[發明專利]離子注入系統及利用該系統的離子注入方法有效
| 申請號: | 201110120191.1 | 申請日: | 2011-05-06 |
| 公開(公告)號: | CN102456530A | 公開(公告)日: | 2012-05-16 |
| 發明(設計)人: | 金玄圭;金相洙 | 申請(專利權)人: | 三星移動顯示器株式會社 |
| 主分類號: | H01J37/317 | 分類號: | H01J37/317 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艷春 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 離子 注入 系統 利用 方法 | ||
技術領域
本發明涉及離子注入系統及利用該系統的離子注入方法。
背景技術
薄膜晶體管用作有機發光顯示裝置或液晶顯示裝置等平板顯示裝置的驅動電路。尤其,有源有機發光顯示裝置在基板上形成薄膜晶體管,在薄膜晶體管上形成有機電流發光器件。
目前,為形成薄膜晶體管等半導體元件,使用用于注入離子的離子注入裝置。離子注入裝置包括:在腔體內產生離子的離子源部、以及電極部等。離子源部是用于生成欲注入至基板或晶片的離子的部分,是將氣體離子化為等離子狀態的部分。
由電極部加速在離子源部生成的離子。通過對電極部施加預定的電壓,對從離子源部產生的離子進行加速、傳輸至并注入基板。
發明內容
本發明的主要目的是提供可向大面積基板注入離子、可節省費用的離子注入系統及利用該系統的離子注入方法。
根據本發明一實施例的離子注入系統,用于向基板注入離子,其特征在于,包括:多個離子注入組件,設置成一列,向所述基板注入所述離子;以及移送組件,提供讓所述基板在其內部移動的移動通道,使所述基板在所述移動通道內移動;所述離子注入組件向所述基板的部分區域注入所述離子,所述基板向所述移動通道內的第一方向移動,并被所述多個離子注入組件注入所述離子;所述基板向所述第一方向移動后,向與所述第一方向相反的第二方向移動,并被所述多個離子注入組件注入所述離子,所述移送組件包括:多個處理腔室,與所述離子注入組件分別連接,在其內部將釋放的所述離子注入于所述基板;返送腔室,變更所述基板的移送方向;支撐物,支撐所述基板;第一移送引導裝置,提供移動路徑,使得所述支撐物在所述腔室內部以所述第一方向移動;以及第二移送引導裝置,提供移動路徑,使得所述支撐物在所述腔室內部以所述第二方向移動。
本發明中,所述第一方向和所述第二方向可以不位于同一直線上,而相互平行。
本發明中,所述離子注入組件至所述第一方向之間的距離,可以不同于所述離子注入組件至所述第二方向之間的距離。
本發明中,注入于所述基板的離子總量為,所述基板向第一方向移動時被注入的所述離子的第一注入量以及向所述第二方向移動時可以被注入的所述離子的第二注入量之和。
本發明中,針對所述基板的所述第一注入量可以和所述基板的第二注入量相同。
本發明中,所述返送腔室可以將移送至所述第一移送引導裝置的所述支撐物移動至所述第二移送移動引導裝置。
本發明中,所述第一移送引導裝置將所述支撐物從所述第一腔室移送至所述返送腔室;所述第二移送引導裝置將所述支撐物可以從所述返送腔室移送至所述第一腔室。
本發明中,所述移送組件還包括:第一腔室,最初向所述移送組件內載入所述基板,可以向所述移送組件外部卸載所述基板。
本發明中,所述移送組件還包括:第二腔室,設置于所述第一腔室和所述處理腔室之間,從所述第一腔室移送所述基板,可以在其內部維持真空。
本發明中,還包括:機械臂,用于向所述移送組件供給所述基板,或者可以從所述移送組件取出所述基板。
本發明中,所述機械臂,朝所述移送組件的、連接有所述離子注入組件的側面,將所述基板投入至所述移送組件,或者可以從所述移送組件取出所述基板。
本發明中,所述機械臂,朝所述移送組件的、連接有所述離子注入組件的側面的相對面,將所述基板投入至所述移送組件,或者可以從所述移送組件取出所述基板。
本發明中,所述機械臂將所述基板傾斜地投入至所述移送組件,所述基板可以相對于地面呈銳角。
本發明中,還包括:法拉第部,設置于所述移送組件內,可以測量從所述離子注入組件釋放的離子量。
本發明中,在所述處理腔室的一側面形成有狹縫,可以用于分別從所述離子注入組件引入離子。
本發明中,所述多個離子注入組件,由所述第一離子注入組件和所述第二離子注入組件形成;所述多個處理腔室,由第一處理腔室和第二處理腔室形成;所述第一離子注入組件與所述第一處理腔室連接,向所述第一處理腔室內釋放所述離子;所述第二離子注入組件與所述第二處理腔室連接,可以向所述第二處理腔室內釋放所述離子。
本發明中,所述第一離子注入組件向所述基板的下側部照射離子;所述第二離子注入組件可以向所述基板的上側部照射離子。
本發明中,所述第一方向是從所述第一處理腔室向所述第二處理腔室的方向;所述第二方向可以是從所述第二處理腔室向所述第一處理腔室的方向。
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