīng)地,本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種鍍有膜層的玻璃基板,包括玻璃基板、采用磁控濺射法生成于該玻璃基板單面或雙面的氮化碳化合物膜層。
本發(fā)明實(shí)施例通過提供一種在玻璃基板上制備膜層的方法、膜系結(jié)構(gòu)及鍍有膜層的玻璃基板,抗反射增透混合膜層氮化碳化合物膜層的采用保證了耐磨擦試驗(yàn)機(jī)1KG壓力下來回10000次磨擦不掉膜,是常規(guī)膜層的2000次5倍以上的磨擦壽命;鑰匙耐刮花測(cè)試10KG壓力50次來回未出現(xiàn)劃痕,鉛筆硬度測(cè)度表面硬度達(dá)到9H以上,膜層具有耐刮傷耐磨及超硬抗劃傷能力強(qiáng),抗反射增透混合膜層保證了97%以上的高透過率特性以及抗摩擦抗劃傷的超硬特性,延長(zhǎng)了保護(hù)屏的使用壽命,使其更加符合觸摸屏的應(yīng)用;在膜系設(shè)計(jì)上借用抗反射增透混合膜層的二氧化硅膜層補(bǔ)償玻璃基板成膜溫度,增加了氮化碳化合物膜層的結(jié)合力,避免了由于襯底和膜料應(yīng)力差較大而產(chǎn)生的破裂、剝落、成膜不均及硬度較低現(xiàn)象的產(chǎn)生;以真空度5.0E-3的高真空條件、100-160攝氏度的玻璃基板溫度、采用中頻電源、500-900瓦低濺射功率,以及氬氣、氧氣最佳比例的配合,作為二氧化硅膜層、五氧化二鈮膜層或二氧化鈦膜層的生成條件,并且,真空度5.0E-3的高真空條件、100-160攝氏度的玻璃基板溫度、采用中頻電源、500-900瓦低濺射功率,以氬氣、氧氣最佳比例的配合,作為氮化碳化合物膜層的生成條件,進(jìn)一步避免了氮化碳化合物膜層破裂、剝落現(xiàn)象的產(chǎn)生。?
附圖說明
圖1是本發(fā)明實(shí)施例的鍍有膜層的玻璃基板的第一種結(jié)構(gòu)圖。
圖2是本發(fā)明實(shí)施例的鍍有膜層的玻璃基板的第二種結(jié)構(gòu)圖。
圖3是本發(fā)明實(shí)施例的鍍有膜層的玻璃基板的第三種結(jié)構(gòu)圖。
圖4是本發(fā)明實(shí)施例的鍍有膜層的玻璃基板的第四種結(jié)構(gòu)圖。
圖5是本發(fā)明實(shí)施例的鍍有膜層的玻璃基板的第五種結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市三鑫精美特玻璃有限公司,未經(jīng)深圳市三鑫精美特玻璃有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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