[發明專利]改性共軛二烯系聚合物及其制造方法有效
| 申請號: | 201110191574.8 | 申請日: | 2007-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN102344513A | 公開(公告)日: | 2012-02-08 |
| 發明(設計)人: | 福岡亮子;山田春夫;石村德房 | 申請(專利權)人: | 旭化成化學株式會社 |
| 主分類號: | C08F36/04 | 分類號: | C08F36/04;C08F8/42;C08F8/32;C08L9/00;B60C1/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香蘭 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 改性 共軛 二烯系 聚合物 及其 制造 方法 | ||
1.一種改性共軛二烯系聚合物,其特征在于,該改性共軛二烯系聚合物在將共軛二烯化合物聚合所得到的共軛二烯系聚合物或將共軛二烯化合物與芳香族乙烯基化合物共聚所得到的共軛二烯系聚合物上結合有改性基團,該改性基團基于分子中具有2個以上叔氨基和1個以上烷氧基甲硅烷基的低分子化合物,并且,該改性共軛二烯系聚合物的活性末端被多官能性改性劑偶合。
2.如權利要求1所述的改性共軛二烯系聚合物,其中,所述多官能性改性劑是分子中含有氨基的縮水甘油基化合物。
3.如權利要求1所述的改性共軛二烯系聚合物,其中,該改性共軛二烯系聚合物以如下通式(1)、通式(2)或通式(3)表示:
通式(1)中,P是共軛二烯系聚合物;R1、R2是碳原子數為1~12的烴基,其中存在或不存在不飽和鍵,并且R1、R2相同或不同;R3是碳原子數為1~20的烴基,其中存在或不存在不飽和鍵;R4、R5、R6、R7是碳原子數為1~20的烴基或取代有含有Si、O或N且不具有活性氫的有機基的碳原子數為1~20的烴基,其中存在或不存在不飽和鍵,并且R4、R5、R6、R7相同或不同;f是1~2的整數,d是1~2的整數,e是0~1的整數,并且d+e+f=3;
通式(2)中,P、R1、R3、R4、d、e、f的定義與通式(1)中相同;R8、R9是碳原子數為1~6的脂肪族烴基,其中存在或不存在不飽和鍵,并且R8、R9相同或不同;R10是碳原子數為1~20的烴基或取代有含有Si、O或N且不具有活性氫的有機基的碳原子數為1~20的烴基,其中存在或不存在不飽和鍵;
通式(3)中,P、R3、R4、R7、d、e、f的定義與通式(1)中相同,R8、R10的定義與通式(2)中相同,R11是碳原子數為1~6的烴基。
4.如權利要求1所述的改性共軛二烯系聚合物,其中,該改性共軛二烯系聚合物以如下通式(4)表示:
通式(4)中,P、R3、R5、R6的定義與通式(1)中相同;R12、R13是碳原子數為1~12的烴基,其中存在或不存在不飽和鍵,且R12、R13相同或不同;R14、R15是碳原子數為1~20的烴基或取代有含有Si、O或N且不具有活性氫的有機基的碳原子數為1~20的烴基,其中存在或不存在不飽和鍵,并且R14、R15相同或不同。
5.如權利要求3所述的改性共軛二烯系聚合物,其中,通式(1)、通式(2)或通式(3)中,R4是碳原子數為1~20的烴基,并且該烴基中存在或不存在不飽和鍵。
6.一種改性共軛二烯系聚合物的制造方法,其特征在于,使用堿金屬系引發劑和/或堿土金屬系引發劑,在烴溶劑中使共軛二烯化合物聚合或者使共軛二烯化合物與芳香族乙烯基化合物共聚,然后使所得到的聚合物的活性末端與分子中具有2個以上叔氨基和1個以上烷氧基甲硅烷基的低分子化合物反應。
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