[發明專利]一種廣視角液晶顯示器的電極絕緣層的制作方法

有效

• 申請號: 201110191057.0
• 申請日: 2011-07-08
• 公開（公告）號: CN102244036A
• 公開（公告）日: 2011-11-16
• 發明（設計）人: 郝付潑;謝凡;胡君文;于春崎;李建華;何基強
• 申請（專利權）人: 信利半導體有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;H01L21/31;G02F1/1362
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 逯長明

1.一種廣視角液晶顯示器的電極絕緣層的制作方法，其特征在于，包括：

提供完成像素電極或通用電極制作的陣列基板；

在所述陣列基板上制作具有絕緣性質的第一絕緣膜；

在所述第一絕緣膜上制作具有絕緣性質的絕緣膜以生成預設厚度的電極絕緣層。

2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一絕緣膜的厚度小于所述電極絕緣層的厚度。

3.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述陣列基板上制作具有絕緣性質的第一絕緣膜，包括：

采用化學氣相沉積技術在所述陣列基板上沉積具有絕緣性質的第一絕緣膜；

或，采用物理濺射沉積的方式在所述陣列基板上沉積具有絕緣性質的第一絕緣膜；

或，采用狹縫涂布的方式在所述陣列基板上制作具有絕緣性質的第一絕緣膜；

或，采用旋轉涂布的方式在所述陣列基板上制作具有絕緣性質的第一絕緣膜。

4.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述第一絕緣膜上制作具有絕緣性質的絕緣膜，包括：

采用化學氣相沉積技術在所述第一絕緣膜上沉積具有絕緣性質的絕緣膜；

或，采用物理濺射沉積的方式在所述第一絕緣膜上沉積具有絕緣性質的絕緣膜；

或，采用狹縫涂布的方式在所述第一絕緣膜上制作具有絕緣性質的第一絕緣膜；

或，采用旋轉涂布的方式在所述第一絕緣膜上制作具有絕緣性質的第一絕緣膜。

5.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述第一絕緣膜上制作具有絕緣性質的絕緣膜以生成具有預設厚度的電極絕緣層，包括：

在所述第一絕緣膜上通過一次或多次制作具有絕緣性質的絕緣膜來生成預設厚度的電極絕緣層。

6.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述陣列基板上制作具有絕緣性質的第一絕緣膜之后，還包括：

清潔所述第一絕緣膜表面產生的導電微粒。

7.根據權利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述清潔所述第一絕緣膜表面產生的導電微粒，包括：

采用清潔溶劑、高壓水噴淋和/或超聲波振動來清洗沉積有所述第一絕緣膜的陣列基板，以減少第一絕緣膜上附著的導電微粒。

8.根據權利要求6所述的制作方法，其特征在于，當采用化學氣相沉積或物理濺射技術在所述陣列基板上制作所述第一絕緣膜時，所述清潔所述第一絕緣膜表面產生的導電微粒，包括：

采用氣體等離子體對所述第一絕緣膜進行清潔，以減少所述第一絕緣膜表面的導電微粒。

9.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，當在所述第一絕緣膜上通過多次制作具有絕緣性質的絕緣膜來生成預設厚度的電極絕緣層時，還包括：

每次在所述第一絕緣膜上生成一層具有絕緣性質的絕緣薄膜后，清潔所述在第一絕緣膜上制作生成的絕緣膜上附著的導電微粒，并繼續在已生成的絕緣膜上制作具有絕緣性質的絕緣膜直至生成預設厚度的電極絕緣層。

10.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，當在所述第一絕緣膜上通過制作一次具有絕緣性質的絕緣膜生成預設厚度的電極絕緣層時，所述第一絕緣膜的厚度小于或等于所述電極絕緣層厚度的1/2。