[發明專利]研磨平臺及研磨方法

有效

• 申請號: 201110147205.9
• 申請日: 2011-06-02
• 公開（公告）號: CN102275124A
• 公開（公告）日: 2011-12-14
• 發明（設計）人: 周潔;王磊;梁雙;牛雯雯
• 申請（專利權）人: 友達光電(蘇州)有限公司;友達光電股份有限公司
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00;B24D13/00
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 楊波

技術領域

本發明涉及研磨清洗技術，尤其涉及一種研磨平臺及研磨方法，以提升研磨效率。

背景技術

現有技術中，玻璃、光學膜片例如偏光片等材料在使用前通常需要進行研磨清洗。而現有的研磨平臺使用聚氨酯(polyurethane)等硬質材料作為研磨墊固定在承載臺上，長時間使用后會出現磨耗，時間久了出現磨耗的地方將無法與被研磨物充分接觸而導致研磨不盡。此外，在研磨的同時需要使用外界的噴水裝置進行噴水以進行清洗，并需要較好的控制噴水角度，然此噴水角度較難控制。

發明內容

本發明的目的之一是提供一種研磨平臺，以克服現有技術中存在的缺陷，提升研磨效率。

本發明的另一目的是提供一種研磨方法，以克服現有技術中存在的缺陷，提升研磨效率。

具體地，本發明實施例提供的研磨平臺包括承載臺與柔性研磨墊。柔性研磨墊固定在承載臺上；柔性研磨墊具有研磨表面，且研磨表面與承載臺之間形成有容置空間以容置清洗流體；研磨表面上設置有多個通孔，且這些通孔與容置空間相連通。

在本發明的實施例中，柔性研磨墊的材料可為硅膠(silicone)、橡膠(rubber)、鐵氟龍(teflon)和乳膠(latex)等中的至少一種。

在本發明的實施例中，研磨平臺還可包括安裝在承載臺上的流體輸送管道，且流體輸送管道與容置空間相連通以提供清洗流體。進一步地，流體輸送管道上可設單向閥，以防止容置空間內的清洗流體回流。

在本發明的實施例中，研磨平臺還可包括成對設置的支撐墻，而成對設置的支撐墻安裝在承載臺上，且每對支撐墻設置在柔性研磨墊的相對兩側以支撐柔性研磨墊。進一步地，成對設置的支撐墻的高度可調節；甚至，成對設置的支撐墻的間距也可調節。

在本發明的實施例中，柔性研磨墊的周緣固定在承載臺上以與承載臺共同圍成容置空間。又或者，柔性研磨墊單獨圍成容置空間后再固定在承載臺上。

本發明另一實施例提供的研磨方法，適于執行在包括承載臺與柔性研磨墊的研磨平臺上；其中，柔性研磨墊固定在承載臺上；柔性研磨墊具有研磨表面，且研磨表面與承載臺之間形成有容置空間；研磨表面上設置有與容置空間相連通的多個通孔。所述研磨方法包括步驟：提供清洗流體至容置空間內；提供被研磨物與研磨表面接觸；以及施加特定壓力在被研磨物上并使研磨平臺與被研磨物作相對運動，且此特定壓力使得容置空間內的清洗流體從通孔中流出以清洗被研磨物。

在本發明的實施例中，研磨方法還可包括步驟：在研磨平臺與被研磨物作相對運動的過程中，持續提供清洗流體至容置空間內，以使清洗流體保持充滿容置空間。

在本發明的實施例中，研磨平臺與被研磨物作相對運動例如包括線性往復運動或旋轉運動。

在本發明的實施例中，提供清洗流體至容置空間內的步驟例如包括提供氣態清洗流體至容置空間內；又或者，提供液態清洗流體至容置空間內，且液態清洗流體例如為純水或清潔液。

本發明實施例經由在研磨平臺上使用韌性、可變形材料的柔性研磨墊，能夠與被研磨物表面充分接觸，可克服現有技術中因研磨平臺長時間使用出現磨耗而無法與被研磨物充分接觸所導致的研磨不盡；并且在研磨平臺的柔性研磨墊與承載臺之間設置容置空間來提供清洗流體，并在柔性研磨墊的研磨表面打孔，通過控制施加在被研磨物上的壓力來控制清洗流體噴出量及研磨壓力，達到邊研磨邊清洗的目的。因此，本發明可有效提升研磨效率。

上述說明僅是本發明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發明的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，并且為了讓本發明的上述和其他目的、特征和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。

附圖說明

圖1繪示出相關本發明實施例的一種研磨平臺的俯視圖。

圖2繪示出圖1所示研磨平臺的局部剖視圖。

圖3繪示出相關本發明實施例的再一種研磨平臺的局部剖視圖。

圖4繪示出相關本發明實施例的另一種研磨平臺的局部剖視圖。

圖5繪示出圖2所示研磨平臺對被研磨物進行研磨清洗的狀態示意圖。

【主要元件符號說明】