[發明專利]局部曝光裝置和局部曝光方法

有效

• 申請號: 201110184492.0
• 申請日: 2011-06-29
• 公開（公告）號: CN102314093A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 太田義治;森山茂;松村雄宣;田中茂喜
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種局部曝光裝置，其用于對形成在基板上的感光膜的規定區域進行曝光處理，該局部曝光裝置的特征在于，

其包括：

基板輸送部件，其用于形成基板輸送路徑，并將上述基板沿著上述基板輸送路徑水平地輸送；

腔室，其用于覆蓋上述基板輸送路徑的規定區間并且形成對上述基板進行曝光處理的空間；

光源，其具有多個的發光元件，能夠利用上述發光元件的發光對被在上述發光元件的下方輸送的基板上的感光膜照射光，該發光元件沿著與基板輸送方向相交叉的方向呈線狀地排列在上述腔室內且在上述基板輸送路徑的上方；

發光驅動部，其能夠將構成上述光源的多個的發光元件中的一個或者多個發光元件作為發光控制單元而選擇性地進行發光驅動；

基板檢測部件，其配置在上述基板輸送路徑的比上述光源靠上游側的位置，用于對被上述基板輸送部件輸送的上述基板進行檢測；

控制部，其被供給上述基板檢測部件的基板檢測信號，并且控制由上述發光驅動部對上述發光元件進行的驅動；

上述控制部對上述發光驅動部進行控制的方式如下所述：根據上述基板檢測部件的基板檢測信號與基板輸送速度來獲得基板輸送位置，形成在上述基板上的感光膜的規定區域通過上述光源的下方時，只有上述多個發光元件中的能夠向上述規定區域進行照射的發光元件發光。

2.一種局部曝光裝置，其用于對形成在基板上的感光膜的規定區域進行曝光處理，該局部曝光裝置的特征在于，

其包括：

腔室，其用于對形成有感光膜的上述基板進行收容并且形成對上述基板進行曝光處理的空間；

基板保持部件，其用于在上述腔室內保持上述基板；

光源，其具有多個發光元件，能夠利用上述發光元件的發光對被上述基板保持部件保持的基板上的感光膜照射光，該發光元件呈線狀地排列在上述腔室內的上述基板保持部件的上方；

發光驅動部，其能夠將構成上述光源的多個的發光元件中的一個或者多個發光元件作為發光控制單元而選擇性地進行發光驅動；

移動部件，其用于使上述多個發光元件與基板相對地進行平行移動；

控制部，其控制由上述發光驅動部對上述發光元件進行的驅動；

上述控制部對上述發光驅動部進行控制的方式如下所述：形成在上述基板上的感光膜的規定區域通過上述光源的下方時，只有上述多個發光元件中的能夠向上述規定區域進行照射的發光元件發光。

3.一種局部曝光裝置，其用于對形成在基板上的感光膜的規定區域進行曝光處理，該局部曝光裝置的特征在于，

其包括：

腔室，其用于對形成有感光膜的上述基板進行收容并且形成對上述基板進行曝光處理的空間；

基板保持部件，其用于在上述腔室內保持上述基板；

光源，其與被上述基板保持部件保持的上述基板的被處理面相對的發光面由多個的發光元件的集合體形成，能夠利用上述發光元件的發光對上述基板上的感光膜照射光；

發光驅動部，其能夠將構成上述光源的多個的發光元件中的一個或者多個發光元件作為發光控制單元而選擇性地進行發光驅動；

控制部，其控制由上述發光驅動部對上述發光元件進行的驅動；

上述控制部對上述發光驅動部進行控制的方式如下所述：在形成上述發光面的上述多個的發光元件中能夠向形成在上述基板上的感光膜的規定區域進行照射的發光元件發光。

4.根據權利要求1至3中的任意一項所述的局部曝光裝置，其特征在于，

利用上述發光驅動部使形成上述光源的多個的發光元件各自的發光的照度可變；

根據預先設定的照度對照射上述感光膜的規定區域的一個或者多個發光元件分別進行發光控制。

5.根據權利要求1至3中的任意一項所述的局部曝光裝置，其特征在于，

在上述光源的下方設有光擴散板；

從上述光源發出的光經由上述光擴散板對上述基板進行輻射。

6.根據權利要求1至3中的任意一項所述的局部曝光裝置，其特征在于，

該局部曝光裝置具有：

在上述光源的下方將上述發光元件的光變為平行光的部件；

將通過了形成該平行光的部件的光聚光為帶狀區域的光的部件；

從上述光源發出的光經由上述形成平行光的部件和上述聚光為帶狀區域的光的部件對上述基板進行輻射。