[發明專利]2,3,3,3-四氟丙烯的合成方法無效
| 申請號: | 201110140405.1 | 申請日: | 2011-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN102267869A | 公開(公告)日: | 2011-12-07 |
| 發明(設計)人: | 韓春華;張永明;張恒;高自宏;陳越 | 申請(專利權)人: | 山東東岳高分子材料有限公司 |
| 主分類號: | C07C21/18 | 分類號: | C07C21/18;C07C17/25 |
| 代理公司: | 濟南金迪知識產權代理有限公司 37219 | 代理人: | 王緒銀 |
| 地址: | 256401*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 丙烯 合成 方法 | ||
技術領域
本發明涉及到一種制冷劑的合成方法,尤其涉及2,3,3,3-四氟丙烯(HFO-1234yf)的合成方法。?
背景技術
《蒙特利爾協議書》已經確定了HCFCs的淘汰時間表,目前HCFCs的替代品主要為HFCs及它們的混配物,包括R-32、R-134a、R-152a等。雖然HFCs的消耗臭氧潛能值(ODP)為0,但它有較高的溫室效應潛值(GWP),已被《京都議定書》列入溫室氣體的附件中。隨著溫室效應越來越嚴重,人們對環境問題也更加重視,從環保要求來看,HFCs遠非HCFCs的理想替代品。為滿足環保要求,新一代的制冷劑替代品在ODP值為0的基礎上正向低的GWP值方向發展,近年來人們發現2,3,3,3-四氟丙烯(HFO-1234yf)作為新一代制冷劑替代品,其零臭氧層破壞潛值(ODP)為0,且還具有低溫室效應潛值低的優點(GWP=4),具有很好的市場前景。?
國外HFO-1234yf的制備技術始于20世紀50年代,有杜邦和道化學公司的專利或文獻見于報道,杜邦的Marquis?david?M于1964年發表Preparation?of2,3,3,3-tetrafluopropene[p]CA690037.1964-07-07,所述方法主要為通過一氯甲烷和四氟乙烯為原料制備得到2,3,3,3-四氟丙烯,此過程溫度高達950℃,而轉化率也只有13%,所以不適合實現工業化。20世紀80年代霍尼韋爾公司以及大金公司也開始對HFO-1234yf制備研究,那時HFO-1234yf主要用作聚合單體和共聚單體。大金公開號為US73038947,介紹的基本方法為以氟代乙醇為原料(通式為RfCF2CH2OH)與二氯亞砜在氨基化合物為催化劑的作用下,在N,N-二甲基甲酰胺溶液中反應制備得到RfCF2CH2Cl,而后所得產物RfCF2CH2Cl與金屬鋅反應從而得到目標產物,由于反應過程中要用到有毒有機溶劑二氯亞砜,所以反應后很難處理所使用的有機溶劑。另外本專利中第二步反應產率很低。綜合考慮此方法難以實現工業化。?
21世紀特別是2004年后,HFO-1234yf作為一種有潛力的環保制冷劑,其制備技術進入蓬勃發展時期,杜邦、霍尼韋爾、大金等在HFO-1234yf的制備方面開發了多種合成路線,如杜邦以CX3CCl=CClY(X、Y選至F或Cl)為原料的制備路線和霍尼韋爾以CC12=CC1CH2C1或CF3CF2CH2OH為起始原料的制備路線,霍尼韋爾和大金都報道過以2,2,3,3-四氟丙醇為原料制備得到目標產物,其中日本大金公開的US4900874介紹了詳細的合成方法,基本思路是以RfCF2CH2OH反應原料(其中Rf為全氟烷基或氟代烷基,即甲基中的氫全部或部分被氟取代。還可用通式XCnF2nCH2OH,其中X為一個氫原子或一個氟原子,n為整數,取值優選在3-5之間)在裝有經鹵化鋅活化后的活性炭、硅膠、酸性粘土、氧化?鋁等填料的哈氏鎳鉻鐵合金容器中與氫氣在400-600℃下反應,接觸時間為1-10s、反應容器內壓力優選0.5-1.5kg/cm2。但是結果表明當X為氟原子時,即Rf為全氟烷基時,其轉化率很低,只有20%左右。所以不適合用于制備目標產物HFO-1234yf。在研究制備路線的同時,他們對HFO-1234yf的分離和提純方法也做了大量研究,如美國杜邦公司申請的公開號為CN101351428A、US2008308763的專利和霍尼韋爾申請的WO2008130919的專利介紹了從HFC-245cb、HF、HFO-1234yf中分離得到純的HFO-1234yf的方法,其基本思路為將三元混合物引入蒸餾塔,HFC-245cb先從塔釜底部回收,HF和HFO-1234yf形成二元共沸物或近共沸物從塔頂引出進入另一蒸餾塔,蒸餾分離塔底形成HF富集相,循環回流至前一蒸餾塔,塔頂形成HFO-1234yf富集相,再引入另一蒸餾塔,變壓蒸餾既得HFO-1234yf。?
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于山東東岳高分子材料有限公司,未經山東東岳高分子材料有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110140405.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:空氣調節系統及其通信方法
- 下一篇:相機的自動對焦發光裝置的校正方法





