[發(fā)明專利]化學(xué)鈀金鍍膜結(jié)構(gòu)及其制作方法、銅線或鈀銅線接合的鈀金鍍膜封裝結(jié)構(gòu)及其封裝工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110192517.1 | 申請日: | 2011-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN102605359A | 公開(公告)日: | 2012-07-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林明宏;劉昆正;李英杰;邱國賓;郭蔡同 | 申請(專利權(quán))人: | 臺灣上村股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/42 | 分類號: | C23C18/42;B32B15/01;H01L23/00;H01L21/60 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 聞卿 |
| 地址: | 中國臺灣桃*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化學(xué) 鍍膜 結(jié)構(gòu) 及其 制作方法 銅線 接合 封裝 工藝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明有關(guān)焊墊表面保護(hù)層,特別是化學(xué)鈀金鍍膜所成保護(hù)層,亦有關(guān)其制作方法。此外,本發(fā)明亦有關(guān)封裝工藝及其結(jié)構(gòu),特別是銅線或鈀銅線的封裝工藝及其結(jié)構(gòu)。?
背景技術(shù)
在晶圓、液晶顯示器基板、陶瓷基板、鋁基板、IC載板與印刷電路板等電子工業(yè)零件的封裝工藝上,需于構(gòu)成電性連接的焊墊表面上形成一化鎳金層,以提升打線與焊墊在焊接上的接合性與耐蝕性。但在焊墊上形成鎳層后進(jìn)行無電解鍍金以形成金層時,鎳與金的取代反應(yīng)會對鎳層中所析出粒子的粒界部分進(jìn)行強(qiáng)烈的選擇性攻擊,導(dǎo)致金層下方形成殘缺部分而產(chǎn)生蝕孔,相對的鎳層將變的脆弱,在焊接時將無法確保充分的焊接接合強(qiáng)度。?
因此,化鎳鈀金工藝被提出,以經(jīng)由鈀層來解決金對鎳強(qiáng)烈攻擊現(xiàn)象,化鎳鈀金工藝雖然可以解決上述問題,但鎳層的存在卻導(dǎo)致硬度增加,使得后續(xù)無法順利打線接合銅線或者銅鈀線。?
有鑒于此,本發(fā)明針對上述已知技術(shù)的缺失,提出一種嶄新的化學(xué)鈀金鍍膜結(jié)構(gòu)及其制作方法、銅線或鈀銅線接合的鈀金鍍膜封裝結(jié)構(gòu)及其封裝工藝,以有效克服上述的這些問題。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供化學(xué)鈀金鍍膜結(jié)構(gòu)及其制作方法,其能應(yīng)用于較為低階但線路密集度高的電子產(chǎn)品封裝工藝上。?
本發(fā)明的另一目的在于提供化學(xué)鈀金鍍膜結(jié)構(gòu)及其制作方法,本發(fā)明的結(jié)構(gòu)及其制作方法沒有使用鎳層,能提升銅線或銅鈀線與焊墊的接合可靠度,并可減低成?本。?
本發(fā)明的另一主要目的在于提供一種將上述化學(xué)鈀金鍍膜結(jié)構(gòu)與銅線或鈀銅線接合的封裝結(jié)構(gòu)及其工藝,本發(fā)明的結(jié)構(gòu)及其制作工藝沒有使用鎳層,能提升銅線或銅鈀線與焊墊的接合可靠度,并可減低成本。?
本發(fā)明的另一目的在于提供一種銅線或鈀銅線的封裝工藝及其結(jié)構(gòu),其能應(yīng)用于較為低階但線路密集度高的電子產(chǎn)品封裝工藝上。?
本發(fā)明的另一目的在于提供銅線或鈀銅線封裝工藝產(chǎn)品一種可作業(yè)的新表面處理。
為達(dá)上述的目的,本發(fā)明提供一種化學(xué)鈀金鍍膜結(jié)構(gòu),其位于一焊墊上,此化學(xué)鈀金鍍膜包含有一位于焊墊上的鈀鍍層;以及一位于鈀鍍層上的金鍍層。?
本發(fā)明還提供一種化學(xué)鈀金鍍膜的制作方法,包括提供一焊墊,于焊墊上形成一鈀鍍層,以及于鈀鍍層上形成一金鍍層。較佳地,鈀鍍層為利用置換反應(yīng)于焊墊上形成的置換型鈀鍍層,更佳地,再于置換型鈀鍍層上利用還原反應(yīng)形成還原型鈀鍍層。較佳地,金鍍層為利用置換型、還原型或者半置換半還原型反應(yīng)于鈀鍍層上形成。?
本發(fā)明還提供另一種化學(xué)鈀金鍍膜的制作方法,包括提供一焊墊,使用一兼具觸媒鈀與化學(xué)鈀效用的溶液同時進(jìn)行置換與還原反應(yīng),以于焊墊上形成一鈀鍍層。最后,利用置換型、還原型或者半置換半還原型反應(yīng)于鈀鍍層上形成一金鍍層。?
本發(fā)明還提供一種上述化學(xué)鈀金鍍膜結(jié)構(gòu)與銅線或鈀銅線接合的封裝結(jié)構(gòu),其包含有一焊墊;一位于焊墊上的鈀鍍層;一位于鈀鍍層上的金鍍層;以及一打線接合于金鍍層上的銅線或鈀銅線。?
本發(fā)明還提供一種銅線或鈀銅線的封裝工藝,其步驟包含有先提供一焊墊;接續(xù),于焊墊上形成一鈀鍍層;然后,于鈀鍍層上形成一金鍍層;最后,于金鍍層上打線接合一銅線或鈀銅線。?
其中,上述的鈀鍍層可以是利用置換反應(yīng)、或者置換反應(yīng)與還原反應(yīng)二階段來形成,或者是使用單一溶液同步進(jìn)行置換與還原反應(yīng)所形成。?
下面將藉由具體實(shí)施例的詳細(xì)說明,以便于更容易了解本發(fā)明的目的、技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)及其所達(dá)成的功效。?
在本發(fā)明說明中,除非另有不同表明,否則所有的量,包括用量、百分比、份?數(shù)、及比例,都理解以″約″字修飾,且各數(shù)量皆無意為任何有效位數(shù)的表示。?
除非另有不同表明,否則冠詞“一”意圖表示“一或多”。“包含”與“包括”等詞意圖作概括性表示,而且表示除所列成份、組件外還可有額外的成份、組件。?
附圖說明
圖1是本發(fā)明的化學(xué)鈀金鍍膜的第一種制作步驟流程圖。?
圖2是圖1的步驟所制得的化學(xué)鈀金鍍膜的結(jié)構(gòu)示意圖。?
圖3是本發(fā)明的化學(xué)鈀金鍍膜的第二種制作步驟流程圖。?
圖4是圖3的步驟所制得的化學(xué)鈀金鍍膜的結(jié)構(gòu)示意圖。?
圖5是本發(fā)明的化學(xué)鈀金鍍膜的第三種制作步驟流程圖。?
圖6是圖5的步驟所制得的化學(xué)鈀金鍍膜的結(jié)構(gòu)示意圖。?
圖7是本發(fā)明的銅線或鈀銅線的封裝結(jié)構(gòu)的示意圖。?
圖8是本發(fā)明的銅線或鈀銅線的封裝工藝的第一種工藝步驟流程圖。?
圖9是圖8的步驟所制得的銅線或鈀銅線的封裝結(jié)構(gòu)示意圖。?
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理
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