[發(fā)明專利]放射線敏感性樹脂組合物、固化膜、固化膜的形成方法和顯示元件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110159770.7
• 申請日: 2011-06-08
• 公開（公告）號: CN102364397A
• 公開（公告）日: 2012-02-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 米田英司;西信弘;兒玉誠一郎;豬俁克巳
• 申請（專利權(quán)）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/027
• 分類號: G03F7/027;G03F7/004;G03F7/00
• 代理公司: 北京三幸商標(biāo)專利事務(wù)所 11216
• 代理人: 劉激揚

1.一種放射線敏感性樹脂組合物，其含有

[A]具有環(huán)氧基的化合物、

[B]具有乙烯性不飽和鍵的聚合性化合物、

[C]放射線敏感性聚合引發(fā)劑，和

[D]由下式(1)和式(2)表示的化合物構(gòu)成的群組中選出的至少 一種，

在式(1)中，R¹～R⁶各自獨立地為氫原子、吸電子性基團(tuán)或氨 基，其中，R¹～R⁶中的至少一個是吸電子性基團(tuán)，R¹～R⁶中的至少 一個是氨基，上述氨基的全部或部分氫原子可以用碳原子數(shù)為1～6 的烷基取代，

在式(2)中，R⁷～R¹⁶各自獨立地為氫原子、吸電子性基團(tuán)或氨 基，其中，R⁷～R¹⁶中的至少一個是氨基，上述氨基的全部或部分 氫原子可以用碳原子數(shù)為2～6的烷基取代，A為單鍵、羰基、羰 基氧基、羰基亞甲基、亞磺酰基、磺酰基、亞甲基或碳原子數(shù)為 2～6的亞烷基，其中，上述亞甲基和亞烷基可以用氰基、鹵素原子 或氟代烷基取代。

2.如權(quán)利要求1所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中，[A] 化合物是共聚物。

3.如權(quán)利要求1或2所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中， [A]化合物還具有羧基。

4.如權(quán)利要求1或2所述的放射線敏感性樹脂組合物，其用 于作為層間絕緣膜、保護(hù)膜或分隔物的固化膜的形成。

5.一種固化膜的形成方法，其包括：

(1)在基板上形成如權(quán)利要求4所述的放射線敏感性樹脂組合 物涂膜的工序，

(2)對工序(1)中形成的涂膜的至少一部分照射放射線的工序，

(3)將工序(2)中照射了放射線的涂膜顯影的工序，和

(4)對工序(3)中顯影過的涂膜進(jìn)行焙燒的工序。

6.如權(quán)利要求5所述的固化膜的形成方法，其中，上述工序 (4)的焙燒溫度為200℃以下。

7.一種由權(quán)利要求4所述放射線敏感性樹脂組合物形成的作 為層間絕緣膜、保護(hù)膜或分隔物的固化膜。

8.一種具有如權(quán)利要求7所述固化膜的顯示元件。