[發(fā)明專(zhuān)利]蒸鍍裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110143654.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-05-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102808156A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 裴紹凱 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/32 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/32 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及鍍膜領(lǐng)域,尤其涉及一種蒸鍍裝置。
背景技術(shù)
具有相機(jī)模組的便攜式裝置,例如,手機(jī)、筆記本電腦等,越來(lái)越受到消費(fèi)者的青睞。為提升相機(jī)模組的光學(xué)性能,需要在透鏡表面鍍上多種鍍膜,如抗反射膜,濾光膜等。鍍膜均勻性直接影響透鏡的光學(xué)性能。因此,如何提高鍍膜均勻性是一個(gè)重要課題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,有必要提供一種能夠提高鍍膜均勻性的蒸鍍裝置。
一種蒸鍍裝置,其包括傘架,至少一個(gè)膜料盤(pán),及驅(qū)動(dòng)裝置。該傘架用于承載待鍍膜元件。該膜料盤(pán)與該傘架相對(duì)設(shè)置,用于盛放膜料。該驅(qū)動(dòng)裝置與該膜料盤(pán)相連接,用于驅(qū)動(dòng)該膜料盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)以改變?cè)撃ち系谋砻嫦鄬?duì)于該傘架的傾角。
本發(fā)明的蒸鍍裝置通過(guò)驅(qū)動(dòng)該膜料盤(pán)以改變?cè)撃ち系谋砻嫦鄬?duì)于該傘架的傾角,從而改變膜料粒子的發(fā)射角度,進(jìn)而提高鍍膜的均勻性。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明較佳實(shí)施方式的蒸鍍裝置的示意圖。
圖2是圖1的蒸鍍裝置的離子源、膜料盤(pán)、電子槍和驅(qū)動(dòng)裝置的立體示意圖。
圖3是圖1的蒸鍍裝置的離子源、膜料盤(pán)、電子槍和驅(qū)動(dòng)裝置的另一角度的立體示意圖。
圖4是圖1的IV區(qū)域的局部放大圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明
如下具體實(shí)施方式將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖及實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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