[發明專利]蒸鍍裝置無效
| 申請號: | 201110143654.6 | 申請日: | 2011-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN102808156A | 公開(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發明(設計)人: | 裴紹凱 | 申請(專利權)人: | 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/32 | 分類號: | C23C14/32 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 | ||
1.一種蒸鍍裝置,其包括:
傘架,該傘架用于承載待鍍膜元件;
至少一個膜料盤,該膜料盤與該傘架相對設置,用于盛放膜料;及
與該膜料盤相連接的驅動裝置,用于驅動該膜料盤轉動以改變該膜料的表面相對于該傘架的傾角。
2.如權利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,該蒸鍍裝置進一步包括至少一個平整蓋,該平整蓋通過驅動軸連接于該膜料盤朝向該傘架的表面,該驅動軸可以驅動該平整蓋沿著平行于驅動軸的方向運動,從而平整該容置槽內的膜料。
3.如權利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,該膜料盤朝向該傘架的表面開設有用于收容該膜料的容置槽。
4.如權利要求3所述的蒸鍍裝置,其特征在于,該蒸鍍裝置進一步包括至少一個平整蓋,該平整蓋通過驅動軸連接于該膜料盤朝向該傘架的表面,該驅動軸可以驅動該平整蓋繞該驅動軸旋轉,從而開啟或遮擋該容置槽內的膜料。
5.如權利要求3所述的蒸鍍裝置,其特征在于,該容置槽為圓柱形。
6.如權利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,該至少一個膜料盤包括多個膜料盤,該蒸鍍裝置進一步包括離子源,該多個膜料盤圍繞該離子源等間隔排布。
7.如權利要求6所述的蒸鍍裝置,其特征在于,每兩個相鄰的膜料盤之間設置有一個電子槍。
8.如權利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,該驅動裝置為液壓裝置。
9.如權利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,該膜料盤為扇形。
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