[發(fā)明專利]具有饋線屏蔽裝置的供電裝置及其基板處理裝置

有效

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• 申請日: 2011-07-01
• 公開（公告）號: CN102315071A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 都在轍;全富一;宋明坤;李政洛
• 申請（專利權(quán)）人: 周星工程有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H05K9/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種屏蔽饋線電場為目的具有饋線屏蔽裝置的供電裝置及其基板處理裝置。

背景技術(shù)

通常，制造半導(dǎo)體元件、顯示裝置以及薄膜太陽能電池，需要經(jīng)過在基板上沉積特定物質(zhì)的薄膜沉積工序、使用感光性物質(zhì)曝光或隱蔽薄膜選擇區(qū)域的拍攝工序、去除所選區(qū)域的薄膜工序，進(jìn)行圖樣的蝕刻工序等。這些工序中，薄膜電鍍工序和蝕刻工序等是在優(yōu)化成真空狀態(tài)的基板處理裝置內(nèi)進(jìn)行。

通常來講，薄膜電鍍工序或蝕刻工序的關(guān)鍵是，通過等離子放電向基板均勻供應(yīng)活性化或離子化的工程氣體。但是，為了等離子放電采用一體型板電極或分為多數(shù)的分割電極時，由于各種因素難以維持反應(yīng)空間內(nèi)部等離子密度的均勻性。

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問題

為了解決上述的現(xiàn)有技術(shù)問題，防止饋線向外部釋放電場或受到外部電場的影響為目的，本發(fā)明旨在于提供具有屏蔽饋線裝置的供電裝置及其基板處理裝置。所述屏蔽饋線裝設(shè)置于連接RF電源和等離子源極的饋線。

本發(fā)明的另一個目的在于提供，在饋線和屏蔽裝置之間形成空間，并安裝將饋線所散發(fā)的熱量排放到外部的循環(huán)裝置的基板處理裝置。

技術(shù)方案

為了實現(xiàn)上述本發(fā)明的目的之一，本發(fā)明提供一種基板處理裝置，包括：腔室蓋子和腔室機(jī)身結(jié)合以提供反應(yīng)空間的工序腔室，設(shè)置在所述工序腔室內(nèi)部的源極，向所述源極供應(yīng)RF電源的RF電源，連結(jié)所述源極和所述RF電源的饋線以及包圍住所述饋線且屏蔽所述饋線。

所述基板處理裝置，其特征在于，所述饋線和所述屏蔽裝置之間形成有空間，還包括：循環(huán)所述空間內(nèi)空氣的循環(huán)裝置。

所述基板處理裝置，其特征在于，還包括：連結(jié)所述屏蔽裝置和所述腔室蓋子的接地線。

所述基板處理裝置，其特征在于，所述源極包括結(jié)合到所述腔室蓋子的多個等離子源極，并且所述多個等離子源極與RF電源并聯(lián)。

所述基板處理裝置，其特征在于，所述饋線包括：連結(jié)到所述RF電源的主饋線；從所述主饋線分支出的多個子饋線；連結(jié)到所述子饋線的多個連接線；以及連結(jié)所述多個連接線和所述多個等離子源極的多個饋桿，所述屏蔽裝置包括：屏蔽所述多個子饋線的第一屏蔽罩；以及屏蔽所述多個連接線和所述多個饋桿的多個第二屏蔽罩。

所述基板處理裝置，其特征在于，垂直于所述多個等離子源極長軸方向且經(jīng)過所述主饋線的直線為準(zhǔn)，所述多個饋桿對稱地兩列排列，其中，所述多個饋桿分別連接所述多個等離子源極的兩端。

所述基板處理裝置，其特征在于，所述主饋線和所述多個連接線垂直于所述腔室蓋子，所述多個子饋線平行于所述腔室蓋子，還包括：支撐所述多個子饋線的多個支撐裝置。

所述基板處理裝置，其特征在于，所述第一屏蔽罩包括下方部件和上方部件，其中，所述下方部件位于所述多個子饋線的下方，所述上方部件位于所述多個子饋線的上方且與所述下方部件結(jié)合。

所述基板處理裝置，其特征在于，所述第一屏蔽罩包括下方部件和上方部件，其中，所述下方部件位于所述多個子饋線的下方，所述上方部件位于所述多個子饋線的上方且與所述下方部件結(jié)合。

所述基板處理裝置，其特征在于，所述下方部件包括：所述多個子饋線所處的第一容納部，沿著所述第一容納部的外緣形成的第一隔板部，結(jié)合于所述第二屏蔽罩的連接部，以及用來支撐所述多個子饋線的支撐裝置所貫通的貫通孔，所述上方部件包括：位于所述多個子饋線上方的平臺部，以及循環(huán)孔，其中所述循環(huán)孔連接有所述饋線釋放的熱量排放到外部的循環(huán)裝置。

所述基板處理裝置，其特征在于，所述第一屏蔽罩是多個部分組裝而形成。

所述基板處理裝置，其特征在于，所述多個第二屏蔽罩分別包括：導(dǎo)管，形成有中空且所述多個連接線分別容納在所述中空內(nèi)；通行部，由所述導(dǎo)管的上部一部分切割而形成；連接部，設(shè)置在所述通行部的兩側(cè)且連結(jié)到所述第一屏蔽罩；以及連通部，由所述導(dǎo)管的下部一部分切割而形成。

為了實現(xiàn)上述本發(fā)明的目的之一，本發(fā)明提供一種向設(shè)置在工序腔室內(nèi)部的源極供應(yīng)RF電源的供電裝置，包括：向所述源極供應(yīng)RF電源的RF電源，連結(jié)所述源極和所述RF電源的饋線，以及包圍住所述饋線且屏蔽所述饋線電場的屏蔽裝置。

所述供電裝置，其特征在于，所述饋線和所述屏蔽裝置之間形成有空間，還包括：循環(huán)所述空間內(nèi)空氣的循環(huán)裝置。

有益效果