[發明專利]具有饋線屏蔽裝置的供電裝置及其基板處理裝置

有效

• 申請號: 201110185327.7
• 申請日: 2011-07-01
• 公開（公告）號: CN102315071A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 都在轍;全富一;宋明坤;李政洛
• 申請（專利權）人: 周星工程有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H05K9/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：

腔室蓋子和腔室機身結合以提供反應空間的工序腔室；

設置在所述工序腔室內部的源極；

向所述源極供應RF電源的RF電源；

連結所述源極和所述RF電源的饋線；以及

包圍住所述饋線且屏蔽所述饋線的電場的屏蔽裝置。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述饋線和所述屏蔽裝置之間形成有空間，還包括：

循環所述空間內空氣的循環裝置。

3.權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

連結所述屏蔽裝置和所述腔室蓋子的接地線。

4.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述源極包括結合到所述腔室蓋子的多個等離子源極，并且所述多個等離子源極與RF電源并聯。

5.根據權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述饋線包括：

連結到所述RF電源的主饋線；

從所述主饋線分支出的多個子饋線；

連結到所述子饋線的多個連接線；以及

連結所述多個連接線和所述多個等離子源極的多個饋桿，

所述屏蔽裝置包括：

屏蔽所述多個子饋線的第一屏蔽罩；以及

屏蔽所述多個連接線和所述多個饋桿的多個第二屏蔽罩。

6.根據權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，

垂直于所述多個等離子源極長軸方向且經過所述主饋線的直線為準，所述多個饋桿對稱地兩列排列，

其中，所述多個饋桿分別連接所述多個等離子源極的兩端。

7.根據權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述主饋線和所述多個連接線垂直于所述腔室蓋子，所述多個子饋線平行于所述腔室蓋子，還包括：

支撐所述多個子饋線的多個支撐裝置。

8.根據權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述第一屏蔽罩包括下方部件和上方部件，

其中，所述下方部件位于所述多個子饋線的下方，所述上方部件位于所述多個子饋線的上方且與所述下方部件結合。

9.根據權利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述下方部件包括：

所述多個子饋線所處的第一容納部；

沿著所述第一容納部的外緣形成的第一隔板部；

結合于所述第二屏蔽罩的連接部；以及

用來支撐所述多個子饋線的支撐裝置所貫通的貫通孔，

所述上方部件包括：

位于所述多個子饋線上方的平臺部；以及

循環孔，所述循環孔連接有所述饋線釋放的熱量排放到外部的循環裝置。

10.根據權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述第一屏蔽罩是多個部分組裝而形成。

11.根據權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述多個第二屏蔽罩分別包括：

導管，形成有中空且所述多個連接線分別容納在所述中空內；

通行部，由所述導管的上部一部分切割而形成；

連接部，設置在所述通行部的兩側且連結到所述第一屏蔽罩；以及

連通部，由所述導管的下部一部分切割而形成。

12.一種供電裝置，其特征在于，

向設置在工序腔室內部的源極供應RF電源的供電裝置，包括：

向所述源極供應RF電源的RF電源；

連結所述源極和所述RF電源的饋線；以及

包圍住所述饋線且屏蔽所述饋線電場的屏蔽裝置。

13.根據權利要求12所述的供電裝置，其特征在于，

所述饋線和所述屏蔽裝置之間形成有空間，還包括：

循環所述空間內空氣的循環裝置。