[發明專利]基板檢查裝置以及基板檢查方法

無效

• 申請號: 201110196776.1
• 申請日: 2011-07-13
• 公開（公告）號: CN102331429A
• 公開（公告）日: 2012-01-25
• 發明（設計）人: 高木修
• 申請（專利權）人: 奧林巴斯株式會社
• 主分類號: G01N21/89
• 分類號: G01N21/89
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

技術領域

本發明涉及一種基板檢查裝置以及基板檢查方法。

背景技術

以往，在液晶顯示器(LCD：Liquid?Crystal?Display)、PDP(Plasma?Display?Panel：等離子體顯示板)、有機EL(ElectroLuminescence：電致發光)顯示器、表面傳導電子發射元件顯示器(SED：Surface-conduction?Electron-emitter?Display)等FPD(Flat?Panel?Display：平板顯示器)基板、半導體晶圓、印刷基板等各種基板的制造中，為了提高其成品率，在進行圖案形成工藝(Patterning?process)后，逐個檢查是否存在布線的短路、連接不良、斷線、圖案不良等圖案形成錯誤。在這種基板檢查中，首先，使用線掃描攝像機、CCD攝像機等來檢測基板表面上存在的缺陷(缺陷檢測檢查)，之后，通過CCD攝像機等復檢(review)攝像機來獲取檢測到的缺陷的放大圖像(缺陷復檢)。

專利文獻1：日本特開2000-9661號公報

發明內容

發明要解決的問題

然而，在上述現有技術中，存在以下問題：由于對一個基板結束缺陷檢查后對該基板進行缺陷的復檢，因此完成全部檢查所需時間很長。另外，通過限制缺陷的復檢時間也能夠抑制完成檢查所需的時間的增加，但在這種情況下，產生以下問題：由于實際上限制了成為缺陷復檢的對象的缺陷的數量，因此不能進行詳細的缺陷復檢。

因此，本發明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種能夠抑制完成檢查所需的時間增加的同時進行詳細的缺陷復檢的基板檢查裝置以及基板檢查方法。

用于解決問題的方案

為了達到上述目的，本發明的基板檢查裝置的特征在于，具備：輸送部，其向第一方向輸送基板；缺陷檢測部，其對向上述第一方向輸送過程中的上述基板的缺陷進行檢測；以及圖像獲取部，其在上述輸送過程中獲取由上述缺陷檢測部檢測到的缺陷的圖像。

另外，本發明的基板檢查方法的特征在于，包括：第一輸送步驟，其向第一方向輸送基板；缺陷檢測步驟，其對在上述第一輸送步驟中向上述第一方向輸送過程中的上述基板的缺陷進行檢測；以及圖像獲取步驟，其在上述第一輸送步驟的上述輸送過程中，獲取在上述缺陷檢測步驟中檢測到的缺陷的圖像。

發明的效果

根據本發明，與對基板進行的缺陷檢測并行地獲取該檢測到的缺陷的圖像，因此無需針對一個基板增加生產節拍(takt?time)就能夠獲得更多的缺陷的圖像。其結果是能夠實現一種能夠抑制完成檢查所需的時間增加的同時進行詳細的缺陷復檢的基板檢查裝置以及基板檢查方法。

附圖說明

圖1是表示一個實施方式的基板檢查裝置的概要結構的立體圖。

圖2是表示實施方式中的線掃描攝像機的拍攝范圍與復檢攝像機的可移動范圍的關系的一例的示意圖。

圖3是表示實施方式中的線掃描攝像機的拍攝范圍與復檢攝像機的可移動范圍的關系的另一例的示意圖。

圖4是表示圖1所示的基板檢查裝置的概要結構的俯視圖。

圖5是表示實施方式的基板檢查裝置的概要功能結構的框圖。

圖6是表示實施方式的基板檢查動作的概要流程的流程圖。

圖7是表示實施方式的缺陷檢測處理的概要流程的流程圖。

圖8是表示實施方式的缺陷復檢處理的概要流程的流程圖。

圖9是表示實施方式的折回缺陷復檢處理的概要流程的流程圖。

圖10是表示實施方式的框的其它概要結構的俯視圖。

附圖標記說明