[發(fā)明專利]高亮度便攜式場(chǎng)致發(fā)光三維地圖無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110198145.3 | 申請(qǐng)日: | 2011-07-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102280066A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-12-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 夏純運(yùn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 夏純運(yùn) |
| 主分類號(hào): | G09B29/00 | 分類號(hào): | G09B29/00;B32B33/00;B32B9/04;B32B15/20;B32B27/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 264006 山*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 亮度 便攜式 發(fā)光 三維 地圖 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光全息應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域,尤指高亮度便攜式場(chǎng)致發(fā)光三維地圖。?
背景技術(shù)
三維地圖已經(jīng)開(kāi)始趨于市場(chǎng)化,但復(fù)雜的圖案與亮度嚴(yán)重影響其市場(chǎng)化的進(jìn)程,該類產(chǎn)品在夜間更難識(shí)別,尤其難于滿足實(shí)戰(zhàn)和現(xiàn)場(chǎng)的指揮要求。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的旨在解決已有技術(shù)之不足,提供高亮度便攜場(chǎng)致發(fā)光三維地圖,本發(fā)明的解決方案為:將鐳射三維地圖與導(dǎo)電膜3通過(guò)粘接層I2進(jìn)行復(fù)合,然后再導(dǎo)電膜的絕緣層b上制作發(fā)光層4;再通過(guò)粘接層II5將上述制品與鍍鋁膜6復(fù)合;最后ITO導(dǎo)電層a和反光導(dǎo)電層6連線導(dǎo)線7和8,連接導(dǎo)線通過(guò)驅(qū)動(dòng)器g接通電池10,即為高亮度便攜式場(chǎng)致發(fā)光三維地圖。?
本發(fā)明高亮度便攜式場(chǎng)致發(fā)光三維地圖,亮度高,三維直觀,可卷可折;由于場(chǎng)致發(fā)光效率高,節(jié)能省電,故配置的驅(qū)動(dòng)器,電池體積小、重量輕,便于攜帶。?
附圖說(shuō)明
附圖為本發(fā)明高亮度便攜式場(chǎng)致發(fā)光三維地圖的結(jié)構(gòu)示意圖?
其中:?
1、鐳射三維地圖,2、粘接層I,3、導(dǎo)電膜(其中a為ITO導(dǎo)電層,b為絕緣層),4、發(fā)光層,5、粘結(jié)層II,6、鍍鋁薄膜(其中c為絕緣層,d為反光導(dǎo)電層),7、連接導(dǎo)線8、連接導(dǎo)線,9、驅(qū)動(dòng)器,10電池。?
具體實(shí)施方式
為了更好地理解與實(shí)施,下面結(jié)合附圖給出具體實(shí)施方式,詳細(xì)說(shuō)明高亮度便攜式場(chǎng)致發(fā)光三維地圖的制造方法:?
(1)使用激光照排、電鑄、翻鑄等復(fù)雜工藝制作的三維地圖金屬模板,再通過(guò)加熱、模壓制成帶有鐳射全息的PET、PVC、POPP等熱塑性塑料薄膜,即為鐳射三維地圖;?
(2)將鐳射三維地圖1通過(guò)粘接層I2與導(dǎo)電膜3復(fù)合;?
(3)在導(dǎo)電膜3的絕緣層b上通過(guò)印刷噴涂等方式制造發(fā)光層4;;?
(4)上述制品通過(guò)粘接層II5與鍍鋁薄膜6復(fù)合;?
(5)上述的粘接層I2和粘接層II5是透明的。?
(6)上述的制成品ITO導(dǎo)電層a和反光導(dǎo)電層d分別引出連接導(dǎo)線7和8,7和8通過(guò)驅(qū)動(dòng)器g連接電池10,即已支撐高亮度便攜式場(chǎng)致發(fā)光三維地圖。?
以上所述,實(shí)施方式僅僅是對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述,并非對(duì)本發(fā)明的范圍進(jìn)行限定,在不脫離本發(fā)明技術(shù)的精神的前提下,本領(lǐng)域工程技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作出的各種變形和改進(jìn),均應(yīng)落入本發(fā)明的權(quán)利要求書(shū)確定的保護(hù)范圍內(nèi)。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于夏純運(yùn),未經(jīng)夏純運(yùn)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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