[發(fā)明專利]記錄介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110143531.2 | 申請日： | 2011-05-31 |
| 公開（公告）號： | CN102267301A | 公開（公告）日： | 2011-12-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 田中考利;淺川浩;永島齊;淺尾昌也 | 申請（專利權(quán)）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | B41M5/50 | 分類號： | B41M5/50 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 記錄 介質(zhì) | ||
1.記錄介質(zhì)，包括基材和設(shè)置在該基材上的墨接受層，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS?B?0601：2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra為1.1μm-2.5μm，并且該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS?B?0601：2001規(guī)定的粗糙度曲線的偏度Rsk為0.1以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS?B?0601：2001規(guī)定的粗糙度曲線要素的平均長度RSm為0.65mm以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該基材為通過用樹脂涂布基料而得到的樹脂涂布基材。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS?B?0601：2001規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra為1.3μm-2.0μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該記錄介質(zhì)的最外表面的由JIS?B?0601：2001規(guī)定的粗糙度曲線的偏度Rsk為0.0以下。
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