[發(fā)明專利]晶片傳送裝置以及具有其的位置感應(yīng)系統(tǒng)和可視檢查系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110148080.1 | 申請日: | 2011-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN102263160A | 公開(公告)日: | 2011-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李暻植;金昌顯;林裁瑛 | 申請(專利權(quán))人: | 韓美半導(dǎo)體株式會社 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/677;H01L21/66;G01S17/06 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國;鐘強(qiáng) |
| 地址: | 韓國仁*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶片 傳送 裝置 以及 具有 位置 感應(yīng) 系統(tǒng) 可視 檢查 | ||
1.一種晶片傳送裝置,包括:
傳送帶,用于在晶片放在傳送帶上的狀態(tài)下傳送晶片;
一對驅(qū)動傳送帶的帶輪;和
抽吸組塊,設(shè)在傳送帶內(nèi)部空間中,用于將吸力施加到傳送帶內(nèi)表面。
2.如權(quán)利要求1所述的晶片傳送裝置,其中傳送帶水平設(shè)置,且抽吸組塊將吸力施加到傳送帶內(nèi)表面的上部。
3.如權(quán)利要求1所述的晶片傳送裝置,其中傳送帶包括第一傳送帶和第二傳送帶,且抽吸組塊包括分別設(shè)在第一傳送帶內(nèi)部空間中和第二傳送帶內(nèi)部空間中的第一抽吸組塊和第二抽吸組塊。
4.如權(quán)利要求3所述的晶片傳送裝置,其中第一傳送帶和第二傳送帶通過相同驅(qū)動電機(jī)驅(qū)動。
5.如權(quán)利要求4所述的晶片傳送裝置,還包括驅(qū)動軸,用于同時驅(qū)動第一傳送帶和第二傳送帶的帶輪。
6.如權(quán)利要求3所述的晶片傳送裝置,其中第一傳送帶和第二傳送帶之間的距離小于在垂直于晶片傳送方向的方向上的晶片寬度。
7.如權(quán)利要求1所述的晶片傳送裝置,其中抽吸組塊配置成長桿形式且在傳送帶的長度方向上設(shè)置在傳送帶的內(nèi)部空間中。
8.如權(quán)利要求7所述的晶片傳送裝置,其中抽吸組塊具有大于傳送帶寬度的上部寬度。
9.如權(quán)利要求1所述的晶片傳送裝置,其中抽吸組塊具有等于或者大于在晶片傳送方向上的晶片寬度兩倍的長度。
10.如權(quán)利要求1所述的晶片傳送裝置,其中抽吸組塊在其上表面的預(yù)定區(qū)域設(shè)有多個以預(yù)定間隔設(shè)置的抽吸孔。
11.如權(quán)利要求10所述的晶片傳送裝置,其中設(shè)在抽吸組塊上表面的至少一個抽吸孔配置成截面為橢圓或者長孔形式。
12.如權(quán)利要求11所述的晶片傳送裝置,其中配置成截面為橢圓或者長孔形式的至少一個抽吸孔設(shè)在垂直于傳送帶長度方向的方向上。
13.如權(quán)利要求10所述的晶片傳送裝置,其中預(yù)定區(qū)域具有等于或者大于在晶片傳送方向上的晶片寬度兩倍的長度。
14.如權(quán)利要求10所述的晶片傳送裝置,還包括限定在抽吸組塊中的至少一個主要流道、至少一個抽吸口以及多個支路流道,通過至少一個抽吸口將吸力施加到至少一個主要流道,以及通過多個支路流道使至少一個主要流道與抽吸孔連通。
15.如權(quán)利要求14所述的晶片傳送裝置,其中,在支路流道與至少一個主要流道連通的狀態(tài)下,該至少一個主要流道設(shè)置在水平方向上,而該支路流道設(shè)置在垂直方向上。
16.根據(jù)權(quán)利要求14的晶片傳送裝置,其中支路流道的數(shù)目等于抽吸孔的數(shù)目。
17.如權(quán)利要求14的晶片傳送裝置,其中至少一個主要流道包括多個主要流道,并且該主要流道在抽吸組塊的長度方向上排列成行。
18.如權(quán)利要求1所述的晶片傳送裝置,其中抽吸組塊具有對應(yīng)于每個帶輪的上部端高度的上部高度。
19.一種位置感應(yīng)系統(tǒng),包括:
傳送帶,用于在晶片放在傳送帶上的狀態(tài)下傳送晶片;
一對驅(qū)動傳送帶的帶輪;
抽吸組塊,設(shè)在傳送帶內(nèi)部空間中,用于將吸力施加到傳送帶的內(nèi)表面;和
激光傳感器,設(shè)在位于傳送帶外部的至少一個檢查點(diǎn)上方和/或下方,用于將激光照射到由傳送帶傳送的晶片的上表面和/或下表面,并感應(yīng)自晶片上表面和/或下表面反射的激光,以測量晶片上表面和/或下表面的相對位置。
20.如權(quán)利要求19所述的位置感應(yīng)系統(tǒng),其中傳送帶包括第一傳送帶和第二傳送帶,并且抽吸組塊包括分別設(shè)在第一傳送帶內(nèi)部空間中和第二傳送帶內(nèi)部空間中的第一抽吸組塊和第二抽吸組塊。
21.如權(quán)利要求20所述的位置感應(yīng)系統(tǒng),其中至少一個檢查點(diǎn)包括第一至第三檢查點(diǎn),其設(shè)在第一傳送帶和第二傳送帶之間,在第一傳送帶外部和第二傳送帶外部,該第一至第三檢查點(diǎn)位于第一傳送帶和第二傳送帶長度方向上的等分線上。
22.如權(quán)利要求21所述的位置感應(yīng)系統(tǒng),其中激光傳感器包括分別設(shè)在第一至第三檢查點(diǎn)上方和下方的上部激光傳感器和下部激光傳感器。
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