[發(fā)明專利]一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110164555.6
• 申請日: 2011-06-17
• 公開（公告）號: CN102256449A
• 公開（公告）日: 2011-11-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鞏新勇
• 申請（專利權(quán)）人: 山東三新電子有限公司
• 主分類號: H05K3/28
• 分類號: H05K3/28;G01N5/04;G01B11/06
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• 代理人: 暫無信息

1.一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，包括以下步驟：

(1)除油，對裸銅印制板的表面進(jìn)行除油；

(2)微蝕，對裸銅印制板的表面進(jìn)行微蝕處理；

(3)酸洗，將裸銅印制板放入酸液中進(jìn)行酸洗；

(4)成膜，將裸銅印制板放入成膜液中進(jìn)行成膜處理；

(5)干燥，將進(jìn)行完成膜處理的裸銅印制板進(jìn)行干燥處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，所述除油和微蝕步驟后都要進(jìn)行二級水洗的步驟。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，所述酸洗和成膜步驟后都要進(jìn)行去離子水洗的步驟。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，所述去離子水洗步驟中使用的去離子水的PH值為4.0-7.0之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，所述成膜步驟中，成膜液的PH值為3.0-3.2之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，所述除油步驟內(nèi)還包括對除油效果的檢驗，檢驗的方法為對裸銅印制板進(jìn)行水洗，裸銅印制板表面形成水膜并且超過15秒不破裂則為合格。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，所述微蝕步驟中，微蝕厚度為1.0um-1.5um。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，所述微蝕步驟中還包含微蝕速率的測定，微蝕速率的測定方法為：

1)取厚雙面銅箔板，面積記為S(cm2)；

2)放入烘爐中，在90℃-100℃烘30分鐘；

3)在防潮瓶內(nèi)冷卻至室溫，用分析天平稱重W1(克)；

4)將厚雙面銅箔板浸入除油缸中，再浸入微蝕缸后取出，記錄浸入微蝕缸的時間記為t(分鐘)；

5)用水清洗后，于烘爐中90℃-100℃烘30分鐘；

6)在防潮瓶中冷卻至室溫，用分析天平稱重W2(克)；

7)計算：蝕銅速率(微米/分鐘)＝10000*(W1-W2)/(8.92*2*S*t)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，所述成膜步驟中，裸銅印制板的成膜厚度為0.2um-0.5um。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述一種裸銅印制板的有機助焊保護(hù)膜制作工藝，其特征在于，所述成膜步驟中，測量成膜厚度的方法為：

1)將經(jīng)過成膜處理的裸銅印制板放置于燒杯中

2)用移液管取15％的鹽酸液，放入燒杯，輕搖燒杯，三分鐘后將裸銅印制板拿出；

3)用5％的鹽酸校零，在751G分光光度計上，于269.1nm處測吸光度；

4)再以第(2)步驟準(zhǔn)備的15％的鹽酸液更換，讀取在170nm處的吸光度A；

5)計算：膜厚(微米)＝0.7*A。