[發(fā)明專利]LED組件、LED封裝體和配線基板及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110176212.1 | 申請日: | 2011-06-21 |
| 公開(公告)號: | CN102315364A | 公開(公告)日: | 2012-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 今井升;野口雅弘;伊坂文哉;柴田明司;蘆立讓;鈴木亞季 | 申請(專利權(quán))人: | 日立電線株式會社 |
| 主分類號: | H01L33/48 | 分類號: | H01L33/48;H01L33/62;H01L33/64;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 鐘晶;於毓楨 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | led 組件 封裝 配線基板 及其 制造 方法 | ||
1.一種LED組件,其特征在于,具有:
至少第1面?zhèn)鹊牟ㄩL為450nm的光的全反射率為80%以上的電絕緣材料,貫通所述電絕緣材料的導(dǎo)通孔,
在所述電絕緣材料的第2面?zhèn)仍O(shè)置的配線圖案,以及
在所述導(dǎo)通孔內(nèi)設(shè)置的、與所述配線圖案電導(dǎo)通的金屬填充部;
在所述電絕緣材料的第1面?zhèn)惹宜鼋饘偬畛洳康谋砻嫔辖雍螸ED芯片,并對所述LED芯片進(jìn)行樹脂密封。
2.如權(quán)利要求1所述的LED組件,其特征在于,所述電絕緣材料的第1面?zhèn)葹榘咨?/p>
3.如權(quán)利要求1或2所述的LED組件,其特征在于,所述電絕緣材料至少包含白色絕緣材料、基材、粘接材料,或者至少包含白色基材、粘接材料。
4.如權(quán)利要求3所述的LED組件,其特征在于,所述基材或者白色基材含有聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯、環(huán)氧樹脂、芳香族聚酰胺中的任意一種樹脂。
5.如權(quán)利要求3或4所述的LED組件,其特征在于,所述基材或者白色基材的厚度為4μm以上75μm以下。
6.如權(quán)利要求1~5中任一項所述的LED組件,其特征在于,所述金屬填充部在前端具有0.1mm以上的平坦部。
7.如權(quán)利要求1~6中任一項所述的LED組件,其特征在于,所述金屬填充部利用電鍍銅而形成。
8.如權(quán)利要求1~7中任一項所述的LED組件,其特征在于,在所述金屬填充部的前端施加含有金、銀、鈀、鎳、錫中的任意一種元素的鍍層。
9.如權(quán)利要求1~8中任一項所述的LED組件,其特征在于,所述金屬填充部的截面形狀為:在從所述電絕緣材料的表面突出的部分中,具有比所述導(dǎo)通孔大的部分。
10.一種LED封裝體,其特征在于,以含有1個以上LED芯片的單位,將權(quán)利要求1~9所述的LED組件進(jìn)行單片化。
11.一種配線基板,其特征在于,具有:
至少第1面?zhèn)鹊牟ㄩL為450nm的光的全反射率為80%以上的電絕緣材料,貫通所述電絕緣材料的導(dǎo)通孔,
在所述電絕緣材料的第2面?zhèn)仍O(shè)置的銅配線圖案,以及
在所述導(dǎo)通孔內(nèi)、與所述銅配線圖案電導(dǎo)通的金屬填充部;
就所述電絕緣材料的第1面?zhèn)榷裕鼋饘偬畛洳繌乃鲭娊^緣材料露出。
12.如權(quán)利要求11所述的配線基板,其特征在于,所述電絕緣材料的第1面?zhèn)葹榘咨?/p>
13.如權(quán)利要求11或12所述的配線基板,其特征在于,所述電絕緣材料至少包含白色絕緣材料、基材、粘接材料,或者至少包含白色基材、粘接材料。
14.如權(quán)利要求13所述的配線基板,其特征在于,所述基材或者白色基材含有聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯、環(huán)氧樹脂、芳香族聚酰胺中的任意一種樹脂。
15.如權(quán)利要求13或14所述的配線基板,其特征在于,所述基材或白色基材的厚度為4μm以上75μm以下。
16.如權(quán)利要求11~15中任一項所述的配線基板,其特征在于,所述金屬填充部在前端具有0.1mm以上的平坦部。
17.如權(quán)利要求11~16中任一項所述的配線基板,其特征在于,所述金屬填充部利用電鍍銅而形成。
18.如權(quán)利要求11~17中任一項所述的配線基板,其特征在于,在所述金屬填充部的前端施加含有金、銀、鈀、鎳、錫中的任意一種元素的鍍層。
19.如權(quán)利要求11~18中任一項所述的配線基板,其特征在于,所述金屬填充部的截面形狀為:在從所述電絕緣材料的表面突出的部分中,具有比所述導(dǎo)通孔大的部分。
20.權(quán)利要求11~19中任一項所述的配線基板的制造方法,其特征在于,依次進(jìn)行以下工序:
在所述電絕緣材料上形成所述導(dǎo)通孔的工序;
在所述電絕緣材料的第2面?zhèn)葘訅航饘俨墓ば颍灰约?/p>
從所述電絕緣材料的第1面?zhèn)刃纬伤鼋饘偬畛洳康墓ば颉?!-- SIPO
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