[發(fā)明專利]吳茱萸堿類化合物及其制備方法與應用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110188588.4 | 申請日: | 2011-07-07 |
| 公開(公告)號: | CN102311434A | 公開(公告)日: | 2012-01-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 盛春泉;張萬年;董國強;王勝正;繆震元;姚建忠;張永強;祝令建;莊春林 | 申請(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍第二軍醫(yī)大學 |
| 主分類號: | C07D471/14 | 分類號: | C07D471/14;A61K31/519;A61P35/00 |
| 代理公司: | 上海德昭知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31204 | 代理人: | 丁振英 |
| 地址: | 200433 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 吳茱萸 化合物 及其 制備 方法 應用 | ||
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及醫(yī)藥技術(shù)領域,具體涉及吳茱萸堿類化合物及其藥用鹽,以及它們的制備方法和用途。
背景技術(shù)
DNA拓撲異構(gòu)酶I(topoisomeraseI,TopoI)是細胞DNA復制、轉(zhuǎn)錄、重組和修復的必需酶,在腫瘤細胞中,尤其是結(jié)腸癌、子宮頸癌、卵巢癌等的TopoI含量大大高于正常組織,因此該類藥物對腫瘤細胞具有很高的選擇性。該酶的抑制劑現(xiàn)已被美國NCI列為重點研究的六大類抗腫瘤藥物之一。
喜樹堿是經(jīng)典的拓撲異構(gòu)酶I抑制劑,目前已有三個喜樹堿類化合物進入臨床使用,分別是依立替康(Irinotecan)、拓撲替康(Topotecan)和貝洛替康(Belotecan)。然而,該類化合物活性必需的內(nèi)酯結(jié)構(gòu)在人體內(nèi)過快的水解成無活性的羧酸鹽,而且水溶性差、毒性大。為了克服喜樹堿類化合物的缺陷,近年來先后獲得苯并菲啶類化合物、茚并異喹啉類、吲哚并咔唑類等非喜樹堿類拓撲異構(gòu)酶I抑制劑。
在前期研究中,本發(fā)明人針對拓撲異構(gòu)酶I的晶體結(jié)構(gòu)展開了虛擬高通量篩選研究,發(fā)現(xiàn)吳茱萸堿(Evodiamine)具有抑制拓撲異構(gòu)酶I的活性,并且在體外抗腫瘤活性中表現(xiàn)出中等的抗腫瘤活性(Guoqiang?Dong,Chunquan?Sheng.Selection?of?evodiamine?as?a?novel?topoisomerase?I?inhibitor?by?structure-based?virtual?screening?and?hit?optimization?of?evodiamine?derivatives?as?antitumor?agents,J.Med.Chem.2010,53(21):7521-7531.Evodiamine結(jié)構(gòu)式:C19H17N3O)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于通過對吳茱萸堿進行結(jié)構(gòu)修飾,得到一類具有較強抗腫瘤活性的吳茱萸堿衍生物。
本發(fā)明提供了一類新的吳茱萸堿類化合物(包括其消旋體,以及d-型或l-型異構(gòu)體)及其藥用鹽,該化合物的結(jié)構(gòu)如通式(I)所示:
吳茱萸堿母環(huán)上取代基可以是單取代,也可以是多取代,R1至R10取代基表述如下:
R1、R4獨立地表示下列基團:氫、鹵素、低級鹵代烷基、低級烷基、羥基、低級羥基烷基、低級烷氧基、低級鏈烯基、氨基、低級烷基氨基、硝基、低級硝基烷基、氰基、低級氰基烷基、酰胺基、低級酰胺基烷基、肼基、低級肼基烷基、疊氮基;
優(yōu)選R1、R4獨立地表示下列基團:氫、鹵素、低級烷基、羥基、低級烷氧基;
R2、R9獨立地表示下列基團:氫、鹵素、低級鹵代烷基、低級烷基、羥基、低級羥基烷基、低級烷氧基、氨基、低級烷基氨基、硝基、低級硝基烷基、氰基、低級氰基烷基、酰胺基、低級酰胺基烷基;
優(yōu)選R2、R9獨立地表示下列基團:氫、鹵素、羥基、低級烷基、低級烷氧基、硝基、氨基、低級烷基氨基、低級鹵代烷基;
R3表示下列基團:氫、鹵素、低級鹵代烷基、低級烷基、羥基、低級羥基烷基、低級烷氧基、低級鏈烯基、低級鏈炔基、氨基、低級烷基氨基、低級鹵代烷基氨基、低級環(huán)烷基氨基、低級鏈炔基氨基、硝基、低級硝基烷基、氰基、低級氰基烷基、酰胺基、低級環(huán)烷基酰胺基、低級酰胺基烷基、肼基、低級肼基烷基、疊氮基、低級疊氮基烷基、NHR11或NHC(O)R11、取代或未取代的芳烷基或吡啶基,其中取代基是是低級烷基、羥基、鹵素、硝基、氨基、低級烷基氨基、低級鹵代烷基、低級羥基烷基、低級烷氧基、哌嗪基;
優(yōu)選R3表示下列基團:氫、鹵素、低級烷基、羥基、低級烷氧基、氨基、低級烷基氨基、低級鹵代烷基氨基、低級環(huán)烷基氨基、低級鏈炔基氨基、硝基、酰胺基、低級環(huán)烷基酰胺基、NHR11或NHC(O)R11、取代或未取代的芳烷基或吡啶基,其中取代基是是低級烷基、羥基、鹵素、硝基、氨基、低級烷基氨基、低級鹵代烷基、低級羥基烷基、低級烷氧基、哌嗪基;
R5表示下列基團:亞甲基、羰基、硫羰基;
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