[發明專利]放射線敏感性樹脂組合物、固化膜、固化膜的形成方法和顯示元件

有效

• 申請號: 201110159770.7
• 申請日: 2011-06-08
• 公開（公告）號: CN102364397A
• 公開（公告）日: 2012-02-29
• 發明（設計）人: 米田英司;西信弘;兒玉誠一郎;豬俁克巳
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/027
• 分類號: G03F7/027;G03F7/004;G03F7/00
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所 11216
• 代理人: 劉激揚

技術領域

本發明涉及優選作為層間絕緣膜、保護膜或分隔物等固化膜 形成材料的放射線敏感性樹脂組合物、由該組合物形成的固化膜、 該固化膜的形成方法和具有該固化膜的顯示元件。

背景技術

作為形成層間絕緣膜、分隔物、保護膜等的材料，廣泛使用 放射線敏感性樹脂組合物。作為該放射線敏感性樹脂組合物，公 開有例如含有由不飽和羧酸、含環氧基的不飽和化合物等構成的 共聚物的組合物(參見日本特開2001-354822號公報)。然而，作為 液晶顯示元件分隔物，為了提高表面硬度、達到實際商業上的要 求，需要在200℃以上的高溫下焙燒的工序。

另一方面，近年來為了提高對比度，使用溶解性優異的染料 的著色抗蝕劑逐步得到普及。通常，染料與顏料相比，耐熱性較 差，在200℃以上的焙燒工序中發現存在褪色等現象。因此，期望 通常需要在200℃以上的顯示器制造中的焙燒工序能實現低溫化。

鑒于上述事實，開發了即使在低溫焙燒下，也能固化的含有 聚酰亞胺前體的柔性顯示器用的門絕緣膜用涂布液的技術(參見 日本特開2009-4394號公報)。然而，該涂布液無法通過曝光顯影 形成圖案，因此不能形成微細的圖案。此外，由于固化反應進行 得不夠充分，因此所得固化膜除耐熱性、耐光性、耐試劑性以外， 透光率、平坦性、電壓保持率等均無法滿足。

因此，還考慮了通過添加用作環氧類材料的固化劑的胺化合 物，即使在低溫下也能進行交聯反應的方法。然而，在通常的胺 化合物的添加中，會導致與組合物中存在的環氧基隨時間而反應， 導致保存穩定性降低。

由于這樣的狀況，期望開發一種同時兼有保存穩定性和低溫 焙燒，且具有足夠的分辨率和放射線敏感度的放射線敏感性樹脂 組合物、以及作為固化膜的要求特性的耐熱性、耐光性、耐試劑 性、平坦性、電壓保持率等優異的固化膜。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2001-354822號公報

專利文獻2：日本特開2009-4394號公報

發明內容

本發明是鑒于上述事實而做出的，其目的是提供一種同時具 有保存穩定性和低溫焙燒，且具有足夠的分辨率和放射線敏感度 的放射線敏感性樹脂組合物、以及作為固化膜的要求特性的耐熱 性、耐光性、耐試劑性、透光率、平坦性、電壓保持率等優異的 固化膜，該固化膜的形成方法和具有該固化膜的顯示元件。

為了解決上述課題，本發明為如下的放射線敏感性樹脂組合 物，其含有：

[A]具有環氧基的化合物(以下，稱為“(A)化合物”)、

[B]具有乙烯性不飽和鍵的聚合性化合物(以下，稱為“[B]聚 合性化合物”)、

[C]放射線敏感性聚合引發劑(以下，稱為“[C]聚合引發劑”)， 和

[D]由下式(1)和式(2)表示的化合物構成的群組中選出的至少 一種(以下，稱為“[D]化合物”)。

(在式(1)中，R¹～R⁶各自獨立地為氫原子、吸電子性基團或氨 基。其中，R¹～R⁶中的至少一個是吸電子性基團，R¹～R⁶中的至少 一個是氨基，上述氨基的全部或部分氫原子可以用碳原子數為1～6 的烷基取代。

在式(2)中，R⁷～R¹⁶各自獨立地為氫原子、吸電子性基團或氨 基。其中，R⁷～R¹⁶中的至少一個是氨基，上述氨基的全部或部分 氫原子可以用碳原子數為2～6的烷基取代。A為單鍵、羰基、羰 基氧基、羰基亞甲基、亞磺?；⒒酋；?、亞甲基或碳原子數為 2～6的亞烷基。其中，上述亞甲基和亞烷基可以用氰基、鹵素原子 或氟代烷基取代。)