[發明專利]光刻機掩模的對準掃描方法及對準信號處理方法

有效

• 申請號: 201110187358.6
• 申請日: 2011-07-05
• 公開（公告）號: CN102866603A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發明（設計）人: 陳小娟;李運鋒;趙正棟
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種光刻機掩模的對準掃描方法，其特征在于，所述掃描方法為依次進行X軸方向掃描、由X軸方向至Y軸方向的過渡掃描、Y軸方向掃描；其中所述X軸方向及Y軸方向的掃描速度、采樣點數為固定值，所述過渡掃描的掃描軌跡、掃描速度及采樣點數為隨機值。

2.一種光刻機掩模的對準信號處理方法，其特征在于，采用如權利要求1所述的對準掃描方法，所述X軸方向的采樣點數為N_x，所述Y軸方向的采樣點數為N_y，所述對準信號處理方法包括以下步驟：

步驟101：設定處理所述光刻機掩模對準信號所采用的擬合方程及擬合方程系數確定方程；

步驟102：計算已采樣點數n，獲得采樣點的位置數據和對應光強數據；

步驟103：確定X軸方向擬合方程系數和Y軸方向擬合方程系數，當n小于N_x，每獲得一采樣點，即對采樣點的位置數據中和對應光強數據進行累加計算和數字處理；當n等于N_x，完成X軸方向掃描，確定X軸方向擬合方程的系數；當n大于(N_x+N_y)，每獲得一采樣點，即第(n-N_x)個采樣點，對剩余采樣點的位置數據中和對應光強數據進行累加計算和數字處理；當掃描采集到標志結束的采樣點時，完成Y軸方向掃描，確定Y軸方向擬合方程的系數；

步驟104：帶入已確定X軸方向擬合方程系數和Y軸方向擬合方程系數，根據X軸方向擬合方程和Y軸方向擬合方程確定光強最大點，即確定X軸方向和Y軸方向對準位置。

3.如權利要求2所述的光刻機掩模的對準信號處理方法，其特征在于，在步驟102中，還包括對采樣點的位置數據和對應光強數據進行卷積濾波處理。

4.如權利要求2所述的光刻機掩模的對準信號處理方法，其特征在于，X軸方向的擬合方程為

I(x)＝β_x1x²+β_x2x+β_x3，其中

β_x1、β_x2、β_x3為X軸方向擬合方程的系數，x為位置數據，I(x)為對應光強數據。