[發(fā)明專利]記錄介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110143531.2
• 申請日: 2011-05-31
• 公開（公告）號: CN102267301A
• 公開（公告）日: 2011-12-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 田中考利;淺川浩;永島齊;淺尾昌也
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: B41M5/50
• 分類號: B41M5/50
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 李帆

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及記錄介質(zhì)。

背景技術(shù)

作為調(diào)節(jié)基材(substrate)上具有墨接受層的記錄介質(zhì)的表面光澤度的方法，已知控制記錄介質(zhì)的表面粗糙度的方法。日本專利申請公開No.2000-355160記載了表面的中心線平均粗糙度(高度)為0.8μm-4.0μm并且60°鏡面光澤度為10％-30％的記錄介質(zhì)。日本專利申請公開No.2001-347748記載了表面的中心線平均粗糙度為0.4μm-2.5μm并且10點平均粗糙度為中心線平均粗糙度的5倍-20倍的記錄介質(zhì)。這些記錄介質(zhì)通過控制記錄介質(zhì)的表面粗糙度來抑制記錄圖像中的光澤不均勻和由于表面光澤而引起的眩目。

發(fā)明內(nèi)容

在記錄介質(zhì)上記錄圖像，然后以它們的記錄表面彼此接觸的方式保存記錄介質(zhì)時，有時可能發(fā)生這樣的現(xiàn)象：看起來似乎一個圖像的形狀發(fā)白地出現(xiàn)在另一圖像上(轉(zhuǎn)移不足(undertrapping))。認(rèn)為這歸因于水或水溶性有機溶劑在接觸的記錄介質(zhì)之間移動的事實。水或水溶性有機溶劑移動時，在它們已移動的部分與它們尚未移動或幾乎未移動的部分之間產(chǎn)生水或水溶性有機溶劑的存在量差。認(rèn)為這引起圖像上的轉(zhuǎn)移不足。

存在另一問題，即由于記錄介質(zhì)之間的接觸和摩擦，在記錄介質(zhì)的最外表面上產(chǎn)生劃痕(scratch)，并且能夠視認(rèn)的劃痕損害記錄介質(zhì)的外觀。

已對日本專利申請公開No.2000-355160和2001-347748中記載的記錄介質(zhì)熱心地進(jìn)行了研究。結(jié)果，記錄介質(zhì)的表面粗糙度小時，彼此接觸時這樣的記錄介質(zhì)之間的粘合高，因此存在產(chǎn)生轉(zhuǎn)移不足的傾向。此外，記錄介質(zhì)的最外表面的光澤度高，并且存在清楚地看到劃痕的傾向。

另一方面，為了解決這些問題而使記錄介質(zhì)的最外表面的表面粗糙度大時，有時墨可能聚集在記錄介質(zhì)的最外表面的凹凸形狀(unevenprofile)的凹部中以產(chǎn)生根據(jù)凹凸形狀的斑點圖案(mottledpattern)。僅通過控制記錄介質(zhì)的中心線平均粗糙度和10點平均粗糙度，難以抑制該根據(jù)凹凸形狀的斑點圖案。

因此，本發(fā)明的目的在于提供記錄介質(zhì)，其能夠抑制轉(zhuǎn)移不足的發(fā)生，降低記錄介質(zhì)的最外表面上劃痕的可見性并且抑制進(jìn)行記錄時斑點圖案的發(fā)生。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供記錄介質(zhì)，其包括基材和設(shè)置在該基材上的墨接受層，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS?B0601：2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度(arithmetic?average?roughness)Ra為1.1μm-2.5μm，并且該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS?B?0601：2001規(guī)定的粗糙度曲線(roughness?curve)的偏度(skewness)Rsk為0.1以下。

根據(jù)本發(fā)明，能夠提供記錄介質(zhì)，其能夠抑制轉(zhuǎn)移不足的發(fā)生，降低記錄介質(zhì)的最外表面上劃痕的可見性并且抑制進(jìn)行記錄時斑點圖案的發(fā)生。

由以下對示例性實施方案的說明，本發(fā)明進(jìn)一步的特征將變得清楚。

具體實施方式

現(xiàn)在對本發(fā)明的優(yōu)選實施方案詳細(xì)說明。順便提及，本發(fā)明不應(yīng)解釋為限制于這些說明。

記錄介質(zhì)

根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)是具有基材和設(shè)置在該基材上的墨接受層的記錄介質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)能夠用作，例如，用毯頭筆(felt-tip?pen)進(jìn)行記錄的記錄介質(zhì)或者通過噴墨記錄方法進(jìn)行記錄的記錄介質(zhì)。可將墨接受層設(shè)置在基材的一個表面或兩個表面上。此外，可在基材上設(shè)置一個以上的墨接受層。